0
  • 聊天消息
  • 系統(tǒng)消息
  • 評(píng)論與回復(fù)
登錄后你可以
  • 下載海量資料
  • 學(xué)習(xí)在線課程
  • 觀看技術(shù)視頻
  • 寫(xiě)文章/發(fā)帖/加入社區(qū)
會(huì)員中心
創(chuàng)作中心

完善資料讓更多小伙伴認(rèn)識(shí)你,還能領(lǐng)取20積分哦,立即完善>

3天內(nèi)不再提示

退火對(duì)In(OH)xSy光電性能的影響

華林科納半導(dǎo)體設(shè)備制造 ? 來(lái)源:華林科納半導(dǎo)體設(shè)備制造 ? 作者:華林科納半導(dǎo)體設(shè) ? 2022-05-24 17:04 ? 次閱讀

引言

羥基硫化銦具有資源豐富、價(jià)格低廉、無(wú)毒、耐輻射、耐高溫、化學(xué)穩(wěn)定性好等特點(diǎn),是一種非常重要的光電、光伏和光傳感薄膜材料。對(duì)這種材料的一些處理包括熱退火,這是一種用于內(nèi)部應(yīng)力釋放、結(jié)構(gòu)改善和表面粗糙化以控制其光電特性的工藝。以定性的方式,退火隨溫度和時(shí)間改變表面形態(tài)、本征參數(shù)電子遷移率。在本工作中,我們?nèi)A林科納討論了退火過(guò)程中In(OH)xSy薄膜表面改性的原因。在373–573k的溫度范圍內(nèi),對(duì)退火引起的電學(xué)和光學(xué)效應(yīng)進(jìn)行了研究,并在氮?dú)庵械牟煌嘶饻囟认逻M(jìn)行了表征。使用光學(xué)測(cè)量數(shù)據(jù)和模擬數(shù)據(jù),采用Scout軟件,結(jié)果表明,提高退火溫度會(huì)導(dǎo)致透射率略有下降,從而使能帶隙值在2.79–3.32 eV之間變化。結(jié)論是退火影響了薄膜的光學(xué)透射率和電阻,使得薄膜有潛力用于光伏和光傳感應(yīng)用。

介紹

由于其穩(wěn)定性、寬帶隙和光電導(dǎo)性,硫化銦是光電、光伏和許多其他技術(shù)應(yīng)用的有前途的候選材料21].據(jù)報(bào)道,硫化銦薄膜的光學(xué)帶隙值在2.0-2.4 eV范圍內(nèi),取決于物理或化學(xué)工藝沉積[2].引起光學(xué)帶隙異常加寬的一種可能性是用氧取代一些硫,以便合成同質(zhì)的In2S3-3xO3x14].含有氫氧化物或氧化物和氫氧化物的緩沖層的另一種可能性是使用硫化物的CBD,因?yàn)榫彌_層的組成通常取決于沉積方法和制備條件[9].根據(jù)對(duì)固態(tài)DSSC的電子工程所做的研究,界面復(fù)合的傳播在像η-太陽(yáng)能電池這樣的系統(tǒng)中可能是非常重要的6并且In(OH)xSy是提出的緩沖層之一層已經(jīng)通過(guò)濕CBD沉積,并且已經(jīng)證明是TiO2太陽(yáng)能電池的良好緩沖,其帶隙能量根據(jù)In(OH)xSy的化學(xué)計(jì)量在2.4-3.4 eV的范圍內(nèi)變化14,24].獲得的暗I-V特性證實(shí)In(OH)xSy涂層是良好的,并且沒(méi)有可能導(dǎo)致電流短路的針孔。因此,在300 ℃退火30分鐘后,材料從非晶態(tài)變?yōu)榫B(tài),并且還變得略微富含In2S3含量24,20].當(dāng)用p型吸收體填充時(shí),緩沖膜可以最小化電子-空穴對(duì)復(fù)合和n型半導(dǎo)體的能力25].通過(guò)CBD沉積的In(OH)xSy涂層的暗I- V特性證實(shí)其適用于PV電池,并且不具有會(huì)引起分流問(wèn)題的多孔性。一般來(lái)說(shuō),太陽(yáng)能電池在光照下開(kāi)路電壓和短路電流密度的性能分別為0.27 V和11.7 mA/cm2。

結(jié)果和討論

透射率、反射率和吸收率。沉積的In(OH)xSy薄膜是淡黃色的,但是在氬氣氛中退火大約60分鐘后,它們變得有光澤和鏡面反射。在100–300°C范圍內(nèi),顏色變化的強(qiáng)度隨著退火溫度的變化而變化。在300°C退火的薄膜是最鏡面的。在300-1100 μm的波長(zhǎng)范圍內(nèi)(圖2a ),生長(zhǎng)的(OH)xSy薄膜的平均測(cè)量透射率為74.5 %。進(jìn)一步的分析表明,這樣高的透射率在理論上相當(dāng)于η太陽(yáng)能電池中緩沖層應(yīng)用的最佳參數(shù)。

pYYBAGKMn7uASKdrAABJzSfXpC4351.jpg

poYBAGKMn7uAPYbTAABdyLlNDFE055.jpg

pYYBAGKMn7uABbjQAABCWBhm5qo216.jpg

poYBAGKMn7uAefWGAABRI5rVIA8489.jpg

對(duì)退火后的膜進(jìn)行比較,觀察到(圖2d)退火溫度升高至240℃導(dǎo)致透射率略微降低,隨后隨著退火溫度升高透射率升高。此后,透射率突然增加。這種現(xiàn)象歸因于材料的再結(jié)晶這導(dǎo)致不飽和缺陷隨著材料分解而減少。然后解釋了在熱退火過(guò)程中,不飽和缺陷逐漸退火,結(jié)果是它們產(chǎn)生大量飽和鍵.這樣大的飽和鍵實(shí)際上減少了不飽和缺陷的數(shù)量這又降低了能帶結(jié)構(gòu)中的局域態(tài)密度。這最終導(dǎo)致光學(xué)帶隙的增加最適合光傳感和光吸收應(yīng)用。

pYYBAGKMn7yAeLHqAACswLvaSJI547.jpg

poYBAGKMn7yAL5rbAAAoW4ZhFf0509.jpg

結(jié)論

采用化學(xué)氣相沉積技術(shù),在不同的沉積條件和沉積參數(shù)下,成功地在玻璃襯底上制備了In(OH)xSy薄膜。研究了退火對(duì)In(OH)xSy光電性能的影響發(fā)現(xiàn)帶隙能量值,

沉積態(tài)Eg在2.79-2.79之間3.32 eV。透射率在大約270℃時(shí)突然增加而下降,這歸因于重結(jié)晶,因?yàn)楸∧ぞ哂写蟮膸逗偷偷南夂臀障禂?shù)。發(fā)現(xiàn)了薄層電阻率為9.03-0.35?107ω?厘米和薄膜所獲得的特性表明該膜可以形成用于光電應(yīng)用的良好材料,特別是在太陽(yáng)能電池、發(fā)光二極管和光電探測(cè)器中。

審核編輯:湯梓紅
聲明:本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫(xiě)或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點(diǎn)僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場(chǎng)。文章及其配圖僅供工程師學(xué)習(xí)之用,如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問(wèn)題,請(qǐng)聯(lián)系本站處理。 舉報(bào)投訴
  • 薄膜
    +關(guān)注

    關(guān)注

    0

    文章

    274

    瀏覽量

    28741
  • 光學(xué)
    +關(guān)注

    關(guān)注

    3

    文章

    738

    瀏覽量

    36066
  • 退火
    +關(guān)注

    關(guān)注

    0

    文章

    5

    瀏覽量

    6677
收藏 人收藏

    評(píng)論

    相關(guān)推薦

    TCL科技集團(tuán)股份有限公司“光電器件與電子設(shè)備”專(zhuān)利公布

    該項(xiàng)創(chuàng)新性技術(shù)主要涉及光電器件及其制備方法,包括運(yùn)用預(yù)制器件,其中功能層由一至多層膜組成,通過(guò)對(duì)至少一層膜進(jìn)行可控退火深度的第一次退火處理,有效防止了退火工藝對(duì)下層膜
    的頭像 發(fā)表于 05-24 09:51 ?291次閱讀
    TCL科技集團(tuán)股份有限公司“<b class='flag-5'>光電</b>器件與電子設(shè)備”專(zhuān)利公布

    TC wafer 快速退火爐溫場(chǎng)均勻性校準(zhǔn) 熱電偶校準(zhǔn)儀

    精確測(cè)量和校準(zhǔn),以確保爐內(nèi)溫度均勻性和準(zhǔn)確性。 快速退火爐通常用于半導(dǎo)體制造過(guò)程中的退火處理,而溫場(chǎng)均勻性對(duì)于保證半導(dǎo)體器件的質(zhì)量和性能至關(guān)重要。因此,使用TC wafer校準(zhǔn)儀進(jìn)行快速退火
    的頭像 發(fā)表于 05-21 15:22 ?1213次閱讀
    TC wafer 快速<b class='flag-5'>退火</b>爐溫場(chǎng)均勻性校準(zhǔn) 熱電偶校準(zhǔn)儀

    2501和817光電耦合器的特點(diǎn)性能和應(yīng)用參數(shù)

    2501和817光電耦合器的特點(diǎn)性能和應(yīng)用參數(shù)
    的頭像 發(fā)表于 04-08 17:22 ?579次閱讀

    MEMS工藝中快速退火的應(yīng)用范圍和優(yōu)勢(shì)介紹

    在MEMS工藝中,常用的退火方法,如高溫爐管退火和快速熱退火(RTP)。RTP (Rapid Thermal Processing)是一種在很短的時(shí)間內(nèi)將整個(gè)硅片加熱到400~1300°C范圍的方法。
    的頭像 發(fā)表于 03-19 15:21 ?1711次閱讀
    MEMS工藝中快速<b class='flag-5'>退火</b>的應(yīng)用范圍和優(yōu)勢(shì)介紹

    退火爐 不銹鋼退火爐 網(wǎng)帶式釬焊爐 光亮退火

    工控退火
    jf_23850907
    發(fā)布于 :2024年01月17日 16:33:30

    管式爐 鐵絲連續(xù)退火爐 鋼絲連續(xù)退火爐 鍍鋅絲連續(xù)退火

    工控退火
    jf_23850907
    發(fā)布于 :2024年01月17日 16:31:30

    鐵芯退火爐 硅鋼片退火爐 臥式真空退火爐 磁性材料退火

    退火
    jf_23850907
    發(fā)布于 :2024年01月17日 16:16:13

    #銅箔光亮退火爐 #銅帶連續(xù)退火爐 #銅材退火

    工控退火
    jf_23850907
    發(fā)布于 :2024年01月17日 16:04:04

    #不銹鋼管退火爐# 鋼帶爐# 氫氣保護(hù)光亮退火爐#連續(xù)退火

    工控退火
    jf_23850907
    發(fā)布于 :2024年01月17日 15:27:47

    # 鋼管退火爐# 輥底爐# 輥軸爐# 鋼管光亮退火爐# 連續(xù)退火

    工控退火
    jf_23850907
    發(fā)布于 :2024年01月17日 15:21:08

    【2023電子工程師大會(huì)】基于RK3568的OH開(kāi)發(fā)及樣例ppt

    【2023電子工程師大會(huì)】基于RK3568的OH開(kāi)發(fā)及樣例ppt
    發(fā)表于 01-03 16:31 ?24次下載

    退火工藝與氧氣含量對(duì)ITO薄膜性能的影響

    在太陽(yáng)能電池的生產(chǎn)工藝中,退火工藝和氧氣含量作為外界條件往往是影響ITO薄膜性能的關(guān)鍵因素,因此,為了較高程度的提升ITO薄膜的性能,電池廠商都會(huì)通過(guò)在生產(chǎn)中嚴(yán)謹(jǐn)?shù)牟僮魇侄蝸?lái)保證其性能
    的頭像 發(fā)表于 12-07 13:37 ?1056次閱讀
    <b class='flag-5'>退火</b>工藝與氧氣含量對(duì)ITO薄膜<b class='flag-5'>性能</b>的影響

    退火工藝對(duì)薄膜太陽(yáng)能電池的影響

    對(duì)薄膜太陽(yáng)能電池進(jìn)行適當(dāng)?shù)暮筇幚砉に囀翘岣弑∧ぬ?yáng)能電池性能的重要手段之一,退火工藝作為一種常見(jiàn)的后處理工藝,可大幅度改善薄膜材料的結(jié)晶性、去除缺陷、調(diào)整相組成等,從而提高薄膜太陽(yáng)能電池的光電轉(zhuǎn)換率
    的頭像 發(fā)表于 11-23 08:33 ?626次閱讀
    <b class='flag-5'>退火</b>工藝對(duì)薄膜太陽(yáng)能電池的影響

    熱浪來(lái)襲:快速熱退火如何重塑微電子界

    快速熱退火工藝(Rapid Thermal Annealing, RTA)是一種在半導(dǎo)體制造中常用的處理工藝,特別是在硅基集成電路的生產(chǎn)過(guò)程中。它主要被用于晶圓上薄膜的退火,以改善薄膜的電學(xué)性能,減少雜質(zhì)和缺陷,或改變材料的結(jié)構(gòu)
    的頭像 發(fā)表于 11-11 10:53 ?1265次閱讀
    熱浪來(lái)襲:快速熱<b class='flag-5'>退火</b>如何重塑微電子界

    深入剖析影響TOPcon太陽(yáng)能電池性能的氧化退火工藝

    為了從根本上直接改善TOPcon太陽(yáng)能電池的光電轉(zhuǎn)換率,電池廠商通常需要在太陽(yáng)能電池片表面進(jìn)行氧化退火工藝,從而使沉積的薄膜材料具有更高的方阻/電阻率,氧化退火工藝是影響TOPcon太陽(yáng)能電池
    的頭像 發(fā)表于 10-31 08:34 ?1392次閱讀
    深入剖析影響TOPcon太陽(yáng)能電池<b class='flag-5'>性能</b>的氧化<b class='flag-5'>退火</b>工藝