0
  • 聊天消息
  • 系統(tǒng)消息
  • 評論與回復
登錄后你可以
  • 下載海量資料
  • 學習在線課程
  • 觀看技術(shù)視頻
  • 寫文章/發(fā)帖/加入社區(qū)
會員中心
創(chuàng)作中心

完善資料讓更多小伙伴認識你,還能領(lǐng)取20積分哦,立即完善>

3天內(nèi)不再提示

三星急需EUV光刻機趕產(chǎn)量_2022年或?qū)⒃儋徺I60部EUV設備

h1654155282.3538 ? 來源:易特創(chuàng)芯 ? 作者:易特創(chuàng)芯 ? 2020-10-24 09:37 ? 次閱讀

根據(jù)韓國媒體《BusinessKorea》的報道,日前三星電子副董事長李在镕前往荷蘭拜訪光刻機大廠ASML,其目的就是希望ASML的高層能答應提早交付三星已經(jīng)同意購買的極紫外光光刻設備(EUV)。

報道進一步指出,目前三星極需要透過EUV光刻設備來優(yōu)化旗下晶圓代工業(yè)務的先進制程,用以在市場上爭取客戶訂單,而進一步拉近與晶圓代工龍頭臺積電的差距。目前,ASML是當前全球唯一生產(chǎn)EUV設備的廠商,而EUV設備對于在晶圓代工中的先進制程,尤其是在當前最先進的5納米或未來更進一步的半導體制程中至關(guān)重要。而三星目前極需要將這些EUV設備安裝于三星正在建設的韓國平澤2號工廠的新晶圓代工產(chǎn)線,以及正在擴建的韓國華城V1產(chǎn)線上。

據(jù)了解,三星電子已經(jīng)于2020年5月份,在韓國平澤的2號工廠中開始設置晶圓代工的產(chǎn)線,該公司計劃在該條新晶圓代工產(chǎn)線上投資約10萬億韓元(約88億美元),并預計于2021年下半年開始全面量產(chǎn)。至于,在華城工廠內(nèi)的V1產(chǎn)線,則已經(jīng)于2019年投入運營,該產(chǎn)線專門以EUV技術(shù)來協(xié)助量產(chǎn)7納米制程的芯片。目前該產(chǎn)線正在擴產(chǎn)中,預計未來將投入5納米和5納米以下更先進制程的芯片生產(chǎn)。對此,三星也計劃到2020年底,將華城V1產(chǎn)線的晶圓月產(chǎn)能提升至2萬片的規(guī)模。

就因為三星加緊對晶圓代工的先進制程擴產(chǎn),因此確保EUV光刻設備能夠確實裝機,是目前三星最緊迫的任務。如果EUV設備的裝機時程被延后,則三星希望藉由EUV設備來優(yōu)化先進制程,進一步獲得全球半導體客戶青睞而取得訂單的機會,則可能會拱手讓給了競爭對手臺積電。

以目前來說,三星目前已經(jīng)開始營運的有10部EUV設備,另外還已經(jīng)在2020年向ASML下單訂購了約20部的EUV。但反觀臺積電則更是來勢洶洶,目前不僅已經(jīng)營運20部以上的EUV設備,還宣布到2022年時將再購買60部EUV設備。這情況也讓李在镕更加心急,不得不飛往荷蘭與ASML高層進行協(xié)商。
責任編輯人:CC

聲明:本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場。文章及其配圖僅供工程師學習之用,如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問題,請聯(lián)系本站處理。 舉報投訴
  • 三星電子
    +關(guān)注

    關(guān)注

    34

    文章

    15832

    瀏覽量

    180815
  • EUV光刻機
    +關(guān)注

    關(guān)注

    2

    文章

    128

    瀏覽量

    15075
收藏 人收藏

    評論

    相關(guān)推薦

    日本與英特爾合建半導體研發(fā)中心,配備EUV光刻機

    本官方研究機構(gòu)在日本設立先進半導體研發(fā)中心,以提振日本半導體設備制造與材料產(chǎn)業(yè)。 據(jù)介紹,這座新的研發(fā)中心將在未來3到5落成,擬配備極紫外光(EUV光刻
    的頭像 發(fā)表于 09-05 10:57 ?231次閱讀

    日本大學研發(fā)出新極紫外(EUV)光刻技術(shù)

    近日,日本沖繩科學技術(shù)大學院大學(OIST)發(fā)布了一項重大研究報告,宣布該校成功研發(fā)出一種突破性的極紫外(EUV光刻技術(shù)。這一創(chuàng)新技術(shù)超越了當前半導體制造業(yè)的標準界限,其設計的光刻設備
    的頭像 發(fā)表于 08-03 12:45 ?745次閱讀

    ASML擬于2030推出Hyper-NA EUV光刻機,芯片密度限制縮小

    ASML再度宣布新光刻機計劃。據(jù)報道,ASML預計2030推出的Hyper-NA極紫外光EUV),縮小最高電晶體密度芯片的設計限制。
    的頭像 發(fā)表于 06-18 09:57 ?395次閱讀

    今日看點丨ASML今年向臺積電、三星和英特爾交付High-NA EUV;理想 L9 出事故司機質(zhì)疑 LCC,產(chǎn)品經(jīng)理回應

    1. ASML 今年向臺積電、三星和英特爾交付High-NA EUV ? 根據(jù)報道,芯片制造設備商ASML今年向臺積電、英特爾、
    發(fā)表于 06-06 11:09 ?787次閱讀

    Rapidus對首代工藝中0.33NA EUV解決方案表示滿意,未采用高NA EUV光刻機

    在全球四大先進制程代工巨頭(包括臺積電、三星電子、英特爾以及Rapidus)中,只有英特爾明確表示將使用High NA EUV光刻機進行大規(guī)模生產(chǎn)。
    的頭像 發(fā)表于 05-27 14:37 ?547次閱讀

    臺積電A16制程采用EUV光刻機,2026下半年量產(chǎn)

    據(jù)臺灣業(yè)內(nèi)人士透露,臺積電并未為A16制程配備高數(shù)值孔徑(High-NA)EUV光刻機,而選擇利用現(xiàn)有的EUV光刻機進行生產(chǎn)。相較之下,英特爾和三星
    的頭像 發(fā)表于 05-17 17:21 ?809次閱讀

    ASML發(fā)貨第二臺High NA EUV光刻機,已成功印刷10nm線寬圖案

    ASML公司近日宣布發(fā)貨了第二臺High NA EUV光刻機,并且已成功印刷出10納米線寬圖案,這一重大突破標志著半導體制造領(lǐng)域的技術(shù)革新向前邁進了一大步。
    的頭像 發(fā)表于 04-29 10:44 ?721次閱讀

    英特爾突破技術(shù)壁壘:首臺商用High NA EUV光刻機成功組裝

    英特爾的研發(fā)團隊正致力于對這臺先進的ASML TWINSCAN EXE:5000 High NA EUV光刻機進行細致的校準工作,以確保其能夠順利融入未來的生產(chǎn)線。
    的頭像 發(fā)表于 04-22 15:52 ?822次閱讀

    光刻機的發(fā)展歷程及工藝流程

    光刻機經(jīng)歷了5代產(chǎn)品發(fā)展,每次改進和創(chuàng)新都顯著提升了光刻機所能實現(xiàn)的最小工藝節(jié)點。按照使用光源依次從g-line、i-line發(fā)展到KrF、ArF和EUV;按照工作原理依次從接觸接近式光刻機
    發(fā)表于 03-21 11:31 ?5397次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻機</b>的發(fā)展歷程及工藝流程

    ASML 首臺新款 EUV 光刻機 Twinscan NXE:3800E 完成安裝

    EUV 光刻機持續(xù)更新升級,未來目標在 2025 推出 NXE:4000F 機型。 上兩代 NXE 系列機型 3400C 和 3600D 分別適合 7~5、5~3 納米節(jié)點生產(chǎn),德媒 ComputerBase 因此預測 38
    的頭像 發(fā)表于 03-14 08:42 ?473次閱讀
    ASML 首臺新款 <b class='flag-5'>EUV</b> <b class='flag-5'>光刻機</b> Twinscan NXE:3800E 完成安裝

    三星清空ASML股份,11盈利超16倍

    根據(jù)資料顯示,在2012,為了支持ASML EUV光刻機的研發(fā)與商用,并獲得EUV光刻機的優(yōu)先供應,在2012
    的頭像 發(fā)表于 02-23 17:27 ?923次閱讀

    三星D1a nm LPDDR5X器件的EUV光刻工藝

    三星D1a nm LPDDR5X器件的EUV光刻工藝
    的頭像 發(fā)表于 11-23 18:13 ?930次閱讀
    <b class='flag-5'>三星</b>D1a nm LPDDR5X器件的<b class='flag-5'>EUV</b><b class='flag-5'>光刻</b>工藝

    三星希望進口更多ASML EUV***,5內(nèi)新增50臺

    EUV曝光是先進制程芯片制造中最重要的部分,占據(jù)總時間、總成本的一半以上。由于這種光刻機極為復雜,因此ASML每年只能制造約60臺,而全球5家芯片制造商都依賴ASML的EUV
    的頭像 發(fā)表于 11-22 16:46 ?673次閱讀

    消息稱三星投資10萬億韓元購買***

    三星電子增加購買EUV光刻設備的計劃而言,半導體領(lǐng)域的分析師也持有積極的態(tài)度。來自祥明大學的半導體工程教授表示:“
    的頭像 發(fā)表于 11-15 15:29 ?289次閱讀
    消息稱<b class='flag-5'>三星</b><b class='flag-5'>將</b>投資10萬億韓元<b class='flag-5'>購買</b>***

    今日看點丨驍龍 7 Gen 3 測試版規(guī)格曝光;消息稱三星投資 10 萬億韓元用于半導體設備,大量采購 ASML EUV

    1. 消息稱三星投資 10 萬億韓元用于半導體設備,大量采購 ASML EUV 光刻機 ? 據(jù)報道稱,
    發(fā)表于 11-15 09:59 ?812次閱讀