新型鍵合材料對(duì)于在高級(jí)半導(dǎo)體制造工藝中保持超薄晶圓的完整性至關(guān)重要。有了新型材料的配合,臨時(shí)鍵合在晶圓減薄工藝中愈發(fā)成為可能。
隨著半導(dǎo)體晶圓制程對(duì)縮小特征尺寸和引入全尺寸3D集成需求高漲,晶圓越來(lái)越薄。雖然現(xiàn)在已經(jīng)有了將晶圓減薄至低于100微米的工藝,但獲得更薄晶圓(<50 μm)的代價(jià)卻是令它們變得極度脆弱,因?yàn)樯疃鹊臏p薄工藝和后端的金屬化工藝會(huì)給超薄晶圓施加額外應(yīng)力,從而導(dǎo)致翹曲或斷裂。
晶圓減薄工藝包括用聚合物鍵合材料,將器件晶圓暫時(shí)接合到承載晶圓上,并通過苛刻的后端穩(wěn)定晶圓工藝來(lái)支撐超薄的器件襯底。至于剝離技術(shù),三種主流的剝離晶片襯底的方法有:熱滑動(dòng)剝離、機(jī)械剝離和激光剝離,其中發(fā)展最迅速的為后兩種剝離技術(shù)。
下表整理了三種剝離方法的主要特性:
熱滑動(dòng)剝離、機(jī)械剝離和激光剝離法正成為下一代超薄半導(dǎo)體晶圓的關(guān)鍵推動(dòng)力。三種方法各有優(yōu)勢(shì),技術(shù)工藝也在不斷取得進(jìn)步,為先進(jìn)封裝應(yīng)用領(lǐng)域帶來(lái)創(chuàng)新推動(dòng)力。下一代超薄晶圓制造業(yè)中,臨時(shí)鍵合正在飛速發(fā)展,這些剝離方法也將在半導(dǎo)體行業(yè)得到更多的應(yīng)用。
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