半導(dǎo)體制造過(guò)程中最復(fù)雜也是最難的步驟就是光刻,成本能占到整個(gè)生產(chǎn)過(guò)程的1/3,光刻機(jī)也因此成為最重要的半導(dǎo)體制造裝備,沒(méi)有之一。目前最先進(jìn)的光刻機(jī)是荷蘭ASML公司生產(chǎn)的EUV光刻機(jī),每臺(tái)售價(jià)超過(guò)1億美元,而且供不應(yīng)求。
2019年,臺(tái)積電、三星都會(huì)開(kāi)始量產(chǎn)7nm EUV工藝,現(xiàn)有的EUV光刻機(jī)也差不多成熟了,雖然產(chǎn)量比起傳統(tǒng)的DUV光刻機(jī)還有所不如,不過(guò)已經(jīng)能夠穩(wěn)定量產(chǎn)了,7nm及明年的5nm節(jié)點(diǎn)上EUV光刻機(jī)都會(huì)是重點(diǎn)。
EUV光刻機(jī)未來(lái)還能怎么發(fā)展?2016年ASML公司宣布斥資20億美元收購(gòu)德國(guó)蔡司公司25%的股份,并投資數(shù)億美元合作研發(fā)新一代透鏡,而ASML這么大手筆投資光學(xué)鏡頭公司就是為了研發(fā)新一代EUV光刻機(jī)。
日前據(jù)韓媒報(bào)道稱(chēng),ASML公司正積極投資研發(fā)下一代EUV光刻機(jī),與現(xiàn)有的光刻機(jī)相比,二代EUV光刻機(jī)最大的變化就是High NA(高數(shù)值孔徑)透鏡,通過(guò)提升透鏡規(guī)格使得新一代光刻機(jī)的微縮分辨率、套準(zhǔn)精度兩大光刻機(jī)核心指標(biāo)提升70%,達(dá)到業(yè)界對(duì)幾何式芯片微縮的要求。
在這個(gè)問(wèn)題上,ASML去年10月份就宣布與IMEC比利時(shí)微電子中心合作研發(fā)新一代EUV光刻機(jī),目標(biāo)是將NA從0.33提升到0.5以上,而從光刻機(jī)的分辨率公式——光刻機(jī)分辨率=k1*λ/NA中可以看出,NA數(shù)字越大,光刻機(jī)分辨率越高,所以提高NA數(shù)值孔徑是下一代EUV光刻機(jī)的關(guān)鍵,畢竟現(xiàn)在EUV極紫外光已經(jīng)提升過(guò)一次了。
之前ASML公布的新一代EUV光刻機(jī)的量產(chǎn)時(shí)間是2024年,不過(guò)最新報(bào)道稱(chēng)下一代EUV光刻機(jī)是2025年量產(chǎn),這個(gè)時(shí)間上臺(tái)積電、三星都已經(jīng)量產(chǎn)3nm工藝了,甚至開(kāi)始進(jìn)軍2nm、1nm節(jié)點(diǎn)了。
-
半導(dǎo)體
+關(guān)注
關(guān)注
334文章
26637瀏覽量
212574 -
EUV光刻機(jī)
+關(guān)注
關(guān)注
2文章
128瀏覽量
15071
原文標(biāo)題:ASML研發(fā)第二代EUV光刻機(jī):性能將提升70%,2025年問(wèn)世
文章出處:【微信號(hào):icsmart,微信公眾號(hào):芯智訊】歡迎添加關(guān)注!文章轉(zhuǎn)載請(qǐng)注明出處。
發(fā)布評(píng)論請(qǐng)先 登錄
相關(guān)推薦
評(píng)論