AI 對算力提出了更高的要求,傳統(tǒng)的芯片面臨挑戰(zhàn),不過在量子計算和類腦計算獲得長足發(fā)展之前,芯片算力的提升依舊依靠現(xiàn)有技術(shù)的提升和創(chuàng)新。存內(nèi)計算芯片在 AI 時代中也獲得了不少關(guān)注,不過普渡大學的工程師開發(fā)的方法是從材料的角度進行創(chuàng)新,實現(xiàn)了芯片在計算的同時也可以存儲。研究人員稱,未來如果這種芯片的進一步改進將有利于類腦計算的發(fā)展。
計算機芯片使用兩個不同的組件來處理和存儲信息。如果工程師可以將兩種組件組合成一個或彼此相鄰放置,那么芯片上將有更多的空間,從芯片速度更快,性能更強大。
普渡大學(Purdue University)的工程師已經(jīng)開發(fā)出一種方法,將用于處理信息的數(shù)百萬個微型開關(guān)(通常稱為晶體管)也能在芯片上進行信息的存儲。
這種方法在《自然電子》上發(fā)表的一篇論文中進行了詳細介紹,它通過解決另一個問題來實現(xiàn)這一目標:將晶體管與比大多數(shù)計算機中使用的性能更高的存儲技術(shù)相結(jié)合,稱為鐵電性 RAM。
研究人員數(shù)十年來一直試圖將兩者整合在一起,但問題在于鐵電材料和硅(構(gòu)成晶體管的半導體材料)之間的界面。另外,鐵電 RAM 作為片上的獨立單元運行,從而限制了其大幅提升計算效率的潛力。
由普渡大學電氣與計算機工程教授 Peide Ye,Richard J. 和 Mary Jo Schwartz 帶領(lǐng)的團隊發(fā)現(xiàn)了如何克服硅與鐵電材料之間致命的敵對關(guān)系的方法。
“我們使用了具有鐵電特性的半導體。兩種材料就變成一種材料,這樣就不必擔心接口問題?!?Ye 說。
結(jié)果就成為了所謂的鐵電半導體場效應(yīng)晶體管,其構(gòu)建方式與當前計算機芯片上使用的晶體管相同。
α硒化銦材料不僅具有鐵電性能,而且還解決了“ 禁帶寬度 ” 通常充當絕緣體而不是半導體常規(guī)鐵電材料的問題,這意味著電流無法通過并且沒有計算發(fā)生。
α-硒化銦的禁帶寬度小得多,這使得這種材料成為半導體而不會失去鐵電性能。
普渡大學電氣和計算機工程博士后研究員 Mengwei Si 構(gòu)建并測試了該晶體管,發(fā)現(xiàn)其性能可與現(xiàn)有的鐵電場效應(yīng)晶體管相媲美,并表示通過一步優(yōu)化性能還會更好。普渡大學電氣與計算機工程助理教授 Sumeet Gupta,獲得博士學位的 Atanu Saha 對建模提供了支持。
Si 和 Ye 的團隊還與佐治亞理工學院的研究人員合作,將α-硒化銦建立在稱為鐵電隧道結(jié)的芯片空間中,工程師可以利用該空間來增強芯片的功能。該團隊在 12 月 9 日在 2019 IEEE 國際電子設(shè)備會議上介紹了這項研究工作。
過去,研究人員無法建立高性能的鐵電隧道結(jié),因為它的寬帶隙使材料太厚,無法通過電流。由于α-硒化銦的帶隙小得多,因此該材料的厚度僅為 10 納米,從而可以允許更多的電流流過。
更大的電流可以讓芯片的面積縮小至幾納米,從而使芯片的晶體管密度更高、更節(jié)能。Ye 補充表示,較薄的材料-甚至可以減小到原子的厚度,也意味著隧道結(jié)兩側(cè)的電極可以小得多,這對于構(gòu)建模擬人腦的電路非常有用。
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