淺談普洛帝清潔度檢測(cè)儀PSC-3A在電子半導(dǎo)體行業(yè)的應(yīng)用分析

隨著半導(dǎo)體技術(shù)的不斷發(fā)展，對(duì)工藝技術(shù)的要求越來(lái)越高，特別是對(duì)半導(dǎo)體圓片的表面質(zhì)量要求越來(lái)越嚴(yán)，其主要原因是圓片表面的顆粒和金屬雜質(zhì)沾污會(huì)嚴(yán)重影響器件的質(zhì)量和成品率，在目前的集成電路生產(chǎn)中，由于圓片表面沾污問(wèn)題，在生產(chǎn)過(guò)程中造成了很多原材料的浪費(fèi)。不能獲取最高的經(jīng)濟(jì)效益。

在半導(dǎo)體生產(chǎn)工藝中，幾乎每道工序中都需要進(jìn)行清洗，圓片清洗質(zhì)量的好壞對(duì)器件性能有亞重的影響。正是由于圓片清洗是半導(dǎo)體制造工藝中最重要、最頻繁的工步，而且其工藝質(zhì)量將直接影響到器件的成品率、性能和可靠性，所以國(guó)內(nèi)外各大公司、研究機(jī)構(gòu)等對(duì)清洗工藝的研究一直在不斷地進(jìn)行。

目前已研制出的圓片清洗技術(shù)有:濕法化學(xué)清洗、超聲清洗、兆聲清洗、鼓泡清洗、擦洗、高壓噴射法、離心噴射法、流體力學(xué)法、流體動(dòng)力學(xué)法、干法清洗、微集射束流法、激光束清洗、冷凝噴霧技術(shù)、汽相清洗、非浸潤(rùn)液體噴射法、在線真空清洗、RCA清洗、等離子體清洗、原位水沖洗等。這些方法和技術(shù)已被廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體圓片的清洗工藝中。

普洛帝puluody公司研發(fā)的表面清潔度系統(tǒng)PSC-3A，它一種通過(guò)熒光檢測(cè)技術(shù)量化檢測(cè)金屬、陶瓷、玻璃、半導(dǎo)體等材料表面污染物的儀器，以RFU值相對(duì)熒光值表示清潔度的高低。RFU為相對(duì)熒光強(qiáng)度值，RFU值越大，零件表面的殘留污染物含量也越高，反之則相反。

PSC-3A清潔度檢測(cè)儀

英國(guó)普洛帝分析測(cè)試集團(tuán)推出全新一代PULUODY系列PSC-3A表面清潔度檢測(cè)儀，它采用了多種自有技術(shù)和精準(zhǔn)算法，具有非常高的靈敏度、準(zhǔn)確性和重復(fù)性，在0.1~30秒內(nèi)就可以測(cè)量出各種表面材料上污染的油脂污染物的含量，測(cè)量結(jié)果直接以標(biāo)準(zhǔn)值或百分比示值表示，極大方便了用戶對(duì)產(chǎn)品質(zhì)量及數(shù)據(jù)的解讀和分析。

PULUODY系列表面清潔度檢測(cè)儀代表了快速油脂污染物測(cè)量的高水平和發(fā)展方向，科學(xué)應(yīng)用表面清潔度檢測(cè)儀可以實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)零部件表面清潔度狀況，提高生產(chǎn)效率，為用戶優(yōu)化生產(chǎn)工藝并帶來(lái)持續(xù)的效益。

功能特點(diǎn)：

測(cè)量精度：

選擇性高，靈敏度高，最低檢出限可達(dá)1ug/ml、0.01FU（RFU）或0.01%，適合于各類烷烴類、烯烴類、炔烴類、芳香烴、多環(huán)（或雜環(huán)）芳烴等石油基物（礦物油和合成油）質(zhì)及各種熒光物質(zhì)（C5~CN有機(jī)物）的痕量分析。

工 作 原 理：

PCS系列表面清潔度檢測(cè)儀采用PULUODY專有的熒光能量光譜檢測(cè)技術(shù)，

當(dāng)PCS熒光能量光譜激光器光子源照射到物質(zhì)上時(shí)，熒光的能量使原子核周圍的一些電子由原來(lái)的軌道躍遷到了能量更高的軌道，第一激發(fā)單線態(tài)或第二激發(fā)單線態(tài)等是不穩(wěn)定的，所以會(huì)恢復(fù)基態(tài)，當(dāng)電子由第一激發(fā)單線態(tài)恢復(fù)到基態(tài)時(shí)，能量會(huì)以光的形式釋放，所以產(chǎn)生光物質(zhì)中各種元素發(fā)出混和在一起的各自特征的熒光。這些特征的熒光具有特征的波長(zhǎng)或能量，每種熒光的強(qiáng)度與物質(zhì)中發(fā)出該種熒光元素的濃度相關(guān)。為了區(qū)分混和在一起的各元素的熒光，首先使用PCS熒光能量光譜探測(cè)器接收所有不同能量的熒光，通過(guò)探測(cè)器轉(zhuǎn)變成電脈沖信號(hào)，經(jīng)前置放大后，用多道脈沖高度分析器（MPHA）進(jìn)行信號(hào)處理，得到不同能量熒光的強(qiáng)度分布譜圖，儀器根據(jù)熒光的強(qiáng)度分布譜圖進(jìn)行分析，系統(tǒng)處理器利用先進(jìn)的算法就可以將其解算為表面的清潔程度。

技術(shù)參數(shù)：

可測(cè)油脂：油漬、油脂、冷卻潤(rùn)滑劑、切削液、蠟（C5~CN有機(jī)物）

測(cè)量示值：0~100%的油脂污染物相對(duì)清潔度

分 辨 率：0.01%

誤 差 率：0.5%

FU測(cè)量值：0~1950FU/清潔度

分 辨 率：0.01FU/清潔度

誤 差 率：0.5%

油膜厚度：0~9950mg/mm2

分 辨 率：0.1mg/mm2

誤 差 率：0.5%

測(cè) 量 點(diǎn)：0~1.5mm或0~5mm

測(cè)量距離：3.5~4.5mm或20mm

激 發(fā) 波：動(dòng)態(tài)X熒光

激發(fā)功率：150wn

檢測(cè)頻率：≥ 50 次/秒

標(biāo)準(zhǔn)參照：可在各類表面校準(zhǔn)

計(jì)量溯源：GBW或NIST溯源

儀器校準(zhǔn)：自動(dòng)校準(zhǔn)、手動(dòng)校準(zhǔn)和多點(diǎn)校準(zhǔn)

測(cè)量點(diǎn)數(shù)：可根據(jù)被測(cè)表面調(diào)整（1~5點(diǎn)）

通訊輸出：R485或R232

控制方式：PC機(jī)或工控機(jī)等

電源：可充電電池或電源適配器、220V