IBM、美光、應(yīng)用材料、東京電子宣布合作建設(shè) High-NA EUV 研發(fā)中心
12 月 12 日消息，今天早些時(shí)候，紐約州長凱西?霍楚爾（Kathy Hochul ）宣布與 IBM、美光、應(yīng)用材料、東京電子（東京威力科創(chuàng)）等半導(dǎo)體巨頭達(dá)成合作，投資 100 億美元，在紐約州 Albany NanoTech Complex 建設(shè)下一代 High-NA EUV 半導(dǎo)體研發(fā)中心。
根據(jù)聲明，負(fù)責(zé)協(xié)調(diào)該設(shè)施建設(shè)的非營利性機(jī)構(gòu) NY Creates 將利用 10 億美元州政府資金向 ASML 采購 TWINSCAN EXE:5200 ***。
紐約州表示，一旦機(jī)器安裝完畢，該項(xiàng)目及其合作伙伴將開始研究下一代芯片制造。官方聲明指出，該項(xiàng)目將創(chuàng)造 700 個(gè)工作崗位，并帶來至少 90 億美元的私人投資。
此外，官方還強(qiáng)調(diào)，這將是北美第一個(gè)也是唯一一個(gè)擁有 High-NA EUV 光刻系統(tǒng)的公有研發(fā)中心，將為開發(fā)和生產(chǎn) 2nm 節(jié)點(diǎn)甚至更先進(jìn)的芯片鋪平道路。
審核編輯 黃宇
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1. ASML 今年將向臺積電、三星和英特爾交付High-NA EUV ? 根據(jù)報(bào)道，芯片制造設(shè)備商ASML今年將向臺積電、英特爾、三星交付最新的高數(shù)值孔徑極紫外光刻機(jī)(High-NA EUV
發(fā)表于 06-06 11:09
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