瑞士XRNanotech高精度、高性能X射線光柵

X射線光柵在生命、能源、材料、環(huán)境、食品等領域中具有重要應用，由于X射線光柵是非常精密的光學器件，對制作工藝的要求很高，尤其是制作高質量的二維X射線光柵的難度更大，因此，高質量的二維X射線光柵倍受相關科研人員的期待。

XRnanotech在X射線光學研究和開發(fā)領域的最新創(chuàng)新，突破了可能的界限。依托Paul Scherrer研究所開發(fā)的專利技術，加上優(yōu)良的工程能力和高水平的質量控制，造就了先進的X射線光學關鍵器件，另外，依托于高精度加工技術，可定制，系列產品比較豐富。

通過銥線倍頻技術獲得最大分辨率

憑借線倍頻技術，可以實現精確到5nm的X射線束聚焦，從而成為目前紀錄的保持者。有了如此精確的聚焦，X射線成像的分辨率達到高的水平，使得曾經不可見的東西變得可見，并實現了全新的應用。該方法核心工藝是在反應離子蝕刻剝離基底結構之前，在稀疏模板上涂覆一層銥原子層。

利用閃耀光學方式優(yōu)化效率

光學器件的光子效率越高，透過的光子就越多，這意味著效率越高的光學器件可以為實現相同的目標節(jié)省時間和能量。與理論光子效率極限為40.5%的傳統(tǒng)二元光柵光學相比，僅增加一階的閃耀光柵可以將極限提高到68.4%，而再增加一階的閃耀光柵可達81.1%。

基于電子束光刻的制造工藝，而不是機械刻劃，可以輕松實現多階閃耀光柵的設計加工。在實際加工過程中，XRnatotech已經實現了衍射波帶片的光子效率超過50%，而行業(yè)標準是5-10%，大多數比較先進的技術最高也只達到25%。這樣，不僅可以將實驗時間減半，推動科學進步，還可以將在大型X射線源上進行實驗的成本減半。

金剛石光學的輻射穩(wěn)定性

在過去幾十年中，X射線源的亮度急劇上升，自由電子激光器的亮度達到太陽亮度的1億倍以上。這開辟了重要的研究領域，但也暴露了不少X射線光學器件的關鍵局限性，在如此高的輻射能量下，這些器件容易融化。XRnanotech開發(fā)出一種方法，即用最耐熱的天然材料單片金剛石加工光學元件。金剛石光學可以輕松承受FEL X射線束的極duan強度，從而緩解FEL實驗中的這一瓶頸。

目前，XRnanotech已為X射線廣泛應用提供多種光學元件：

Zernicke相襯成像應用：

相關文獻：

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B. R?sner et al. 7 nm spatial resolution in soft x-ray microscopy Microscopy and Microanalysis 24 (2018) p. 270

K. Jefimovs et al. A zone doubling technique to produce ultra-high resolution x-ray optics Physical Review Letters 99 (2007) p. 264801

J. Vila-Comamala et al. Advanced Thin Film Technology for Ultrahigh Resolution X-Ray Microscopy Ultramicroscopy 109 (2009) p. 1360

P. Karvinen et al. Kinoform diffractive lenses for efficient nano-focusing of hard X-rays Optics Express 22 (2014) p. 16676

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M. Makita et al. Diamond diffraction gratings for experiments with intense hard x-rays Microelectronic Engineering 176 (2017) p. 75

N. Kujala et al. Characterizing transmissive diamond gratings as beam splitter for hard X-ray singleshot spectrometer of European XFEL Journal of Synchrotron Radiation 26 (2019) p. 708

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