臺積電 | 首次加入EUV極紫外光刻技術 7nm+工藝芯片已量產(chǎn)

臺積電官方宣布，已經(jīng)開始批量生產(chǎn)7nm N7+工藝，這是臺積電第一次、也是行業(yè)第一次量產(chǎn)EUV極紫外光刻技術，意義非凡。

臺積電表示，7nm+ EUV工藝的良品率已經(jīng)提高到和初代7nm同樣的水平，將今年帶動7nm工藝芯片的產(chǎn)能顯著提升。預計2019年的總產(chǎn)能折合可達1200萬塊300mm晶圓，其中7nm工藝的會有100萬塊，比去年猛增150％。

根據(jù)此前消息，***工藝，有望用于Mate 30系列。臺積電方面已經(jīng)明確表示向華為供貨。另外蘋果的A13也已經(jīng)鎖定臺積電7nm+，今年的新iPhone就靠它了。

另外臺積電還有個過渡性質的6nm工藝，基于7nm改進而來，預計2020年第一季度試產(chǎn)，非常適合現(xiàn)有7nm工藝用戶直接升級。

臺積電還透露，目前也正穩(wěn)步推進下一代5nm工藝，位于***南部科技園的新工廠Fab 18已經(jīng)開始設備搬遷與安裝，將在明年投產(chǎn)時直接上馬5nm，全面應用EUV技術，已經(jīng)開始風險性試產(chǎn)，預計2020年第一季度量產(chǎn)，并為未來的3nm工藝做好準備。