最近光博會(huì)上看到一本關(guān)于光刻的小冊(cè)子,里面有一點(diǎn)內(nèi)容,分享給大家。
關(guān)于光刻的原理、光刻設(shè)備、光刻膠的種類(lèi)和選擇等。
開(kāi)篇 光刻的原理
表面處理:一般的晶圓光刻前都需要清潔干凈,特別是有有機(jī)物的、顆粒的、會(huì)影響光刻膠的厚度。
涂膠:根據(jù)工藝要求,目前常用的兩種涂膠工藝,一個(gè)就是旋轉(zhuǎn)涂覆、一個(gè)就是噴涂。根據(jù)工藝要求和光刻膠的性能、可以有不同厚度的光刻膠。
前烘:就比較講究了,因?yàn)檫@東西肉眼看不見(jiàn)變化。只有最后出來(lái)光刻了才知道好壞,有時(shí)候還不明顯。
上圖是曝光機(jī)的汞燈光源光譜圖。
關(guān)于曝光劑量的問(wèn)題:
通常我們監(jiān)控曝光機(jī)的光強(qiáng),主要針對(duì)單一波長(zhǎng)測(cè)量。比如常用的UV探測(cè)器測(cè)試的波段一般是365nm和436nm,有的光刻機(jī)帶有濾波片,可以選擇其中一個(gè)波段使用。比如有的光刻膠給的曝光量是針對(duì)365nm的,也有光刻膠給的是436nm的,因此再?zèng)]有加濾光片的前提下,計(jì)算曝光時(shí)間時(shí)是不能直接用曝光劑量除以光強(qiáng)的,但是也不是上文中的再除以2.5~3的樣子,在2~3的樣子,還要看具體的設(shè)備和汞燈的壽命使用情況。
其他的曝光機(jī)根據(jù)曝光波段不同,分了很多種類(lèi)型的曝光。
常用工藝和光刻膠選擇
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原文標(biāo)題:光刻知識(shí)點(diǎn)集合
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