傳中芯國(guó)際有望得到ASML的EUV光刻機(jī)

據(jù)報(bào)道，業(yè)內(nèi)觀察人士稱(chēng)，在新任副董事長(zhǎng)蔣尚義的幫助下，中國(guó)芯片巨頭中芯國(guó)際將尋求與荷蘭半導(dǎo)體設(shè)備公司阿斯麥（ASML）就EUV光刻設(shè)備進(jìn)行談判。

報(bào)道稱(chēng)，中芯國(guó)際一直難以從阿斯麥獲得EUV光刻設(shè)備，盡管阿斯麥在法律上不受某些約束條件的影響，但仍存顧慮。

但據(jù)業(yè)內(nèi)觀察人士稱(chēng)，在新任副董事長(zhǎng)蔣尚義的幫助下，中芯國(guó)際將針對(duì)EUV光刻設(shè)備尋求與阿斯麥進(jìn)行談判。

本周二晚，中芯國(guó)際發(fā)布公告稱(chēng)，蔣尚義獲委任為董事會(huì)副董事長(zhǎng)、第二類(lèi)執(zhí)行董事及戰(zhàn)略委員會(huì)成員，自2020年12月15日起生效。

EUV光刻（即極紫外光刻）利用波長(zhǎng)非常短的光，在硅片上形成數(shù)十億個(gè)微小結(jié)構(gòu)，構(gòu)成一個(gè)芯片。與老式光刻機(jī)相比，EUV設(shè)備可以生產(chǎn)更小、更快、更強(qiáng)大的芯片。

報(bào)道稱(chēng)，中芯國(guó)際計(jì)劃利用EUV光刻機(jī)器，來(lái)生產(chǎn)基于7納米以下制程技術(shù)的芯片產(chǎn)品。

近日有媒體報(bào)道稱(chēng)，中芯國(guó)際已經(jīng)從20nm工藝制程，一直攻克到了3nm工藝制程，唯一缺的就是EUV光刻機(jī)。有了EUV光刻機(jī)，中芯國(guó)際也能進(jìn)行3nm芯片的量產(chǎn)。

昨日美國(guó)股市收盤(pán)時(shí)，阿斯麥股價(jià)收于477.30美元，上漲1.2%。今日，中芯國(guó)際股價(jià)收于55.02元，下滑1.77%。
責(zé)編AJX