中芯國際將針對 EUV 光刻設(shè)備尋求與ASML進行談判

據(jù)報道，業(yè)內(nèi)觀察人士稱，在新任副董事長蔣尚義的幫助下，中國芯片巨頭中芯國際將尋求與荷蘭半導(dǎo)體設(shè)備公司阿斯麥（ASML）就 EUV 光刻設(shè)備進行談判。

報道稱，中芯國際一直難以從阿斯麥獲得 EUV 光刻設(shè)備，盡管阿斯麥在法律上不受某些約束條件的影響，但仍存顧慮。

但據(jù)業(yè)內(nèi)觀察人士稱，在新任副董事長蔣尚義的幫助下，中芯國際將針對 EUV 光刻設(shè)備尋求與阿斯麥進行談判。

本周二晚，中芯國際發(fā)布公告稱，蔣尚義獲委任為董事會副董事長、第二類執(zhí)行董事及戰(zhàn)略委員會成員，自 2020 年 12 月 15 日起生效。

EUV 光刻（即極紫外光刻）利用波長非常短的光，在硅片上形成數(shù)十億個微小結(jié)構(gòu)，構(gòu)成一個芯片。與老式光刻機相比，EUV 設(shè)備可以生產(chǎn)更小、更快、更強大的芯片。

報道稱，中芯國際計劃利用 EUV 光刻機器，來生產(chǎn)基于 7 納米以下制程技術(shù)的芯片產(chǎn)品。

近日有媒體報道稱，中芯國際已經(jīng)從 20nm 工藝制程，一直攻克到了 3nm 工藝制程，唯一缺的就是 EUV 光刻機。有了 EUV 光刻機，中芯國際也能進行 3nm 芯片的量產(chǎn)。

昨日美國股市收盤時，阿斯麥股價收于 477.30 美元，上漲 1.2%。今日，中芯國際股價收于 55.02 元，下滑 1.77%。

責任編輯：PSY