Park原子力顯微鏡公司官方發(fā)布 Park NX-Mask ——一臺(tái)專為EUV和In-Line打造的光罩缺陷修復(fù)設(shè)備

來源：Park原子力顯微鏡公司

作為一家有超過30年制造史的原子力顯微鏡制造廠商，Park原子力顯微鏡公司現(xiàn)推出新一代高效、安全的光罩修復(fù)設(shè)備——Park NX-Mask。

Park NX-Mask旨在為您提供優(yōu)異的解決方案，其強(qiáng)大的兼容性可適用于處理EUV光罩的dual pod。從自動(dòng)缺陷檢測到缺陷修復(fù)再到修復(fù)驗(yàn)證的一站式解決方案更是以前所未有的高修復(fù)效率極大地提高了生產(chǎn)效率，助力您的研發(fā)和生產(chǎn)工作。

“Park NX-Mask配有最先進(jìn)的原子力顯微鏡光罩缺陷修復(fù)系統(tǒng)，適用于高端EUV半導(dǎo)體制造以及光罩修復(fù)fab。它也是目前半導(dǎo)體市場上性價(jià)比最高的機(jī)臺(tái)。”Park 原子力顯微鏡產(chǎn)品營銷總監(jiān) Richard Lee如是介紹。

Park NX-Mask的核心優(yōu)勢是以亞納米級(jí)邊緣定位精度進(jìn)行缺陷修復(fù)、雜質(zhì)顆粒去除。NX-Mask在高效修復(fù)光罩的同時(shí)，不會(huì)引入額外的樣品損傷和顆粒污染。

AFM Based EUV Mask Repair Equipment, NX-Mask 基于AFM的EUV光罩修復(fù)設(shè)備

Park NX-Mask集自動(dòng)缺陷檢測和光罩修復(fù)為一體，可實(shí)現(xiàn)高吞吐量、高分辨率，并可避免傳統(tǒng)方法帶來的破壞性風(fēng)險(xiǎn)。此外，Park NX-Mask能為表面粗糙度和圖案臺(tái)階高度提供全自動(dòng)的原子力顯微鏡納米計(jì)量。在非接觸掃描模式下，它以亞埃垂直精度完美地做到了這一點(diǎn)。

關(guān)于Park原子力顯微鏡公司：

作為當(dāng)今發(fā)展最快、世界一流的原子力顯微鏡系統(tǒng)制造商，Park原子力顯微鏡(Park Systems)一直與時(shí)俱進(jìn)，竭誠為化學(xué)、材料、物理、生命科學(xué)、半導(dǎo)體和數(shù)據(jù)存儲(chǔ)等行業(yè)的研究員及工程師提供各系列產(chǎn)品?！罢嬲\協(xié)助科學(xué)家和工程師解決世界上最緊迫的難題，源源不竭推動(dòng)科學(xué)發(fā)現(xiàn)，堅(jiān)持拓展工程創(chuàng)新的邊界，不斷實(shí)現(xiàn)納米級(jí)的進(jìn)步”始終是Park原子力顯微鏡的使命。發(fā)展至今，Park Systems 的客戶已涵蓋了多數(shù)世界領(lǐng)先級(jí)的半導(dǎo)體公司和亞洲、歐洲和美洲的國家研究型大學(xué)。 Park原子力顯微鏡(Park Systems)是韓國證券交易所 (KOSDAQ) 的上市公司，其總部位于韓國水源，地區(qū)總部位于美國、墨西哥、德國、法國、英國、大中華區(qū)、日本、新加坡和印度。

原文來自：韓國帕克股份有限公司

審核編輯 黃昊宇