ASML承諾對向中國出口集成電路光刻機持開放態(tài)度

11月5日，世界***巨頭荷蘭阿斯麥ASML亮相第三屆進博會。作為全球唯一能生產(chǎn)EUV（極紫外光）***的企業(yè)，由于ASML目前仍不能向中國出口EUV***，所以此次展示的是其DUV（深紫外光）***。據(jù)悉，該產(chǎn)品可生產(chǎn)7nm及以上制程芯片。

ASML此次也帶來了其整體光刻解決方案，包括先進控制能力的***臺計算光刻和測量通過建模、仿真、分析等技術，讓邊緣定位精度不斷提高。

ASML中國區(qū)總裁沈波接受媒體采訪時表示，該公司對向中國出口集成電路***持開放態(tài)度，對全球客戶均一視同仁，在法律法規(guī)框架下，都將全力支持。

沈波透露，自30年前進入中國市場以來，ASML已提供了全面的技術和能力來滿足中國客戶的需求。目前在中國一共為客戶提供了700多臺裝機。在遵守法律法規(guī)的同時，ASML全力支持客戶和中國集成電路行業(yè)的發(fā)展。

被問及有沒有向中國出口EUV***的打算，他表示，EUV***還在等荷蘭政府的出口許可證。ASML必須要在遵守法律法規(guī)的前提下進行***出口。“但我們對向中國出口***是保持很開放態(tài)度的，我們對全球客戶都一視同仁，只要是我們能夠提供的技術和設備，我們都會全力支持。”

據(jù)了解，目前，市場上***主要分為兩種，一種是DUV光源，另外一種是EUV光源。后者相比前者精度更高，但價格也更貴，而且目前全球只有荷蘭ASML有能力生產(chǎn)EUV***，而且一年產(chǎn)量還很有限。EUV***售價在1.12億歐元左右，約合人民幣將近10億。而DUV***價值則是在6億左右，便宜了40%。

EUV***因為光源是高能紫外線的緣故，一次曝光就可以實現(xiàn)芯片制造，生產(chǎn)效率更高，良品率也遠高于DUV***，這為芯片制造商節(jié)省了許多的生產(chǎn)成本，也相當于變相提高產(chǎn)能。

相比之下，DUV***生產(chǎn)7nm工藝芯片步驟繁瑣，液浸式DUV***需要多次曝光才能達到7nm效果，而每一次曝光都會使產(chǎn)品生產(chǎn)成本大幅提升，良品率也會快速下降。

據(jù)悉，ASML目前最先進的EUV（極紫外光）***可生產(chǎn)5nm芯片，iPhone 12所搭載的A14芯片也需要在ASML EUV***支持下生產(chǎn)。

深紫外光（DUV），KrF 準分子激光：248 nm， ArF 準分子激光：193 nm；極紫外光（EUV），10 ~ 15 nm
責編AJX