InAs1-xSbx屬于III-V族化合物半導(dǎo)體合金材料,隨Sb組分含量的不同,室溫下可覆蓋3~12μm波長,并且InAsSb材料具有載流子壽命長、吸收系數(shù)大、載流子遷移率高等優(yōu)點(diǎn),是一種具有廣闊應(yīng)用前景的紅外光電材料。探測器可以在150K甚至近室溫下工作,具有較高的靈敏度和探測率,是低功耗、小型化、高靈敏度和快響應(yīng)中長波紅外探測系統(tǒng)的良好選擇,InAsSb中長波紅外探測器受到廣泛的關(guān)注和研究。當(dāng)前對InAsSb紅外探測器的研究主要集中在以下幾個(gè)方面:在二元GaSb或GaAs襯底上延伸響應(yīng)波長;高溫工作紅外探測器;采用勢壘結(jié)構(gòu)、浸沒透鏡、等離子增強(qiáng)技術(shù)提高紅外探測器性能等。
據(jù)麥姆斯咨詢報(bào)道,近日,昆明物理研究所楊文運(yùn)及其團(tuán)隊(duì)在《紅外技術(shù)》期刊上發(fā)表了題為“銦砷銻紅外探測器的研究進(jìn)展”的綜述文章。通訊作者為楊文運(yùn)研高工,主要從事光電材料與器件研究。
本文首先簡要概述了InAsSb材料的基本性質(zhì)。其次,對國內(nèi)外InAsSb紅外探測器發(fā)展?fàn)顩r進(jìn)行了介紹。最后,對InAsSb紅外探測技術(shù)的發(fā)展進(jìn)行了總結(jié)與展望。
InAsSb 合金性質(zhì)
相比于HgCdTe材料襯底昂貴、大面積組分不均勻,器件需制冷降低俄歇復(fù)合,InAs1-xSbx的In與As及Sb為共價(jià)鍵結(jié)合,材料穩(wěn)定性均勻性更好,外延生長采用GaSb或GaAs襯底材料,制造成本較低,同時(shí)具有超高的電子遷移率以及很小的有效質(zhì)量,介電常數(shù)較低(≈11.5),室溫下自擴(kuò)散系數(shù)低(≈5.2×10?1?cm2/s)。相比于InAs/GaSb超晶格材料,InAsSb材料的肖克萊-里德復(fù)合壽命更長,InAsSb體材料少數(shù)載流子遷移率各向同性,采用InAs/InAsSb II類超晶格,由于不含有Ga元素,非輻射復(fù)合中心減小,載流子壽命長于InAs/GaSb材料。此外,采用勢壘結(jié)構(gòu)器件可顯著降低器件的肖克萊-里德霍爾復(fù)合暗電流和隧穿電流,提升器件工作溫度。
InAsSb 紅外探測器國內(nèi)外研究現(xiàn)狀
國外研究現(xiàn)狀
早期報(bào)道的InAsSb器件結(jié)構(gòu)主要為簡單的pn結(jié)、p-i-n結(jié)構(gòu),勢壘型器件(nBn、pBnn、nBnn等)通過抑制吸收層的產(chǎn)生-復(fù)合電流有效降低器件暗電流提高器件工作溫度,近十幾年報(bào)道的InAsSb器件多采用勢壘結(jié)構(gòu),工作在150~300K。
新加坡南洋理工大學(xué)張道華教授研究團(tuán)隊(duì)在p-i-n異質(zhì)結(jié)的基礎(chǔ)上,在p型接觸層和吸收層之間插入重?fù)诫s寬帶隙的AlGaSb電子勢壘層,進(jìn)而抑制器件暗電流,引入AlInAsSb層能顯著改善界面質(zhì)量,提高器件性能,器件結(jié)構(gòu)及能帶結(jié)構(gòu)如圖1所示。室溫下沒有抗反射膜的探測器、-0.5V偏置電壓、3.5μm處的光譜探測率達(dá)8.9×10?cm·Hz1/2/W。
圖1(a)光電探測器截面結(jié)構(gòu)示意圖,右邊的插圖是一個(gè)350μm正方形臺面結(jié)構(gòu)的光學(xué)顯微鏡圖;(b)室溫零偏壓下結(jié)構(gòu)的能帶結(jié)構(gòu)示意圖
2006年,英國羅徹斯特大學(xué)S. Maimon和G. W. Wicks教授首次提出nBn結(jié)構(gòu)器件,即“n型窄帶隙吸收層-寬帶隙勢壘層-n型窄帶隙接觸層”,勢壘層設(shè)置在少數(shù)載流子收集層附近遠(yuǎn)離光學(xué)吸收層,能帶圖如圖2(a)所示,大的導(dǎo)帶偏移ΔEc阻擋多數(shù)載流子空穴流向接觸區(qū),減小器件暗電流,較小的價(jià)帶偏移ΔEv使光生少數(shù)載流子空穴在低偏壓下流向未受阻的接觸區(qū)形成光電流。此外,導(dǎo)帶中的大能量勢壘起到自鈍化作用能夠抑制表面漏泄電流。如圖2(b)所示,與傳統(tǒng)pn結(jié)器件相比,相同的工作溫度下,nBn器件具有更高的信噪比。
圖2 nBn結(jié)構(gòu)器件:(a)能帶圖;(b)普通(實(shí)線)與nBn器件(虛線)暗電流溫度特性理論曲線
目前,國外從事InAsSb紅外探測器研究的主要有以色列SCD公司、美國噴氣推進(jìn)實(shí)驗(yàn)室(JetPropulsion Laboratory,JPL)、美國DRS技術(shù)公司和HRL實(shí)驗(yàn)室以及波蘭的Antoni Rogalski課題組等。
2008年以來,以色列SCD公司采用XBn勢壘型器件以抑制器件的暗電流,從而提高器件的工作溫度,器件采用GaSb襯底或GaAs襯底,包括1.5~3μm的n型InAsSb吸收層,0.2~0.35μm的n型AlAsSb勢壘層,0.2~0.5μm的n型InAsSb或p型GaSb接觸層,器件少數(shù)載流子壽命約為700ns,150K下獲得成像清晰的焦平面陣列器件。
美國噴氣推進(jìn)實(shí)驗(yàn)室Alexander Soibel等人制備InAs0.915Sb0.085-AlAs0.1Sb0.9 nBn結(jié)構(gòu)器件,溫度為77~325K時(shí),器件的量子效率保持不變?yōu)?5%,當(dāng)溫度為150~325K時(shí),器件暗電流為擴(kuò)散限電流,當(dāng)溫度低于150K時(shí),產(chǎn)生-復(fù)合電流占支配地位。溫度為77~220K時(shí)器件少數(shù)載流子壽命為300ns,溫度升高器件少數(shù)載流子壽命變短,溫度升高至325K時(shí),少數(shù)載流子壽命為100ns。300K工作溫度下D*=1×10?cm·Hz1/2/W,250K工作溫度下D*=5×10?cm·Hz1/2/W。
美國DRS技術(shù)公司和HRL實(shí)驗(yàn)室報(bào)道了可見光至中波(0.5~5μm)InAsSb高工作溫度、低暗電流大面陣紅外探測器。在GaAs襯底上外延InAsSb材料,采用新型錐體狀吸收層設(shè)計(jì)和AlSb基復(fù)合勢壘層設(shè)計(jì),降低器件暗電流,探測器D*>1×101?cm·Hz1/2/W,200K工作溫度下,內(nèi)量子效率>80%。
美國石溪大學(xué)和陸軍實(shí)驗(yàn)室,在GaSb襯底上MBE外延生長GaInSb和AlInSb緩沖層,消除InAs0.6Sb0.4與GaSb襯底之間的晶格失配,然后生長1μm厚的吸收層,勢壘層采用AlInAsSb四元合金材料,圖3(a)為平衡態(tài)下長波異質(zhì)結(jié)的能帶圖,圖3(b)為偏置電壓下能帶分布,箭頭表示少子空穴輸運(yùn)方向。77K溫度下,光譜探測率2×1011cm·Hz1/2/W(λ=8μm),吸收層InAs0.6Sb0.4的帶隙約為90meV,響應(yīng)波長8~12μm,少數(shù)載流子(空穴)壽命為185ns、擴(kuò)散長度為9μm、遷移率為~103cm2/Vs。
圖3 長波勢壘探測器異質(zhì)結(jié)的能帶結(jié)構(gòu)示意圖:(a)導(dǎo)帶和價(jià)帶能級;(b)偏置電壓下能帶分布,少子(空穴),箭頭表示少子空穴輸運(yùn)方向
波蘭VIGO公司采用MBE技術(shù)在(100)GaAs襯底上外延In0.74Al0.26Sb緩沖層,實(shí)現(xiàn)InAs0.3Sb0.7體材料生長,在n?接觸層和InAs0.3Sb0.7吸收層之間生長一薄層InAs層,作為空穴勢壘層阻擋空穴從n?接觸層進(jìn)入吸收層。器件結(jié)構(gòu)和能帶示意圖如圖4所示。300K溫度下,器件50%截止波長為14.2μm。
圖4 InAsSb 勢壘型異質(zhì)結(jié):(a)器件結(jié)構(gòu);(b)能帶示意圖
目前,InAsSb中波紅外焦平面探測器已出現(xiàn)實(shí)用化商品。最為典型的是以色列SCD公司,2013年,SCD推出第一款nBn中波高溫產(chǎn)品Kinglet,焦平面陣列規(guī)模為640×512,像元中心距為15μm,響應(yīng)波長3.6~4.2μm;2014年,SCD推出第二款nBn中波高溫產(chǎn)品HOTHerclues, 焦平面陣列規(guī)模為1280×1024,像元中心距為15μm,響應(yīng)波長3.4~4.2μm。
國內(nèi)研究現(xiàn)狀
國內(nèi)對InAsSb光電子探測器的研究與國際先進(jìn)水平存在較大的差距,大部分的研究集中在材料的制備、表征、材料特性分析上,極少數(shù)對制備的探測器性能進(jìn)行了表征分析
2010年,同濟(jì)大學(xué)高玉竹等人采用熔體外延技術(shù)在InAs襯底上獲得了50μm厚層的InAsSb外延層,用該材料制作了光導(dǎo)探測器,在探測器上安裝了鍺(Ge)浸沒透鏡。非制冷條件下,InAs0.06Sb0.94探測器在波長8.0μm及9.0μm處的探測率D*分別為1.3×10?cm·Hz1/2/W 及2.8×10?cm·Hz1/2/W,而在波長6.5μm處,InAs0.06Sb0.94和InAs0.02Sb0.98的峰值探測率D*均大于1.0×10?cm·Hz1/2/W,可應(yīng)用在紅外探測和成像領(lǐng)域。
基于銻化物材料MOCVD生長的基礎(chǔ),2016年,哈爾濱工業(yè)大學(xué)寧振動(dòng)博士探索InAs1-xSbx體材料nBn結(jié)構(gòu)中波紅外探測器的制備并對制備的器件進(jìn)行簡單的測試分析。器件設(shè)計(jì)采用與GaSb襯底晶格匹配的InAs0.91Sb0.09作為有源區(qū),而勢壘材料則選擇InP0.63Sb0.37。器件在77K及300K時(shí)的截止波長分別為4.29μm和5.35μm;在-0.8V偏壓下,77K的黑體歸一化探測率最高為1.2×10?cm·Hz1/2/W。
2019年,中國科學(xué)院半導(dǎo)體研究所張璇等人研究了InAsSb薄膜材料的生長及InAs0.91Sb0.09/AlAs0.08Sb0.92nBn結(jié)構(gòu)中波紅外探測器性能,-0.2V偏壓300K,器件的量子效率為~63.4%,峰值探測率為2.3×10?cm·Hz1/2/W。
2020年,謝浩博士采用液相外延技術(shù)(LPE)制備InAs1-xSbx基pBin器件結(jié)構(gòu)室溫中波紅外探測器,x=0.06和x=0.11兩種Sb組分探測器,室溫下的暗電流密度分別為1.4A/cm2、1.7A/cm2,峰值探測率分別為1.39×10?cm·Hz1/2/W、1.2×10?cm·Hz1/2/W。
2020年,昆明物理研究所鄧功榮等人引入AlAsSb/AlSb復(fù)合勢壘,成功制備XCBn結(jié)構(gòu)的InAsSb 640×512中波紅外焦平面探測器,150K、-0.4V偏置電壓,暗電流密度~3.9×10??A/cm2,探測器峰值探測率為1.06×1012cm·Hz1/2/W,器件結(jié)構(gòu)及熱成像圖如圖5所示。
圖5 XCBn結(jié)構(gòu)器件:(a)器件結(jié)構(gòu);(b)仿真得到能帶圖;(c)150-205K焦平面器件熱成像圖
總結(jié)與展望
綜上所述,本文簡要概述了InAsSb材料的基本性質(zhì),表明其是一種具有廣闊應(yīng)用前景的中長波紅外光電探測材料。InAs0.91Sb0.09材料與GaSb襯底和AlAsSb寬帶隙材料晶格完全匹配,國外以nBn結(jié)構(gòu)為代表的中波高溫工作InAs0.91Sb0.09焦平面陣列技術(shù)已經(jīng)發(fā)展成熟并獲得了廣泛的應(yīng)用;而在國內(nèi),InAsSb焦平面陣列的研究起步較晚,還未能實(shí)現(xiàn)工程化應(yīng)用。未來的工作應(yīng)集中在:一是提升InAsSb外延薄膜材料質(zhì)量優(yōu)化器件結(jié)構(gòu),提高器件性能,進(jìn)一步提高器件的工作溫度,實(shí)現(xiàn)TEC制冷,器件規(guī)模向更大焦平面陣列發(fā)展。二是繼續(xù)探索InAsSb、Ga1-yInySb或者Al1-yInySb等高質(zhì)量緩沖層生長方法以消除高Sb組分長波InAs1-xSbx薄膜與GaSb襯底之間的晶格失配,使光譜響應(yīng)范圍向長波范圍拓展。深入研究InAsSb材料及新型結(jié)構(gòu)器件的物理特性,對推進(jìn)InAsSb焦平面探測器的發(fā)展具有重要作用。
審核編輯:湯梓紅
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原文標(biāo)題:綜述:銦砷銻(InAsSb)紅外探測器的研究進(jìn)展
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