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解析GeTe在熱電領(lǐng)域的應(yīng)用

MEMS ? 來(lái)源:MEMS ? 作者:MEMS ? 2020-06-19 09:57 ? 次閱讀

近些年,GeTe因其獨(dú)特的性能,在熱電、相變開關(guān)、相變存儲(chǔ)、自旋器件等領(lǐng)域引起了人們的關(guān)注。GeTe半導(dǎo)體具有窄的光學(xué)帶隙,高的載流子遷移率,具備研制高性能紅外光電探測(cè)器的基礎(chǔ),然而關(guān)于GeTe在紅外光電領(lǐng)域的應(yīng)用鮮有報(bào)道。本文在分析物理性質(zhì)和常見應(yīng)用的基礎(chǔ)上,結(jié)合GeTe光電性質(zhì),提出其在紅外光電領(lǐng)域應(yīng)用的前景。

1碲化鍺的性質(zhì)

GeTe的應(yīng)用受其性質(zhì)的影響,而性質(zhì)又與其材料結(jié)構(gòu)息息相關(guān)。GeTe是一種窄帶隙半導(dǎo)體,具有兩種晶型結(jié)構(gòu),分別為α-GeTe和β-GeTe,其相圖和晶胞結(jié)構(gòu)如圖1所示。從圖1(a)的相圖可以看出,完全化學(xué)計(jì)量比的GeTe晶體,熔點(diǎn)為720℃,高溫時(shí)(大于447℃)為β-GeTe晶相;低溫時(shí)(低于400℃)為α-GeTe晶相;400℃~430℃范圍為α-GeTe相與β-GeTe相轉(zhuǎn)變區(qū)域。β-GeTe是一種面心立方結(jié)構(gòu)(稱巖鹽結(jié)構(gòu)),空間群為Fm 3 m,晶格參數(shù)a=6.024 ?,如圖1(b)所示。α-GeTe是一種斜方六面體結(jié)構(gòu)(稱菱形結(jié)構(gòu)),空間群為R 3 m,晶格參數(shù)a=b=8.343 ?和c=10.66 ?,α=β=90?,γ=120?,如圖1(c)所示。除了α-GeTe和β-GeTe晶型外,GeTe還具有非晶態(tài),當(dāng)GeTe從液態(tài)快速冷卻或在低溫沉積形成薄膜時(shí),通常為非晶態(tài)。

通過熱處理可以改變GeTe薄膜的結(jié)構(gòu),圖1(d)所示為在625 K的居里溫度下,GeTe自發(fā)從β-GeTe相轉(zhuǎn)變?yōu)闃O性α-GeTe相,主軸變形1.65°,體胞對(duì)角線的Ge原子和Te原子沿[111]方向輕微位移變形。通過退火,GeTe可以從非晶態(tài)轉(zhuǎn)變?yōu)榫B(tài);也可以通過融化淬火,使GeTe從晶態(tài)轉(zhuǎn)換為非晶態(tài),兩種形態(tài)轉(zhuǎn)變時(shí)內(nèi)部原子結(jié)構(gòu)如圖1(e)所示。熱處理工藝使GeTe可以在多相間相互轉(zhuǎn)換,但應(yīng)注意的是不恰當(dāng)?shù)臒崽幚砉に嚂?huì)導(dǎo)致GeTe化學(xué)計(jì)量比的變化;Rinaldi等人發(fā)現(xiàn),高溫下Te有從GeTe中脫離的趨勢(shì)。

此外,GeTe的載流子濃度高達(dá)1021 cm-3左右,自發(fā)呈現(xiàn)為p型半導(dǎo)體;究其機(jī)理,Levin等人認(rèn)為,GeTe常以富Te相存在,具有大量的空穴,故呈現(xiàn)p型,但該理論無(wú)法解釋富Ge的GeTe薄膜同樣呈現(xiàn)為p型的原因。

2碲化鍺的應(yīng)用

由于GeTe的組成和結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單,且具有α-GeTe和β-GeTe兩種相對(duì)穩(wěn)定的晶相,同時(shí)還可以在非晶態(tài)與晶態(tài)間可逆轉(zhuǎn)變,具有熱電、鐵電、快速相變等性質(zhì),從而倍受關(guān)注。圖2所示為GeTe由于這些性質(zhì),在多個(gè)領(lǐng)域的廣泛應(yīng)用。

應(yīng)用最為廣泛的是熱電領(lǐng)域,熱電材料是利用物質(zhì)中載流子和晶格振動(dòng)間的相互作用,將電能和熱能直接進(jìn)行轉(zhuǎn)換的功能材料,其原理如圖2(a)所示。熱電材料的熱電性能可以由熱電優(yōu)值ZT(公式(1))來(lái)評(píng)估:

解析GeTe在熱電領(lǐng)域的應(yīng)用

式中:σ、s、T、kel和klatt分別為是電導(dǎo)率、塞貝克系數(shù)、溫度、電子熱導(dǎo)率和晶格熱導(dǎo)率。熱電發(fā)電裝置利用其內(nèi)部載流子的運(yùn)動(dòng)直接實(shí)現(xiàn)熱能與電能的轉(zhuǎn)換,具有穩(wěn)定、可靠、重量輕、體積小、無(wú)污染、壽命長(zhǎng)、無(wú)機(jī)械磨損等優(yōu)點(diǎn)。

解析GeTe在熱電領(lǐng)域的應(yīng)用

圖1 GeTe相圖、結(jié)構(gòu)及相變:(a) GeTe相圖;(b) β-GeTe;(c) α-GeTe;(d) 鐵電相變;(e) 結(jié)晶非晶相變

相變材料結(jié)晶速度快,且光學(xué)反射率和電阻率在非晶態(tài)和晶態(tài)間存在很大的差異,可用作雙態(tài)領(lǐng)域(如:相變開關(guān)或相變存儲(chǔ))。相變開關(guān)的工作原理如圖2(b)所示,相變存儲(chǔ)器的工作原理如圖2(c)所示。

鐵電材料是指晶體在一定溫度范圍內(nèi)能夠自發(fā)極化的物質(zhì),其極化方向和極化強(qiáng)度可通過外電場(chǎng)調(diào)控。圖2(d)所示為GeTe初始極化方向?yàn)楸砻嫦蛲獾氖疽鈭D,通過調(diào)整外加電場(chǎng),可使其反轉(zhuǎn),能用于光學(xué)存儲(chǔ),對(duì)自旋編碼信息進(jìn)行操作可用于運(yùn)算,兩者結(jié)合則可用于自旋器件的研制。

此外,作為光電探測(cè)材料,GeTe的帶隙較小,常溫下載流子遷移率通常在55~70 cm2/Vs范圍,其窄的帶隙和高的載流子遷移率有利于發(fā)展紅外光電探測(cè)器,其作用原理如圖2(e)所示。Peng等人發(fā)現(xiàn)在GeTe中摻入Tm3+元素,具有較高的自發(fā)躍遷概率和大的發(fā)射截面,將其用于激光領(lǐng)域。下面結(jié)合GeTe的性質(zhì),詳細(xì)闡述其在這幾個(gè)領(lǐng)域的應(yīng)用。

2.1熱電器件

自1960年以來(lái),GeTe被認(rèn)為是一種主要的熱電材料,其載流子和熱輸運(yùn)性質(zhì)可以概括為:①GeTe中,因具有高濃度空穴載流子,目前只有p型半導(dǎo)體。②GeTe中,高濃度空穴載流子導(dǎo)致高熱導(dǎo)率(如圖3(a)所示)、高電導(dǎo)率和低塞貝克系數(shù)。熱導(dǎo)率高不利于獲得高的ZT值,電導(dǎo)率高有利于獲得高的ZT值。對(duì)于棱形相的GeTe,塞貝克系數(shù)隨溫度的升高非線性增加,在300~640 K時(shí),塞貝克系數(shù)大約為0.29μVK-2,在540~640 K時(shí),塞貝克系數(shù)大約為0.43 μVK-2。③圖3(b)顯示了GeTe在不同溫度下的功率因子。在約700 K時(shí),β-GeTe的功率因子為42 μWcm-1K-2,是碲化物中功率因子最大的熱電材料。④圖3(b)顯示了GeTe在不同溫度下的ZT值。純GeTe材料因具有較高的熱導(dǎo)率,最大ZT值約為0.8,其ZT值并不高。

雖然純GeTe的ZT值不高,熱電性能不是很好,但用Pb、Mn、Bi、Sb等元素進(jìn)行簡(jiǎn)單摻雜和替換,或在GeTe中添加PbTe、Bi2Te3、AgInTe2和In2Te3等化合物進(jìn)行合金化,對(duì)GeTe進(jìn)行結(jié)構(gòu)改性,在有效降低GeTe晶格熱導(dǎo)率的情況下,盡可能保持高電導(dǎo)率,會(huì)改善其熱電性能,使GeTe有望成為高效p型熱電材料中最有前景的基礎(chǔ)材料。

其中,研究最為廣泛的是GeTe與AgSbTe2合金化形成的固溶體(AgSbTe2)100-x(GeTe)x,被稱為TAGS。根據(jù)GeTe在TAGS中的摩爾分?jǐn)?shù)x,被命名為TAGS-x,又以TAGS-75、TAGS-80、TAGS-85和TAGS-90的性能優(yōu)異而倍受人們關(guān)注。在400℃~427℃范圍,當(dāng)x=80和85時(shí),TAGS具有極低的熱導(dǎo)率和較高的ZT值。此外,還可以通過微調(diào)TAGS的組成(尤其是Ag與Sb的比值)和摻雜Ce、Yb和Dy使TAGS的ZT增加。

解析GeTe在熱電領(lǐng)域的應(yīng)用

圖2 GeTe的應(yīng)用:(a) 熱電應(yīng)用示意圖;(b) 相變開關(guān)示意圖;(c) 相變存儲(chǔ)示意圖;(d) Ge Te(111)的Te端鐵電極化示意圖;(e) 光電應(yīng)用示意圖;(f) 其他應(yīng)用

解析GeTe在熱電領(lǐng)域的應(yīng)用

圖3 GeTe在熱電領(lǐng)域的應(yīng)用:基于GeTe的(a) 熱導(dǎo)率;(b) 功率因子;(c)熱電器件原理;(d) 熱電器件

另一種研究較多的固溶體是PbTe與GeTe合金化形成的GexPb1-xTe,簡(jiǎn)稱,GPT。在GPT中通過Pb的供體作用,降低載流子濃度,ZT值可高達(dá)到2~2.2,塞貝克系數(shù)可增加到~57 μW/K。同時(shí)在GPT合金中可以通過加入Bi2Te3來(lái)增強(qiáng)Pb在合金中的溶解度以獲得較高熱電性能。GPT雖然在機(jī)械穩(wěn)定性和熱電性能方面具有很高的潛力,但Pb的使用限制了GPT的大規(guī)模應(yīng)用。

此外,GeTe與Bi2Te3(簡(jiǎn)稱,GBT)、Sb2Te3(簡(jiǎn)稱,GST)、AgSbSe2(簡(jiǎn)稱,TAGSSe-x,x為GeTe在TAGSSe中的摩爾分?jǐn)?shù))和In2Te3的合金化也顯著提升了GeTe合金的ZT值。為便于比較,表1列出了近年來(lái)一些常見的基于GeTe的熱電材料的ZT值。

如圖2(a)所示,p型和n型熱電材料組成一對(duì)熱電支腳,熱電器件一般由一對(duì)或多對(duì)熱電支腳組成,p型和n型支腳的連接,按電串聯(lián)和熱并聯(lián)的方式結(jié)合在一起,其原理如圖3(c)所示。Levin等人認(rèn)為,熱電轉(zhuǎn)換效率很大程度上取決于模塊中熱電支腳對(duì)的數(shù)量、熱電材料的熱電性質(zhì)、接觸材料的熱電特性以及整個(gè)模塊的既定溫差。Singh等人,研制了具有n型PbTe和p型TAGS-85的熱電模塊,在410℃的溫差下,兩對(duì)熱電支腳組成的熱電器件獲得了輸出功率為1.2 W,效率為6%的性能,器件實(shí)物如圖3(d)所示。盡管熱電材料的研究在最近十年已經(jīng)取得了重要發(fā)展,應(yīng)用前景廣闊,但還存在熱電轉(zhuǎn)換效率低和應(yīng)用成本高等問題,在發(fā)電領(lǐng)域還無(wú)法取代傳統(tǒng)熱機(jī)。

2.2相變開關(guān)器件

由于通過激光脈沖、電脈沖和熱驅(qū)動(dòng)可實(shí)現(xiàn)GeTe晶態(tài)與非晶態(tài)之間的相變轉(zhuǎn)換,而且相變引起電阻率高達(dá)4~5個(gè)數(shù)量級(jí)的變化。所以,將GeTe集成到射頻電路中,當(dāng)GeTe處于低阻態(tài)(“開”態(tài))時(shí),圖4(b)左圖所示的輸入的射頻信號(hào)可以傳輸?shù)捷敵龆?;?dāng)GeTe處于高阻態(tài)(“關(guān)”態(tài))時(shí),圖4(b)右圖所示的輸入的射頻信號(hào)無(wú)法傳輸,這樣利用GeTe兩相間電阻的差異,就實(shí)現(xiàn)了對(duì)射頻信號(hào)的控制和選擇。加熱控制電路可根據(jù)圖4(a)所示加熱曲線,來(lái)改變GeTe薄膜的非晶態(tài)或晶態(tài)。圖中,紅色實(shí)線為熔化/淬火,將GeTe設(shè)置為無(wú)定形(關(guān))狀態(tài);藍(lán)色虛線為結(jié)晶,將GeTe薄膜設(shè)置為(開)狀態(tài)。

2010年Chua等人將GeTe作為射頻開關(guān)的相變材料,并認(rèn)為GeTe是晶態(tài)硫系化合物中電阻率最低的材料。在激光脈沖、電脈沖和熱驅(qū)動(dòng)等多種相變觸發(fā)手段中,Bastard等人使用70 mW的激光脈沖將無(wú)定形點(diǎn)引入晶態(tài)GeTe中,并認(rèn)為激光脈沖誘導(dǎo)具有功率傳輸過程簡(jiǎn)單和相變效率高的優(yōu)勢(shì)。熱驅(qū)動(dòng)觸發(fā)手段主要有直接加熱型和間接加熱型兩種,El-Hinnawy等人為了改善直接加熱型開關(guān)的缺陷,設(shè)計(jì)并制備了基于GeTe的間接加熱型相變開關(guān),并展開了持續(xù)研究。Rais-Zadeh等人2013年開始也報(bào)道了多篇基于GeTe的直接加熱和間接加熱型相變射頻開關(guān)。

表1 常見的基于GeTe的熱電材料的ZT值

解析GeTe在熱電領(lǐng)域的應(yīng)用

Rais-Zadeh等人通過圖4(c)和圖4(d)所示的TEM(transmission electron microscopy)圖,了解所設(shè)計(jì)的射頻開關(guān)中加熱電路和射頻電路的結(jié)構(gòu)和相對(duì)位置,并測(cè)試了在不同頻率下的接入損耗(如圖4(e))和隔離度(如圖4(f))。Rais-Zadeh等人認(rèn)為直接加熱型開關(guān)具有更高的功率效率,但直接加熱型開關(guān)的電阻率比有限;而間接加熱型開關(guān)雖然加熱效率低,但電阻率比更好,工藝更簡(jiǎn)單,只需要沉積一次GeTe薄膜。

解析GeTe在熱電領(lǐng)域的應(yīng)用

(a) GeTe薄膜的相變加熱曲線;(b) 在開態(tài)(左)和關(guān)態(tài)(右)下,射頻信號(hào)的通斷情況;直接加熱射頻開關(guān)的:(c) SEM圖及其(d) 局部放大圖;

解析GeTe在熱電領(lǐng)域的應(yīng)用

直接加熱射頻開關(guān)的:(c) SEM圖及其(d) 局部放大圖;

解析GeTe在熱電領(lǐng)域的應(yīng)用

直接加熱射頻開關(guān)在不同頻率下的:(e) 接入損耗;(f) 隔離度

圖4 GeTe在相變開關(guān)領(lǐng)域的應(yīng)用

2.3相變存儲(chǔ)器件

相變存儲(chǔ)器在非揮發(fā)性數(shù)據(jù)存儲(chǔ)領(lǐng)域的適用性取決于其獨(dú)特的物理性質(zhì):首先,非晶態(tài)和結(jié)晶態(tài)間的光學(xué)反射率和電阻率有很大的差異。其次,兩相間的相變可通過可控觸發(fā),并在納秒時(shí)間尺度上完成。

GeTe具有結(jié)晶溫度高、數(shù)據(jù)保存時(shí)間長(zhǎng)、非晶相穩(wěn)定性高、兩相間物理性質(zhì)差異大(如圖5(a)所示)、在電脈沖(如圖5(b)所示)或激光脈沖的作用下,兩相轉(zhuǎn)變迅速等眾多優(yōu)點(diǎn),在相變存儲(chǔ)領(lǐng)域具有巨大的應(yīng)用潛力。圖5(c)為傳統(tǒng)平面相變存儲(chǔ)單元的結(jié)構(gòu)示意圖,圖5(d)為Reset狀態(tài)下,相變存儲(chǔ)單元的TEM圖。從圖5(e)GeTe相變存儲(chǔ)單元的耐久性測(cè)試可以看出其耐久度達(dá)到107次。

GeTe基固溶體中,GeSbTe(簡(jiǎn)稱GST)系統(tǒng)的研究最為廣泛,例如:Raoux等人以Ge2Sb2Te5作為相變存儲(chǔ)材料,發(fā)現(xiàn)Ge2Sb2Te5在數(shù)十納秒內(nèi)結(jié)晶,結(jié)晶溫度(Tx)約為150℃。Ren等人以Ge50Se13Te37作為相變存儲(chǔ)材料,研究其耐久性和讀寫速度,發(fā)現(xiàn)其可擦寫次數(shù)超過4×104次(如圖5(f)所示),在208.5℃的環(huán)境下,存儲(chǔ)數(shù)據(jù)也可保持10年,讀寫速度在數(shù)百納秒量級(jí)。雖然,部分相變材料已成功應(yīng)用于商用生產(chǎn),但相變存儲(chǔ)材料的微觀結(jié)構(gòu)特征和快速相變的過程機(jī)理尚未完全清晰,這些機(jī)理的研究有利于進(jìn)一步提升相變存儲(chǔ)器件的性能。

2.4自旋器件

自旋電子學(xué)是進(jìn)一步提高電子設(shè)備計(jì)算能力的有效方法,其應(yīng)用將會(huì)給計(jì)算機(jī)領(lǐng)域帶來(lái)一場(chǎng)新的革命。自旋器件在性能上具有的優(yōu)勢(shì)有:①尺寸小,特征尺寸僅幾納米,遠(yuǎn)小于傳統(tǒng)半導(dǎo)體。②能耗低、發(fā)熱量小,電荷在材料中運(yùn)動(dòng)需要克服晶格散射等各種作用力,所需能量遠(yuǎn)大于改變電子自旋方向所需能量。③運(yùn)行速度快,電子自旋方向的改變,相較于電荷運(yùn)動(dòng)速度更快,具有更高邏輯處理速度。④非易失性,由于材料的磁性在斷電之后依然保持,自旋狀態(tài)與斷電之前相同。

實(shí)現(xiàn)對(duì)材料自旋的電學(xué)控制是自旋器件的應(yīng)用基礎(chǔ),對(duì)于GeTe而言,由于剩余的鐵電極化會(huì)破壞反轉(zhuǎn)對(duì)稱性,產(chǎn)生出巨大Rashba自旋分裂的塊狀帶,從而實(shí)現(xiàn)自旋的鐵電控制。這一特性可用于制備自旋器件,從而引起了人們對(duì)GeTe鐵電特性的研究。Fukuma等人,2001年通過往GeTe中摻入磁性離子,發(fā)現(xiàn)不僅薄膜的光學(xué)和電學(xué)特性會(huì)隨著相變表現(xiàn)出較大的差異,其磁性也隨著相變而改變。Chen等人2008年制得的GeMnTe稀磁半導(dǎo)體,將其居里溫度提高到180℃。

解析GeTe在熱電領(lǐng)域的應(yīng)用

圖5 GeTe在相變存儲(chǔ)領(lǐng)域的應(yīng)用:(a) 不同升溫速率下GeTe薄膜的電阻曲線;(b) 相變存儲(chǔ)單元在兩相轉(zhuǎn)變下的I-V曲線;(c) 傳統(tǒng)平面相變存儲(chǔ)單元;(d) Reset模式下的TEM圖像;(e)GeTe和(f) GST相變存儲(chǔ)單元的耐久性

Rinaldi等人通過鐵電圖案化研究GeTe薄膜中納米量級(jí)的自旋織構(gòu)的控制,器件具有純電力控制、可重構(gòu)的計(jì)算功能。圖6(a)和(b)為使用0.5 μm和1.5 μm的同心方塊圖案,在+7 V(-7 V)電壓下,GeTe薄膜(111)晶面Te端表面和Ge端表面各自極化圖像的變化;圖6(c)和(d)為相應(yīng)的原始極化狀態(tài)和鐵電磁滯回線。圖6(e)為使用插圖所示圖案,在+10 V(-10 V)電壓下,GeTe薄膜表面的極化狀態(tài)。雖然,GeTe自旋器件成為最近幾年的一個(gè)研究熱點(diǎn),但距離自旋器件的實(shí)現(xiàn)還有許多理論和實(shí)驗(yàn)上的工作尚未完成。

2.5紅外光電器件

紅外波段涵蓋了廣泛的應(yīng)用,包括光纖通信、安全、制藥和生物等多個(gè)領(lǐng)域,高性能、小尺寸、高集成度、高溫(室溫,甚至高于室溫)下工作是紅外探測(cè)器的重要發(fā)展方向。不同材料、不同類型的高性能紅外探測(cè)器一直是人們持續(xù)研究的熱點(diǎn),其中量子點(diǎn)探測(cè)器、二維材料光電探測(cè)器等低維探測(cè)器成為研究熱點(diǎn)。近年來(lái),硫系材料因其能隙較窄,非常適合于紅外探測(cè),因而倍受關(guān)注。

目前,人們對(duì)GeTe的研究主要集中在熱電、相變開關(guān)、相變存儲(chǔ)、自旋器件等領(lǐng)域,鮮見GeTe在紅外光電領(lǐng)域應(yīng)用的研究報(bào)道。GeTe帶隙是否在紅外波段,是GeTe能否應(yīng)用于紅外光電領(lǐng)域的基礎(chǔ)。Vadkhiya等人,計(jì)算的α-GeTe能帶結(jié)構(gòu)如圖7(a)所示,態(tài)密度(DOS,density of states)如圖7(b)所示。GeTe價(jià)帶主要由Te 5p軌道組成,而導(dǎo)帶主要由Ge 4p軌道組成,由于晶體中Te 5p軌道和Ge 4p軌道的重疊,使GeTe晶體趨向于窄帶隙半導(dǎo)體。由于對(duì)GeTe帶隙的研究針對(duì)不同的應(yīng)用領(lǐng)域,所建模型和實(shí)驗(yàn)條件也有所不同,所以,對(duì)GeTe帶隙的報(bào)道也存在很大差異??梢哉J(rèn)為α-GeTe的電學(xué)帶隙在0.4 eV~0.7 eV范圍,β-GeTe的電學(xué)帶隙在0.1 eV~0.4 eV,非晶態(tài)的光學(xué)帶隙為0.85 eV,晶態(tài)的光學(xué)帶隙為0.64 eV~0.95 eV。

解析GeTe在熱電領(lǐng)域的應(yīng)用

圖6 在+7 V(-7 V)電壓下,GeTe薄膜的(a)Te端和(b) Ge端表面的極化圖像;(c) Te端和(d)Ge端相應(yīng)的原始極化狀態(tài)和鐵電磁滯回線;(e) 使用插圖所示圖案,在+10 V(-10V)電壓下,GeTe薄膜的極化圖案

為了了解GeTe的光學(xué)帶隙,確定其能否應(yīng)用于紅外探測(cè)領(lǐng)域,本課題組根據(jù)實(shí)驗(yàn)得到圖7(c)所示的吸收光譜,利用Tauc公式,計(jì)算出GeTe薄膜如圖7(f)所示的光學(xué)帶隙。從圖中可以看出,非晶態(tài)時(shí)光學(xué)帶隙為0.85 eV,晶態(tài)時(shí)為0.77 eV,位于紅外波段。同時(shí)可以看出,GeTe的吸收系數(shù)大約為105 cm-1,結(jié)合GeTe薄膜的高載流子遷移率,有望制備出紅外光電探測(cè)器。根據(jù)Hoffman提出的晶界散射理論,在多晶薄膜中運(yùn)動(dòng)的電子在每個(gè)晶粒界面上都將受到散射,在λ(λ為電子在薄膜中運(yùn)動(dòng)的路程)中將受到(λ/D)次散射(D為晶粒尺寸),所以,使用GeTe薄膜制備紅外探測(cè)器時(shí),晶態(tài)薄膜載流子的平均自由程更大。

在此基礎(chǔ)上,本課題組研制的基于GeTe的光導(dǎo)型探測(cè)器如圖8(a)所示,根據(jù)圖8(c)和(d)可以看出GeTe在850 nm波段的響應(yīng)率可以達(dá)到102 A/W;探測(cè)率可以達(dá)到1013Jones。在近紅外波段,其響應(yīng)率和外量子效率隨波長(zhǎng)的變長(zhǎng)而降低。圖8(b)所示為,GeTe與其他硫族化合物探測(cè)器在近紅外波段的響應(yīng)率。從圖中可以看出,GeTe紅外探測(cè)器的響應(yīng)率雖并不具有明顯的優(yōu)勢(shì),但探測(cè)率也達(dá)到了1013 Jones。由于該研究只對(duì)基于GeTe的原型器件在大氣環(huán)境中進(jìn)行器件測(cè)試,未進(jìn)行器件優(yōu)化,可以認(rèn)為GeTe作為紅外探測(cè)器材料具有一定的研究?jī)r(jià)值。

解析GeTe在熱電領(lǐng)域的應(yīng)用

圖7 GeTe薄膜的能帶結(jié)構(gòu)及光學(xué)帶隙:(a) GeTe的能帶結(jié)構(gòu);(b) Te和Ge p軌道的部分態(tài)密度圖;GeTe薄膜退火前后(c)歸一化UV-Vis-NIR吸收光譜和(d) α2與hν的關(guān)系曲線

解析GeTe在熱電領(lǐng)域的應(yīng)用

圖8 GeTe基光電探測(cè)器:(a) 基于GeTe的光導(dǎo)型探測(cè)器結(jié)構(gòu);(b) 硫系材料紅外探測(cè)器的響應(yīng)率;GeTe探測(cè)器的(c) 響應(yīng)率和(d) 探測(cè)率;(e) GeTe在近紅外波段的響應(yīng)率和外量子效率

3結(jié)論及展望

GeTe薄膜是一種窄帶隙鐵電p型半導(dǎo)體,憑借其獨(dú)特性質(zhì),在熱電、相變存儲(chǔ)、相變開關(guān)、自旋器件等多個(gè)領(lǐng)域均有大的應(yīng)用前景。GeTe的光學(xué)帶隙在紅外波段,載流子遷移率為55~70 cm2/Vs,在近紅外波段具有較高的吸收系數(shù),與非晶態(tài)相比,晶態(tài)GeTe薄膜中載流子具有更大的平均自由程,有望應(yīng)用于紅外光電探測(cè)。目前關(guān)于GeTe的研究主要集中在熱電和存儲(chǔ)領(lǐng)域,在紅外光電領(lǐng)域的研究鮮有報(bào)道。因此,GeTe在紅外光電探測(cè)領(lǐng)域尚有很大的研究空間,是值得關(guān)注的一個(gè)研究方向。
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