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淺析芯片設計中的LEF文件

sanyue7758 ? 來源:艾思后端實現(xiàn) ? 2023-07-31 10:59 ? 次閱讀

LEF和DEF是APR工程師工作中經(jīng)常會碰到的兩類文件,也會對APR的基礎配置和APR的flow產(chǎn)生直接的影響?;鞠喈斢贏PR物理設計的基礎建設。

LEF/DEF釋義和使用場景

APR工程師碰到的LEF和DEF文件,具體對應的全程和應用場景如下pic_center

文件名 全稱 場景
DEF Design Exchange FIle STA-PECO, APR數(shù)據(jù)交付以及重構,繞線/布局信息傳遞等和設計相事宜
LEF Library Exchange FIle 物理庫文件,工藝技術文件,APR層次化設計交付(配合ETM使用)

由上可見,里那個文件首字母不同也表征了他們之間的異同:LEF更偏重于庫,DEF則側重于設計。

APR工程師,經(jīng)常會用到各種庫或者庫的各種版本進行交互,今天這里就對LEF里邊的一兩個和APR有關的點滴做一些討論和解惑。

tech-LEF 通常是FAB交付,這方面通常都是很嚴謹?shù)?,不會有太多意外發(fā)生。但是對于IP的交付,不同vendor的策略有時候不太一樣,而且IP的LEF對floorplan,placement和routing通常會有直接的影響,在出現(xiàn)問題的時候,需要APR工程師進行定位。所以,如果能掌握LEF中的幾個關鍵信息,甚至在導入flow工具之前,可能就會有一些發(fā)現(xiàn);或者flow出現(xiàn)了一些異常,那么從閱讀LEF入手,可能也會得到比較快速的解決辦法?;谏希蠹乙黄饋砜纯春虯PR相關的LEF信息。閑言少敘,ICer Go!

tech-LEF的淺析

通常一個標準的LEF文件具備以下的格式
b519f66c-2df1-11ee-815d-dac502259ad0.png

這個格式是兼顧了tech-LEF和IP LEF兩種應用場景的。IP LEF的定義則是從字段MACRO開始,對于tech-LEF的主要字段,這里用一個簡單列表進行快速羅列

字段 釋義 示例
VERSION LEF 的版本 5.7
BUSBITCHARS 總線分割符 []
NAMESCASESENSITIVE 大小寫敏感 ON
UNITS 定義設計中各種單位的DBU(database unit)和Standard International轉換關系 DATABASE MICRONS 1000
USEMINSPACING 定義minspacing的應用場景 USEMINSPACING OBS OFF
MANUFACTURINGGRID 工藝生產(chǎn)格點,cell和routing需要保證的最小grid MANUFACTURINGGRID 0.001
SITE 對于std-ecll row的高度和寬度步進的約束 b53ed00e-2df1-11ee-815d-dac502259ad0.png
LAYER APR用到的各個層的定義,包括但不限于:
類型(TYPE)
間距(SPCING)
寬度(WIDTH)
面積(AREA)
中心距(pitch)等。
主要是用于約束router繞線規(guī)則和checker對繞線質量評估
b5542b7a-2df1-11ee-815d-dac502259ad0.png

對于C家的工具,同學們直接用tech-LEF就好了;如果是S家工具(ICC和ICC2),都需要用到FAB格外提供的technology file (TF)文件,這個文件基本可以等同于tech-LEF,只是流程不同而已。
tech-LEF更像是一個基于FAB-node的物理強需求,這些規(guī)則都會對APR工具對各種資源加以權衡和評測,包括但不限于:

APR資源 相關LEF設定
std-cell row SITE
track per-layer
(包括對NDR影響)
LAYER PITCH
layer schame LAYER
layer prefer routing direction LAYER DIRECTION
grid檢查 MANUFACTURINGGRID

APR工具會對tech-LEF進行解析,從而創(chuàng)建對應的物理設計約束。可以看到,在單位芯片面積下,tech-LEF的上述配置會決斷芯片最終的可用資源數(shù)量,工藝尺寸(SITE/PITCH/MANUFACTURINGGRIDetc.)越小的tech-LEF文件在各個定義點的數(shù)值也就會小,對應的片上資源就會越多。

IP LEF的淺析

對于IP的LEF文件,通常的會有遵循下述模板

b5bd1c2a-2df1-11ee-815d-dac502259ad0.png
為了兼容LEF5.8,在這個標準模板的后半段,會看到PROPERTY LEF58的字段,通常只有復雜工藝的復雜設計會用到,通常的IP交付,用非LEF5.8字段是足夠的。

類似的,APR工具會對IP的LEF進行解析,從而帶入IP 對布局,繞線等資源的影響,并在此影響下,完成對IP的集成和最終的GDS 合并(merge)。

CLASS

通常是多這個MACRO進行基本分類,這里羅列出他們的釋義以及對應S家,C家的工具標記

關鍵字 S家標記 C家標記
BLOCK mask_layout_type==macro cell.subClass ==block
RING mask_layout_type==macro cell.subClass ==blockRing
CORE mask_layout_type==std cell.subClass == core
PAD mask_layout_type==io_pad cell.subClass == pad
PAD SPACER mask_layout_type==io_pad cell.subClass == padSpacer

由于C家的flow是直接利用LEF,通常通過cell.subClass既可以直接得到LEF相關的信息,S家的是通過MW/NDM來基于LEF文件來創(chuàng)建的FRAME view提供給ICC/ICC2工具使用,這里會有一些語法正常的轉移,以ICC2為例,下表羅列了LEF到NDM FRAME 之間信息映射關系
b61a8298-2df1-11ee-815d-dac502259ad0.png

FOREIGN

這個是一個標記LEF和GDS之間的偏移量,如果IP的GDS設計的origin 沒有落在坐標原點,那么這里可能就會有一個非零數(shù)值,GDS起點是在第一象限則FOREIGN為負值,如果是在第三象限,則為正值,具體見下圖示例
b637d712-2df1-11ee-815d-dac502259ad0.png

ORIGIN

這個是指IP在放置的時候,相對于當前origin的偏移量,

假設有下列的IP 配置:

MACRO B1
......
ORIGIN X1 Y1
FOREIGN B1 X2 Y2

在APR的放置的坐標是:X3 Y3

那么最后B1的GDS polygon抽取的起點是 (X1+X2+X3 Y1+Y2+Y3)

對于通常的IP而言:X1=Y1=X2=Y2=0 。

對于有個GDS相對位移的IP而言:X1 + X2 =0 , Y1+Y2=0

從個人角度理解,這樣做的好處是可以縫合GDS偏移和頂層集成的誤差,讓最后的GDS-out 保持穩(wěn)定輸出。(如有理解偏頗,還望指正)

SIZE

這個字段是描述IP的寬度和高度的,語法格式是:SIZE WIDTH BY HEIGHT. 對于一個矩形的IP而言這個字段可以很方便的通過寬度和高度表達出這個IP的面積:SIZE=WIDTH*HEIGHT

細心的同學可以看到,這里對BLOCK的描述只能是一個簡單的矩形,這是LEF規(guī)則的一個限制。對于一個多邊形的MACRO需要有LAYER的支持。這個后面會講到。

SYMMETRY

定義IP的朝向(orientation)的限制因素。IP設計者需要關注自己IP在被頂層集成的時候可能會遇到反轉、鏡像等操作,通過這個句柄可以限制APR工具對IP進行有控制的反轉,這樣可以有效地避免IP朝向錯誤所導致的base DRC錯誤。這個對于IP用戶是非常重要的。可配置的選項如下:

朝向 解釋
如果不定義SYMMETRY,僅允許朝向N
X 允許水平反轉
Y 允許垂直反轉
R90 允許90度反轉,由于poly 的限制,這種只會在比較大的工藝節(jié)點構造里被允許可以 (memory可能會被排除)

對于常見的std-cell,通常都是可以水平和垂直反轉的,那么對應的SYMMETRY的寫法是:SYMMETRY X Y

SITE

對于比較規(guī)則的IP,SITE會比較有用,譬如std-cell和IO的site,這樣APR工具在創(chuàng)建core或者IO-ring的時候,就可以基于site對std-cell和IO進行自動布局,這也是APR placer工具做布局,合規(guī)化(legalized)基礎,對于普通IP這里也可以不做定義。但是對于先進工藝,

由于coloring/grid的問題,所以在IP上面(尤其是較有規(guī)律的SRAM)這個site的應用場景會變得更加豐富了。

PIN

這里是IP描述的主要部件,給用戶提供訪問IP的pin的物理位置信息,所有的坐標都是相對于當前IP的左下角(N 朝向)而言的。
b656131c-2df1-11ee-815d-dac502259ad0.png

這里分別給出信號pin和電源pin兩個示例。

對于信號pin,上述示例的信號pin是一個std-cell,為了M1的pin形狀需要用三個矩形來描述(rectangle),對應的VDD需要有多達六個矩形來描述

對于IP,通常的pin是abut到boundary的,而且是單rectangle的。示例如下
b6887ed8-2df1-11ee-815d-dac502259ad0.png
這個是用戶使用IP LEF較常用的一種格式。這里有幾個地方需要注意

IP的pin需要和IP的boundary貼合,方便外界訪問,如果做不到貼合。那么OBS的創(chuàng)建需要注意,至少保證pin可以通過drop via進行訪問

IP的pin的width需要滿足當前層的min-width需求,長度建議1um,方便繞線和GUI觀察

pin和pin之間需要至少控制一個track,這樣可以滿足潛在的HV spacing 需求

b6aa3032-2df1-11ee-815d-dac502259ad0.png

從上述例子可以看出,LEF也是支持antenna的信息的,這樣可以支持APR工具在只有LEF的時候也可以對antenna進行評估和修復。

OBS
OBS是Obstruction的縮寫,故名思意是對IP的遮擋,對于IP的應用,通常會牽扯到兩類遮擋,這個和APR的常規(guī)的處理非常相似,

放置遮擋(placement OBS):對APR工具的放置進行阻止

繞線遮擋(routing OBS):對APR工具的繞線進行阻止
由于IP都要自己的SIZE(boundary),如果用戶不在這里OBS的句柄里邊額外定義,那么IP的SIZE描述的區(qū)域都是不能放置其他器件的。
在前文有說道,SIZE只支持矩形,但是如果有了OBS配合就可以支持多邊形了。

b6eeb3c4-2df1-11ee-815d-dac502259ad0.png

這里使用OBS調(diào)用OVERLAP 類型的LAYER對IP的SIZE進行切割,這樣就形成了一個多邊形了。這里的OVERLAP是一個特殊層,需要在tech-LEF里邊進行預先定義,具體實例如下
b6fb7c44-2df1-11ee-815d-dac502259ad0.png
這樣在APR工具里邊就可以看到一個多邊形IP了。
對于繞線遮擋,OBS通過調(diào)用routing /cut LAYER 來進行定義。通常如果IP的頂層是M4,那么IP的出pin 也會在M4 和 M3(M4-1)層。這樣的規(guī)則和APR的partition策略比較相像。
但是通常,出pin的位置都是需要外界繞線直接訪問的,所以出pin的位置是不能就想遮擋的,如果IP的頂層是M4,那么最多有一些M4的資源可以始放出來,M4一下的M3/2/1都應該進行遮擋,否則APR工具會在上邊走線,這也是OBS存在的重要價值所在。

廢話不說,有圖有真相

b71b6acc-2df1-11ee-815d-dac502259ad0.png

從上圖可見,這里的IP有一個M1貼合boundary的pin,同時這個IP被M1的OBS覆蓋了,但是在LEF規(guī)則里,pin bbox擁有覆寫OBS的特性,所以在M1 品德周遭,會產(chǎn)生一個OBS空白區(qū),具體跟進pin widh和對應的spacing來調(diào)整,這個通過S家的MW,可以很明顯的看到

b73148ba-2df1-11ee-815d-dac502259ad0.png
結合上邊的理論,一個比較簡單的IP的OBS的寫法如下
b76c02a2-2df1-11ee-815d-dac502259ad0.png

無論是tech-LEF還是IP LEF,都是遵循LEF語法的,可以合并到一起,但是通常由于vendor不同,IP的LEF只關注MACRO 以內(nèi)的信息,剩下的基本都交由tech-LEF完成,如果用戶需要全局的定義更改,請移步tech-LEF進行優(yōu)化。如果是VIAGEN rule或者NDR rule的更新,也可以項目/工藝的角度進行追加,這種配置更偏向于tech-LEF。
LEF里的關鍵字有很多。LEF通常也是使用abstract工具從GDS里邊抽取出來的,由于APR工具對LEF的強依賴,對于APR工程師,需要可以看到常規(guī)的語法就可以,在出現(xiàn)問題的時候可以找到對應的原因和解法,最終還是為了更為高效的推進APR工作。

【敲黑板劃重點】

能夠閱讀LEF是一個APR工程師錦上添花的一個技能,對于快速定位工藝,交付問題可以起到事半功倍的效果。

審核編輯:湯梓紅

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原文標題:芯片設計中的LEF文件淺析

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