中芯國(guó)際：美國(guó)新規(guī)對(duì)10nm及以下先進(jìn)工藝研發(fā)有重大不利影響

中芯國(guó)際 12 月 20 日晚間發(fā)布說(shuō)明公告稱(chēng)，公司被列入 “實(shí)體清單”后，根據(jù)美國(guó)相關(guān)法律法規(guī)的規(guī)定，針對(duì)適用于美國(guó)《出口管制條例》的產(chǎn)品或技術(shù)，供應(yīng)商須獲得美國(guó)商務(wù)部的出口許可才能向公司供應(yīng)；對(duì)用于 10nm 及以下技術(shù)節(jié)點(diǎn)（包括極紫外光技術(shù)）的產(chǎn)品或技術(shù)，美國(guó)商務(wù)部會(huì)采取 “推定拒絕”（Presumption of Denial）的審批政策進(jìn)行審核；同時(shí)公司為部分特殊客戶(hù)提供代工服務(wù)也可能受到一定限制。

在說(shuō)明公告中，中芯國(guó)際表示，經(jīng)初步評(píng)估，該事項(xiàng)對(duì)公司短期內(nèi)運(yùn)營(yíng)及財(cái)務(wù)狀況無(wú)重大不利影響，對(duì) 10nm 及以下先進(jìn)工藝的研發(fā)及產(chǎn)能建設(shè)有重大不利影響。公司將持續(xù)與美國(guó)政府相關(guān)部門(mén)進(jìn)行溝通，并視情況采取一切可行措施，積極尋求解決方案，力爭(zhēng)將不利影響降到最低。

值得一提的是，有媒體報(bào)道稱(chēng)，在中芯國(guó)際新任副董事長(zhǎng)蔣尚義的幫助下，中芯國(guó)際將尋求與荷蘭半導(dǎo)體設(shè)備公司阿斯麥（ASML）就 EUV 光刻設(shè)備進(jìn)行談判。中芯國(guó)際一直難以從阿斯麥獲得 EUV 光刻設(shè)備，盡管阿斯麥在法律上不受某些約束條件的影響，但仍存顧慮。

責(zé)任編輯：haq