如何區(qū)分機器視覺明場照明與暗場照明

反射光與光源角度相同。明場：光線反射后進入照相機。暗場：光線反射后未進入照相機。

明場照明:

1.對形成高對比度有益，但反光表面會生成鏡面反射；

2.光源范圍應(yīng)在照相機透鏡視野的兩倍處；

3.避免 “熱點”: 漫射光源在明場提供均勻照明。

暗場照明:

1.漫射光被反射進入照相機但鏡面反射光線被反射離開；

2.光源在“W”之外 ；

3.除有紋理的表面和凸高變化的表面之外，光線被反射而不進入照相機。

明場像與暗場像都有什么區(qū)別呢

一個是透射束成像，一個是衍射束成像

透射電鏡圖像分為試樣的顯微像和衍射花樣，這兩種像分別為不同電子成像，前者是透射電子成像，后者為散射電子成像。

透射電鏡中，不僅可以選擇特定的像區(qū)進行電子衍射（選區(qū)電子衍射），還可以選擇成像電子束。（選擇衍射成像）

明場像（BF）：選用直射電子形成的像（透射束），像清晰。

暗場像（DF）：選用散射電子形成的像（衍射束），像有畸變、分辨率低。

成像電子的選擇是通過在物鏡的背焦面上插入物鏡光闌來實現(xiàn)的。

中心暗場像（CDF）：入射電子束對試樣傾斜照明，得到的暗場像。像不畸變、分辨率高。

暗場成像條件下，成像電子束偏離透射電鏡的光軸，造成較大的像差，成像質(zhì)量差，為獲得高質(zhì)量暗場像，采取中心暗場成像。即入射電子束反向傾斜一個相應(yīng)的散射角度，使散射電子沿光軸傳播。

所謂明場，暗場成像只是對低倍觀察時說的。

一般來說，觀察形貌我們都比較喜歡用明場像，因為成像襯度好（尤其是加了合適的光闌），形變小。其主要表現(xiàn)為厚度襯度，對厚度敏感。

而觀察缺陷如位錯，孿晶的時候喜歡用暗場像，因為暗場像是來自于選定的某個衍射束，對應(yīng)于晶體特定的晶面。在缺陷地方，電子衍射的方向和完整的地方不一樣，從而使得缺陷地方能夠在暗場像上清楚的顯示出來。而明場像因為是多個衍射束的成像，對缺陷不敏感，雖然有時候也能反應(yīng)出缺陷，但是及其模糊。其主要表現(xiàn)為衍射襯度。也就是對衍射面敏感。

比如說一個孿晶材料，對于明場，孿晶界面很淡，但是選擇合適的衍射點做暗場像可以很清楚的看見孿晶界面。而且選擇其中一個晶體特有的衍射點，做暗場可以發(fā)現(xiàn)只有這一個晶體出現(xiàn)在圖像上，而另外一個晶體看不見。

對于暗場一個重要的用途是觀察層錯，比如說立方晶系里面的111方向的層錯用明場像無法看出來。因為有缺陷和無缺陷的地方厚度一樣。但是暗場像在特定的方向觀察時，可以觀察到三角形或者蝴蝶狀甚至金字塔裝的襯度明暗條紋。這個時候用到的一個TEM技術(shù)叫做雙束。