中芯國(guó)際回復(fù)：公司14nm先進(jìn)工藝和成熟工藝均達(dá)到國(guó)際領(lǐng)先水平

6月7日晚間，中芯國(guó)際在上交所公布了對(duì)第一輪審核問(wèn)詢函的回復(fù)。此前中芯國(guó)際在招股說(shuō)明書披露，公司邏輯工藝技術(shù)平臺(tái)65/55nm及以下、0.13/0.11微米、0.18/0.15微米均為國(guó)際領(lǐng)先，成熟邏輯工藝技術(shù)平臺(tái)應(yīng)用領(lǐng)域相對(duì)重視安全、穩(wěn)定等因素，因此以其工藝水平、器件性能等指標(biāo)作為先進(jìn)程度衡量標(biāo)準(zhǔn)。此外，公司特色工藝技術(shù)平臺(tái)、配套服務(wù)技術(shù)均存在多項(xiàng)國(guó)際領(lǐng)先的核心技術(shù)。

問(wèn)詢函有一個(gè)關(guān)于公司核心技術(shù)先進(jìn)性的問(wèn)題，“請(qǐng)發(fā)行人說(shuō)明：結(jié)合與同行業(yè)可比公司的對(duì)比情況，分析上述技術(shù)認(rèn)定為“國(guó)際領(lǐng)先”的具體依據(jù)。“

中芯國(guó)際回復(fù)到，公司是全球領(lǐng)先的集成電路晶圓代工企業(yè)之一，也是中國(guó)大陸技術(shù)最先進(jìn)、規(guī)模最大、配套服務(wù)最完善、跨國(guó)經(jīng)營(yíng)的專業(yè)晶圓代工企業(yè)，主要為客戶提供0.35微米至14納米多種技術(shù)節(jié)點(diǎn)、不同工藝平臺(tái)的集成電路晶圓代工及配套服務(wù)。

在邏輯工藝技術(shù)平臺(tái)、特色工藝技術(shù)平臺(tái)、配套服務(wù)等方面達(dá)到國(guó)際領(lǐng)先水平，得到業(yè)內(nèi)客戶的廣泛認(rèn)可，獲得了良好的行業(yè)認(rèn)知度。2018年度，公司與近半數(shù)世界前50名知名集成電路設(shè)計(jì)公司和系統(tǒng)廠商開展了深度合作。

在工藝技術(shù)水平、器件性能、能耗功效及其他表征方面達(dá)到行業(yè)領(lǐng)先水平，公司部分技術(shù)認(rèn)定為“國(guó)際領(lǐng)先”的具體依據(jù)如下：

1、邏輯工藝技術(shù)平臺(tái)

在邏輯工藝領(lǐng)域，中芯國(guó)際成功開發(fā)了0.35微米至14納米多種技術(shù)節(jié)點(diǎn)。其中14納米先進(jìn)邏輯工藝和28納米、45/40納米、65/55納米、0.13/0.11微米、0.18/0.15微米等成熟邏輯工藝已達(dá)到國(guó)際領(lǐng)先水平。

在先進(jìn)邏輯工藝技術(shù)平臺(tái)方面，中芯國(guó)際是中國(guó)大陸第一家提供國(guó)際領(lǐng)先的14納米技術(shù)節(jié)點(diǎn)的晶圓代工企業(yè)。在全球范圍內(nèi)，目前僅有包括公司在內(nèi)的4家純晶圓代工廠有技術(shù)能力提供14nm技術(shù)節(jié)點(diǎn)。因此，公司先進(jìn)邏輯工藝技術(shù)平臺(tái)已達(dá)到國(guó)際領(lǐng)先水平。

在成熟邏輯工藝技術(shù)平臺(tái)方面，中芯國(guó)際28納米、45/40納米、65/55納米、0.13/0.11微米、0.18/0.15微米等成熟邏輯工藝技術(shù)平臺(tái)均為國(guó)際領(lǐng)先地位。

由于成熟邏輯工藝技術(shù)平臺(tái)應(yīng)用領(lǐng)域相對(duì)重視安全、穩(wěn)定等因素，因此以其工藝技術(shù)水平、器件性能等指標(biāo)作為先進(jìn)程度衡量標(biāo)準(zhǔn)。具體認(rèn)定依據(jù)如下表所示：

在特色工藝技術(shù)平臺(tái)方面，中芯國(guó)際成功開發(fā)了電源/模擬、高壓驅(qū)動(dòng)、嵌入式非揮發(fā)性存儲(chǔ)、非易失性存儲(chǔ)、混合信號(hào)/射頻、圖像傳感器等多種特色工藝平臺(tái)，其中電源/模擬技術(shù)平臺(tái)、高壓驅(qū)動(dòng)技術(shù)平臺(tái)已達(dá)到國(guó)際領(lǐng)先水平。具體認(rèn)定依據(jù)如下表所示：

2、配套服務(wù)

公司在提供配套服務(wù)過(guò)程中，所采用的光掩模工藝誤差修正技術(shù)和中段凸塊技術(shù)均達(dá)到國(guó)際領(lǐng)先水平，具體認(rèn)定依據(jù)如下表所示：

綜上，公司65/55nm及以下、0.13/0.11微米、0.18/0.15微米邏輯工藝技術(shù)平臺(tái)，電源/模擬技術(shù)平臺(tái)、高壓驅(qū)動(dòng)技術(shù)平臺(tái)等特色工藝平臺(tái)，光掩模工藝誤差修正技術(shù)、中段凸塊技術(shù)等配套服務(wù)技術(shù)已達(dá)到國(guó)際領(lǐng)先水平。