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芯片和先進封裝的制程挑戰(zhàn)和解決方案

KLA Corporation ? 來源:KLA Corporation ? 2024-09-25 10:16 ? 次閱讀

當(dāng)今世界,人工智能的迅猛發(fā)展已經(jīng)成為熱門話題,當(dāng)人們都在關(guān)注它將如何改變我們未來生活的時候,身處芯片業(yè)的工程師們開始關(guān)注如何在有限的物理空間內(nèi),將芯片的性能提升到更高的水平,以及如何在單位體積內(nèi)集成更多的晶體管,以滿足高性能計算的需求;人工智能對高性能計算的需求是無止盡的,然而,當(dāng)單位體積內(nèi)集成的晶體管數(shù)量受到物理極限的限制時,我們必須尋找新的解決方案來延續(xù)其擴展性。

那么,新的方向在哪里呢?答案就在異構(gòu)集成、先進封裝或者Chiplet等技術(shù)上。這些技術(shù)正在悄然興起,它們將為芯片制造業(yè)帶來新的機遇和挑戰(zhàn)。異構(gòu)集成技術(shù)可以將不同類型、不同功能的芯片模塊集成在一起,從而實現(xiàn)更高的性能和效率。先進封裝技術(shù)則可以將多個芯片封裝在一起,形成一個更大的芯片,從而提高算力。異構(gòu)集成、先進封裝或者Chiplet等技術(shù)的應(yīng)用,將為芯片制造業(yè)帶來新的生機,也將進一步推動人工智能等技術(shù)的發(fā)展 。

1芯片和先進封裝的制程挑戰(zhàn)

面臨物理極限帶來的挑戰(zhàn)和對高性能計算的迫切需求,異構(gòu)集成和先進封裝技術(shù)應(yīng)運而生。如果我們把單位體積內(nèi)集成的晶體管數(shù)量理解成Vertical (縱向發(fā)展),異構(gòu)集成就是Horizontal(橫向發(fā)展),那么我們可以利用更大的橫向擴展并聯(lián)合更多芯片來彌補單顆芯片晶體管數(shù)量的限制。

異構(gòu)集成可以有效延續(xù)高性能計算的擴展需求,但在實際制造過程中并非一帆風(fēng)順,否則也不會成為當(dāng)下的熱門話題。簡單多芯片組合封裝并不是高新科技,然而把所有尖端的芯片集成一體并保證其性能數(shù)倍增長,這種集成看似簡單可行,實則不得不靠犧牲部分良率才能有限獲得,這主要是由于采用新的制造工藝、新的材料,以及FE(前道)和BE(后道)的制程混合應(yīng)用(如圖1)等帶來的挑戰(zhàn);這種制造工藝雖然從性能上可以維持摩爾定律的發(fā)展,但是也帶來更多制造和良率的挑戰(zhàn)(圖2)。

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圖1

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圖2

Bumping 連接密度帶來的挑戰(zhàn):當(dāng)橫向擴展使單位面積內(nèi)的芯片數(shù)量得到提升,接下來需要去解決與之匹配的芯片到芯片的傳輸速率問題,先進封裝的混合鍵合Bumping制程,就是其中的方案,Bumping間距越來越?。▓D3),這種封裝技術(shù)雖然讓芯片之間具備更短的連接路徑和更多的連接數(shù)量,但是如何互連KGD(無缺陷芯片)并不容易;特別是當(dāng)前異構(gòu)集成制造生態(tài)還沒有完全成熟并還在不斷演變的狀況下,需要更可靠的制程控制與良率管理解決方案來幫助其穩(wěn)定的投入量產(chǎn), 混合鍵合成為異質(zhì)集成的關(guān)鍵轉(zhuǎn)折。

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圖3

2芯片和先進封裝制程控制解決方案

異構(gòu)集成和先進封裝的混合鍵合工藝是擴展各類封裝與應(yīng)用的關(guān)鍵技術(shù)?;旌湘I合的主要優(yōu)勢是通過提高互連密度從而提升速度、帶寬和電源效率;混合鍵合的 W2W(晶圓到晶圓)集成是用于制造CMOS圖像傳感器和3D NAND的關(guān)鍵;混合鍵合的D2W(芯片到晶圓)集成多用于 AI 邏輯芯片和高帶寬存儲器。這些在各個工藝段復(fù)雜的制程,給最終成品良率帶來巨大的挑戰(zhàn),怎樣保證最終的成品良率并可批量生產(chǎn),制程控制與良率管理生產(chǎn)工具至關(guān)重要。KLA提供專業(yè)的、通過產(chǎn)業(yè)界充分驗證過的制造、檢測與量測解決方案(圖4)

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圖4

3結(jié)語

如果人工智能的高性能計算需求引領(lǐng)了異構(gòu)集成和先進封裝的浪潮,那么克服良率和產(chǎn)能的挑戰(zhàn)就是KLA開發(fā)創(chuàng)新型技術(shù)不可或缺的一部分,我們可以想象因一個集成芯片的缺陷而導(dǎo)致昂貴的多芯片封裝報廢或者額外的篩查,這種損失是不可接受的。KLA致力于研發(fā)封裝制程綜合解決方案,包括制程方案:保證制造過程中的良率;量測方案:對生產(chǎn)工藝過程量化分析控制,確保新產(chǎn)品和量產(chǎn)中的工藝誤差時刻在規(guī)格范圍內(nèi);檢測方案:有效管理每一片在制產(chǎn)品的良率,從而確保最終良率長期可管可控。KLA將這些經(jīng)驗與廣泛的良率管控、檢測和量測系統(tǒng)相結(jié)合,致力于成為先進封裝制造商們的理想合作伙伴。

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原文標(biāo)題:芯片和封裝技術(shù)發(fā)展趨勢

文章出處:【微信號:KLA Corporation,微信公眾號:KLA Corporation】歡迎添加關(guān)注!文章轉(zhuǎn)載請注明出處。

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