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英特爾:未來節(jié)點(diǎn)演進(jìn)版性能提升預(yù)計(jì)不超過10%

微云疏影 ? 來源:綜合整理 ? 作者:綜合整理 ? 2024-02-22 15:05 ? 次閱讀

據(jù)悉,英特爾在IFS Direct Connect大會上公布了其未來節(jié)點(diǎn)升級版的性能指針,表明開發(fā)每一次的PPA(即功率、性能和面積)增長不會超出10%。

IT界注意到,PPA是衡量先進(jìn)制程能力的重要量衡,代表著功耗、性能以及邏輯密度的集成效果。

英特爾已經(jīng)宣布,未來部分制程節(jié)點(diǎn)將有特殊升級版本,采用“P”、“T”、“E”等后綴表示性能強(qiáng)化、用于3D堆疊的SiP以及功能拓展等特點(diǎn)。

Andreas Schilling指出,英特爾CEO帕特·基辛格承諾“P”和“E”兩大類型的升級版節(jié)點(diǎn)在PPA方面可提升5+%。至于Intel 7/4/3/20A/18A等主要制程節(jié)點(diǎn),預(yù)計(jì)每步的PPA提升將達(dá)到14~15+%。

援引Anandtech和More Than Moore先前報(bào)導(dǎo),我們得知臺積電近期演進(jìn)版節(jié)點(diǎn)的增強(qiáng)也在這個(gè)范圍內(nèi)。詳細(xì)數(shù)據(jù)如下:

wKgZomXW8jCADnU9AAAp6bsxqF0585.png

除此之外,英特爾正準(zhǔn)備為顧客提供更多選擇:負(fù)責(zé)代工業(yè)務(wù)的斯圖爾特·潘在IFS Direct Connect活動前受Tom‘s Hardware采訪時(shí)表示,愿意攜手EDA合作伙伴,共同研發(fā)類似于英偉達(dá)4N(基于臺積電5nm工藝)這樣的定制節(jié)點(diǎn)。

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