繼半導(dǎo)體后 韓國(guó)將顯示專(zhuān)利申請(qǐng)指定為優(yōu)先審查對(duì)象

知識(shí)產(chǎn)權(quán)機(jī)構(gòu)韓國(guó)特許廳31日表示，從11月1日開(kāi)始的一年時(shí)間里，將國(guó)內(nèi)研究開(kāi)發(fā)和生產(chǎn)的顯示器領(lǐng)域的專(zhuān)利申請(qǐng)指定為優(yōu)先審查對(duì)象。

其中包括與顯示器材料、配件、裝備、制造、設(shè)計(jì)技術(shù)直接相關(guān)的申請(qǐng)、在國(guó)內(nèi)生產(chǎn)或準(zhǔn)備生產(chǎn)顯示器相關(guān)產(chǎn)品、裝備等的企業(yè)的申請(qǐng)、與顯示器相關(guān)的國(guó)家研究開(kāi)發(fā)（r&d）事業(yè)的成果相關(guān)的申請(qǐng)等。

專(zhuān)利廳預(yù)計(jì)，通過(guò)該制度，平均需要16個(gè)月左右的一般專(zhuān)利審查周期將減少到平均2個(gè)月以?xún)?nèi)。

與此同時(shí)，將于10月31日結(jié)束的半導(dǎo)體領(lǐng)域的優(yōu)先審查對(duì)象的指定也將延長(zhǎng)1年。如果申請(qǐng)與半導(dǎo)體材料、零部件、裝備、制造、設(shè)計(jì)技術(shù)直接相關(guān)的專(zhuān)利，就可以?xún)?yōu)先接受審查。

另外，考慮到在申請(qǐng)優(yōu)先審查時(shí)，很難預(yù)測(cè)專(zhuān)利分類(lèi)（cpc）是否合適的情況較多，決定刪除現(xiàn)有的半導(dǎo)體相關(guān)專(zhuān)利分類(lèi)條件。

據(jù)悉，在顯示器領(lǐng)域的國(guó)際專(zhuān)利糾紛不斷深化的情況下，此舉是為了支援韓國(guó)企業(yè)盡快獲得專(zhuān)利。