根據(jù)韓國媒體《BusinessKorea》的報道,日前三星電子副董事長李在镕前往荷蘭拜訪光刻機大廠ASML,其目的就是希望ASML的高層能答應提早交付三星已經(jīng)同意購買的極紫外光光刻設備(EUV)。
報道進一步指出,目前三星極需要透過EUV光刻設備來優(yōu)化旗下晶圓代工業(yè)務的先進制程,用以在市場上爭取客戶訂單,而進一步拉近與晶圓代工龍頭臺積電的差距。目前,ASML是當前全球唯一生產(chǎn)EUV設備的廠商,而EUV設備對于在晶圓代工中的先進制程,尤其是在當前最先進的5納米或未來更進一步的半導體制程中至關(guān)重要。而三星目前極需要將這些EUV設備安裝于三星正在建設的韓國平澤2號工廠的新晶圓代工產(chǎn)線,以及正在擴建的韓國華城V1產(chǎn)線上。
據(jù)了解,三星電子已經(jīng)于2020年5月份,在韓國平澤的2號工廠中開始設置晶圓代工的產(chǎn)線,該公司計劃在該條新晶圓代工產(chǎn)線上投資約10萬億韓元(約88億美元),并預計于2021年下半年開始全面量產(chǎn)。至于,在華城工廠內(nèi)的V1產(chǎn)線,則已經(jīng)于2019年投入運營,該產(chǎn)線專門以EUV技術(shù)來協(xié)助量產(chǎn)7納米制程的芯片。目前該產(chǎn)線正在擴產(chǎn)中,預計未來將投入5納米和5納米以下更先進制程的芯片生產(chǎn)。對此,三星也計劃到2020年底,將華城V1產(chǎn)線的晶圓月產(chǎn)能提升至2萬片的規(guī)模。
就因為三星加緊對晶圓代工的先進制程擴產(chǎn),因此確保EUV光刻設備能夠確實裝機,是目前三星最緊迫的任務。如果EUV設備的裝機時程被延后,則三星希望藉由EUV設備來優(yōu)化先進制程,進一步獲得全球半導體客戶青睞而取得訂單的機會,則可能會拱手讓給了競爭對手臺積電。
以目前來說,三星目前已經(jīng)開始營運的有10部EUV設備,另外還已經(jīng)在2020年向ASML下單訂購了約20部的EUV。但反觀臺積電則更是來勢洶洶,目前不僅已經(jīng)營運20部以上的EUV設備,還宣布到2022年時將再購買60部EUV設備。這情況也讓李在镕更加心急,不得不飛往荷蘭與ASML高層進行協(xié)商。
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