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高可靠性鍵合金線-RelMax介紹

科技訊息 ? 來源:科技訊息 ? 作者:科技訊息 ? 2023-12-26 15:16 ? 次閱讀

根據(jù)應(yīng)用場景不同,半導(dǎo)體器件通常可以分為4大類:消費類電子、工業(yè)級電子、汽車電子、軍工產(chǎn)品。目前市場上消費類電子及工業(yè)級電子以銅線或鍍鈀銅線、金鈀銅線為主,汽車電子仍以金線為主。隨著汽車市場的復(fù)蘇尤其是新能源車市場的火熱,對電子元器件的需求量也是與日俱增,對其可靠性要求也是越來越高。

所謂“車規(guī)級元器件”需要通過AEC-Q認(rèn)證,例如AEC-Q100適用于IC產(chǎn)品,AEC-Q101適用于分立器件,AEC-Q102適用于光電子器件等。其中,AEC-Q100 又包含4個等級,G0最高,G3最低,以下表中列出了不同等級對應(yīng)的具體可靠性項目及條件:

wKgaomWKfa6AFhTUAADC1Wsbamk911.jpg

表1. AVR181: Automotive Grade0 - PCB and AssemblyRecommendations

隨著汽車電子器件對高可靠性的需求,相應(yīng)對其內(nèi)部的封裝材料也提出了更高的要求。在此,我們就

高可靠性金線

的特性做一些分享,看其是如何滿足高可靠性器件的需求。

在介紹產(chǎn)品前,我們先來了解一些金線的關(guān)鍵特性,其中一個非常關(guān)鍵的特性就是熱影響區(qū)。

wKgZomWKfa-AJXgdAABrM_3iaow784.jpg

圖1. 金線的關(guān)鍵特性描述

熱影響區(qū)

,以下簡稱HAZ:在燒球的過程中高溫會熔化金線形成FAB,在這一過程中熱會沿著線的方向傳導(dǎo),使靠近FAB區(qū)域的這段金線的晶粒結(jié)構(gòu)發(fā)生變化,變得粗大,線變軟。這部分區(qū)域即為HAZ,長度通常在幾十到幾百微米。HAZ是金線非常重要的一個特性,它直接影響線材的線弧能力,通常HAZ越短的金線可以做的線弧高度更低,適合低弧、長弧應(yīng)用。

wKgaomWKfbCAMsAHAACXFVPFGC0202.jpg

圖2. 熱影響區(qū)的描述

從線材角度來講,不同摻雜類型和含量會影響HAZ的長度。

為何摻雜類型會影響HAZ的形成呢?主要原因是不同摻雜元素的再結(jié)晶溫度不同,例如Ca摻雜會使球頸部的再結(jié)晶溫度大于300°C以上。因此,即使是4N金線,由于摻雜類型的不同會存在不同長度的HAZ。

以下表2中列出了HET部分金線型號HAZ的長度。通過以下數(shù)據(jù)可以看出,在不同F(xiàn)AB尺寸的條件下HAZ長度會略有差異,通常FAB尺寸大,HAZ會更長一些,其主要原因是在燒大球時,F(xiàn)AB需要更大的熱量來融化線材,大熱量會使球頸部變化更顯著,會增加HAZ的長度。所以,如果在WB過程中出現(xiàn)了球頸部裂紋的問題,可以考慮適當(dāng)減小燒球參數(shù)來改善頸部的強度。

wKgZomWKfbCAaOuKAACdR3IXJzY279.jpg

表2. 不同型號的金線HAZ長度對比

第一焊點:

它的外形、硬度、合金元素等會影響與Pad表面的結(jié)合情況,尤其影響可靠性。

以下表3中是常用線材與AlPad結(jié)合后的可靠性表現(xiàn),其中Au/AlIMC生長速率較快,這主要取決于材料的原子價態(tài)、原子半徑、擴散率等因素。如果一種原子比另外一種擴散的更快,它將在后面留下空缺,這些空缺聚集在一起就形成了

柯肯達(dá)爾空洞

,此類空洞連接到一起就會使球脫落,導(dǎo)致產(chǎn)品開路失效。

圖3所示 Au/Al 150℃存儲1000小時后IMC層照片,所以如果希望提升金線高溫存儲的能力,就需要延緩Au/Al IMC生長的速率。

wKgaomWKfbGAbj2JAACnRLTcIs0550.jpg

表3. 不同材料與Al結(jié)合后的可靠性表現(xiàn)

wKgZomWKfbGANrw7AAA21AC9sWg353.jpg

圖3. Au與AlIMC形成柯肯達(dá)爾空洞(150℃/1000h)

針對這種情況,HET有一款很好的產(chǎn)品推薦給客戶,產(chǎn)品名稱:

化學(xué)成份

金含量:99%

產(chǎn)品基本特征描述:

· 出色的第一焊點可靠性。

· 無鹵,適合框架類和基板類產(chǎn)品的應(yīng)用。

· FAB軟,同軸度較好,特別適合小間距產(chǎn)品。

· 細(xì)線強度高,適合于降低線徑的項目。

我們從FAB硬度、第一焊點球形、第二焊點工藝窗口、高溫存儲的能力等方面來全面了解一下這款金線。

FAB硬度:

RelMax 會比同類型的金線軟,對Pad沖擊力更小,會有力的保護Pad不受損傷。

wKgZomWKfbKAfi5SAAAiXmaydV4665.jpg

圖4.FAB硬度對比(15μm線徑,25μmFAB)

第一焊點球形:

RelMax同軸度會更好,不容易出現(xiàn)偏心球等異常,特別適合Pad開窗比較小的產(chǎn)品應(yīng)用。

wKgaomWKfbSAOI4fAADKw0xuEX8680.jpg

圖5.球形同軸度對比

第二焊點工藝窗口:

RelMax的工藝窗口明顯更大,這里的FP2為HET另外一款2N金線,其硬度較高,導(dǎo)致第二焊點工藝窗口較小。

wKgZomWKfbWAIE2IAACb5FQTfzQ962.jpg

圖6. 第二焊點工藝窗口對比(1mil金線,BGA)

高溫存儲可靠性:

高溫存儲后進行拉力測試,測試部位為球頸部,結(jié)果顯示0.8mil175℃ 10000h沒有出現(xiàn)球脫落的情況;另外一組0.6mil200℃5000h同樣沒有問題。

wKgaomWKfbaALAJqAACyz8TTVc0993.jpg

圖7.拉力測試(0.8mil,BGA 1μm AlSi1%Cu0.5% Pad)

wKgZomWKfbaAYCLEAAB4EB03HJ8656.jpg

圖8. 175℃存儲1000hIMC

wKgaomWKfbeAVtc4AACmAQU7wIs442.jpg

圖9. 拉力測試(0.6mil,BGA 1μm AlSi1%Cu0.5% Pad)

wKgZomWKfbiAS1iWAADGZxOtqS8359.jpg

圖10.相對穩(wěn)定的IMC,5000h只有輕微空洞

RelMax金線為何能提高可靠性?

主要是其摻雜中富含Pd元素,在高溫存儲階段,隨時間的推移會形成Pd阻礙層,延緩Au/Al之間的擴散速率,抑制了Au向Au/Al IMC層繼續(xù)擴散,從而提升了高溫存儲的能力。參考以下EPMA的分析結(jié)果,可以清楚的看到Pd層分布在Au與AuAl化合物中間。

wKgaomWKfbiAFRdIAAAl1QWy0Qg663.jpg

圖11. EPMA分析,檢測到Pd層的分布

wKgZomWKfbmAWfdHAABhEXXnI_M472.jpg

圖12.Pd阻礙層作用(示意圖)

總結(jié):在什么樣的應(yīng)用條件下可以選RelMax

· 小間距/超小間距的高可靠性產(chǎn)品應(yīng)用

· 需要降低線徑同時兼顧高可靠性的產(chǎn)品。

· LowK

芯片敏感的產(chǎn)品應(yīng)用。

· 適合4N金線轉(zhuǎn)換2N金線的項目。

· 改善2N金線的MTBA。

目前這款產(chǎn)品已經(jīng)在業(yè)界穩(wěn)定量產(chǎn)使用,歡迎大家咨詢。賀利氏電子依托其強大的研發(fā)實力及持續(xù)不斷的研發(fā)投入,定會為廣大客戶提供更加卓越的鍵合線產(chǎn)品,助力傳統(tǒng)封裝持續(xù)發(fā)展!

審核編輯:湯梓紅

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