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等離子拋光設(shè)備常見的問題

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單頭離子風(fēng)機(jī)和多頭離子風(fēng)機(jī)的區(qū)別

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SK海力士研發(fā)可重復(fù)使用CMP拋光墊技術(shù)

需要指出的是,CMP 技術(shù)通過化學(xué)與機(jī)械作用使得待拋光材料表面達(dá)到所需平滑程度。其中,拋光液中化學(xué)物質(zhì)與材料表面發(fā)生化學(xué)反應(yīng),生成易于拋光的軟化層。拋光墊和研磨顆粒則負(fù)責(zé)物理機(jī)械拋光,清除這一軟化層。
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2023-09-22 07:54:27

等離子消融手術(shù)系統(tǒng)的全橋逆變輸出電路設(shè)計(jì)方案

為了提高等離子消融手術(shù)系統(tǒng)的頻率輸出,提出一種新型的全橋拓?fù)浣Y(jié)構(gòu)。應(yīng)用LCR諧振原理,對(duì)傳統(tǒng)的全橋逆變拓?fù)浣Y(jié)構(gòu)進(jìn)行改進(jìn),當(dāng)諧振電路工作在恰當(dāng)?shù)膮^(qū)域可以實(shí)現(xiàn)開關(guān)管的零電壓的開通和近似零電壓的關(guān)斷,能
2023-09-20 07:38:22

化學(xué)機(jī)械拋光(CMP) 技術(shù)的發(fā)展應(yīng)用及存在問題

納米級(jí)[1] 。傳統(tǒng)的平面化技術(shù)如基于淀積技術(shù)的選擇淀積、濺射玻璃 SOG、低壓 CVD、等離子體增強(qiáng) CVD、偏壓濺射和屬于結(jié)構(gòu)的濺射后回腐蝕、熱回流、淀積 —腐蝕 —淀積等 , 這些技術(shù)在 IC
2023-09-19 07:23:03

等離子體納米結(jié)構(gòu)的光譜成像

背景 Adi Salomon 教授的實(shí)驗(yàn)室主要致力于了解納米級(jí)分子與光的相互作用,并構(gòu)建利用光傳感分子的設(shè)備。該小組設(shè)計(jì)并制造了金屬納米結(jié)構(gòu),并利用它們通過與表面等離子體激元的相互作用來影響納米級(jí)
2023-09-19 06:28:29223

幾種常見嵌入式設(shè)備通信協(xié)議

幾種常見嵌入式設(shè)備通信協(xié)議
2023-09-18 16:43:23988

CMP拋光液市場(chǎng)高速增長,到2023年市場(chǎng)規(guī)模將達(dá)到25億美元

得益于半導(dǎo)體業(yè)界的繁榮,世界cmp拋光液市場(chǎng)正在經(jīng)歷明顯的增長。cmp拋光液是半導(dǎo)體制造中的關(guān)鍵成分,在實(shí)現(xiàn)集成電路制造的精度和效率方面發(fā)揮了關(guān)鍵作用。隨著技術(shù)的發(fā)展,半導(dǎo)體的格局不斷重新形成,對(duì)cmp拋光液的需求從來沒有這么高過。
2023-09-14 10:28:36663

常見的除靜電設(shè)備有哪些?

在工業(yè)生產(chǎn)中,往往會(huì)產(chǎn)生大量的靜電和灰塵,影響設(shè)備運(yùn)行效率。這時(shí)候我們就需要除靜電設(shè)備了,常用到的靜電消除器有離子風(fēng)槍、離子風(fēng)機(jī)、離子風(fēng)棒、離子風(fēng)嘴等。 1、離子風(fēng)槍是一種手持式靜電消除器,風(fēng)力
2023-09-12 09:30:17866

離子電池的等效電路建模簡析

近年來,鋰離子電池作為最常見的儲(chǔ)能設(shè)備(電動(dòng)汽車、固定式蓄電池等)在許多應(yīng)用中得到了應(yīng)用。
2023-09-11 14:39:101219

等離子

電路元器件電容晶體管電子技術(shù)電子diy
學(xué)習(xí)電子知識(shí)發(fā)布于 2023-08-30 23:03:15

等離子體旋渦立場(chǎng)

電阻電路元器件電子技術(shù)電池
學(xué)習(xí)電子知識(shí)發(fā)布于 2023-08-30 23:02:44

平面拋光機(jī)的工藝要求

光學(xué)加工是一個(gè)非常復(fù)雜的過程。難以通過單一加工方法加工滿足各種加工質(zhì)量指標(biāo)要求的光學(xué)元件。平面拋光機(jī)的基礎(chǔ)是加工材料的微去除。實(shí)現(xiàn)這種微去除的方法包括研磨加工、微粉顆粒拋光和納米材料拋光。根據(jù)
2023-08-28 08:08:59355

使用銅納米結(jié)構(gòu)控制等離子

來自斯圖加特大學(xué)(德國)的 Harald Gie?en 教授的團(tuán)隊(duì)正在致力于將光子學(xué)和納米技術(shù)用于新的應(yīng)用和設(shè)備。研究人員正在研究通過控制等離子體效應(yīng)來創(chuàng)建顯示器的技術(shù)。等離激元學(xué)研究光與金屬納米
2023-08-23 06:33:33215

等離子體顯示器與液晶顯示器相比有何特點(diǎn) 等離子體顯示器的顯示原理

等離子體顯示器在對(duì)比度、視角和響應(yīng)速度等方面的優(yōu)勢(shì)較為顯著,適合用于娛樂和家庭影院等方面;而液晶顯示器則在功耗、分辨率和便攜性等方面有一定的優(yōu)勢(shì),適合辦公和移動(dòng)設(shè)備等領(lǐng)域。選擇時(shí),可以根據(jù)使用需求和個(gè)人偏好來進(jìn)行選擇。
2023-08-10 14:38:36766

傳統(tǒng)型離子風(fēng)棒的用途

隨著社會(huì)的不斷進(jìn)步,在電子行業(yè)、生產(chǎn)車間、半導(dǎo)體行業(yè)用到防靜電離子風(fēng)棒越來越廣泛。 離子風(fēng)棒是一種固定式消除靜電的專用設(shè)備。屬于棒式除靜電產(chǎn)品的一種。具有安裝簡易、工作穩(wěn)定、消除靜電速度快的特點(diǎn)
2023-08-09 10:30:49379

半導(dǎo)體行業(yè)中的化學(xué)機(jī)械拋光(CMP)技術(shù)詳解

20世紀(jì)60年代以前,半導(dǎo)體基片拋光還大都沿用機(jī)械拋光,得到的鏡面表面損傷是極其嚴(yán)重的。1965年Walsh和Herzog提出SiO2溶膠和凝膠拋光后,以SiO2漿料為代表的化學(xué)機(jī)械拋光工藝就逐漸代替了以上舊方法。
2023-08-02 10:48:407522

等離子體浸置型離子注入及等離子體摻雜系統(tǒng)介紹

在常規(guī)離子注入中,三氟化硼常用于形成P型淺結(jié)的注入不是B,因?yàn)锽F2+離子大且重。B10H14,B18H22和硼烷(C2B10&或CBH)是研究中的大分子。
2023-07-21 10:18:571397

盛合晶微J2B廠房交付 首批全國產(chǎn)設(shè)備助力多芯片集成封裝項(xiàng)目擴(kuò)張

億美元的三維多芯片集成封裝項(xiàng)目穩(wěn)步推進(jìn),跨入新的發(fā)展階段。 首批搬入的設(shè)備涵蓋了曝光、顯影、電鍍、清洗、等離子濺射、減薄拋光、檢測(cè)量測(cè)等晶圓級(jí)先進(jìn)封裝主要工藝環(huán)節(jié)。值得一提的是,2015年盛合晶微創(chuàng)立之初,首條12英寸中段凸塊(Bum
2023-07-20 19:12:591212

sps等離子燒結(jié)脈沖電源,真空爐加熱電源,高頻電加熱脈沖電源-濟(jì)南能華

1、產(chǎn)品簡介:      放電等離子燒結(jié) (SPS)是一種快速、低溫、節(jié)能、環(huán)保的材料制備新技術(shù),可用來制備金屬、陶瓷、納米材料、非晶材料、復(fù)合材料、梯度材料等
2023-07-16 23:06:19

等離子體微弧氧化雙向脈沖電源穩(wěn)流穩(wěn)壓

行業(yè)簡介:微弧氧化(MAO)又稱微等離子體氧化(MPO)、陽極火花沉積(ASD)或火花放電陽極氧化(ANOF),還有人稱之為等離子體增強(qiáng)電化學(xué)表面陶瓷化(PECC)。該技術(shù)的基本原理及特點(diǎn)是:在普通
2023-07-11 14:27:42

美國 KRi 考夫曼離子源應(yīng)用于雙腔室高真空等離子 ALD 系統(tǒng)

上海伯東美國 KRi 考夫曼離子源 KDC 40 應(yīng)用于雙腔室高真空等離子 ALD 系統(tǒng), 實(shí)現(xiàn)小規(guī)模試驗(yàn)中 2-4 英寸硅片等半導(dǎo)體襯底表面的清潔, 確保樣品表面清潔無污染, 滿足 TiN, ZnO, Al2O3, TiO2 等制備.
2023-07-07 14:55:44439

智能離子風(fēng)機(jī)風(fēng)棒聯(lián)網(wǎng)監(jiān)控靜電消除器

智能離子風(fēng)棒聯(lián)網(wǎng)監(jiān)控靜電消除器是一種結(jié)合了智能技術(shù)和離子風(fēng)棒技術(shù)的設(shè)備。其主要作用是消除靜電,并通過聯(lián)網(wǎng)監(jiān)控系統(tǒng)實(shí)時(shí)獲取設(shè)備的運(yùn)行狀態(tài)和效果。 智能離子風(fēng)棒采用離子發(fā)生器產(chǎn)生負(fù)離子,并通過風(fēng)機(jī)
2023-07-07 09:43:26386

等離子體蝕刻率的限制

隨著集成電路互連線的寬度和間距接近3pm,鋁和鋁合金的等離子體蝕刻變得更有必要。為了防止蝕刻掩模下的橫向蝕刻,我們需要一個(gè)側(cè)壁鈍化機(jī)制。盡管AlCl和AlBr都具有可觀的蒸氣壓,但大多數(shù)鋁蝕刻的研究
2023-06-27 13:24:11318

離子風(fēng)槍你真的會(huì)使用嗎?

離子風(fēng)槍廣泛的應(yīng)用于各行各業(yè)中,發(fā)揮其除靜電作用。一般在使用一臺(tái)設(shè)備的時(shí)候,是不是先去了解它的使用說明呢?這樣不僅節(jié)約時(shí)間,對(duì)設(shè)備的使用壽命也起到一定的作用。那么,離子風(fēng)槍有哪些使用說明呢?看看離子
2023-06-27 12:57:50798

制造等離子納米金剛石

近日,Nano Letters(《納米快報(bào)》)在線發(fā)表武漢大學(xué)高等研究院梁樂課題組和約翰霍普金斯大學(xué)Ishan Barman課題組關(guān)于高效構(gòu)建等離子增強(qiáng)NV色心的納米器件研究進(jìn)展,他們利用自下向上的DNA自組裝方法開發(fā)了一種混合型獨(dú)立式等離子體納米金剛石
2023-06-26 17:04:52396

什么是電拋光smt鋼網(wǎng)工藝?

拋光smt鋼網(wǎng)是什么工藝,它與其他smt鋼網(wǎng)相比有哪些優(yōu)點(diǎn)呢,今天我們?yōu)榇蠹易錾钊氲闹v解,希望幫助大家在選購適合自己工廠真正需要的smt鋼網(wǎng)。
2023-06-19 10:17:44568

負(fù)離子濃度檢測(cè)儀常見故障如何解決

常見故障解決方法。 KEC-900負(fù)離子檢測(cè)儀 負(fù)離子濃度檢測(cè)儀常見故障解決方法 1.通常負(fù)離子濃度檢測(cè)儀在正常環(huán)境中使用時(shí)表現(xiàn)出的性能是非常好的,如果使用在比較惡劣的環(huán)境中,此時(shí)空氣中存在的各種顆粒物就可以導(dǎo)致儀器受到污染
2023-06-15 16:04:21394

氣體放電管- GDT /氣體等離子體避雷器?2R3600ML5

交流電源板過載防護(hù)高電壓氣體放電管  氣體放電管- GDT /氣體等離子體避雷器 2R3600ML5  Gas Discharge
2023-06-14 17:30:02

芯片制造中人類科技之巔的設(shè)備---***

機(jī)、離子注入機(jī)、拋光設(shè)備、清洗設(shè)備和檢測(cè)設(shè)備等。在整個(gè)半導(dǎo)體芯片制造過程中,光刻是最復(fù)雜工藝,光刻工藝的費(fèi)用約占芯片制造成本的1/3左右,耗費(fèi)時(shí)間占比約為40-5
2023-06-12 10:13:334452

一文讀懂CMP拋光

在現(xiàn)代工業(yè)中,表面加工是至關(guān)重要的一環(huán)。為了達(dá)到所需的表面粗糙度、光潔度和平整度等要求,往往需要進(jìn)行拋光處理。
2023-06-08 11:13:552652

藍(lán)寶石在化學(xué)機(jī)械拋光過程中的材料去除機(jī)理

在化學(xué)腐蝕點(diǎn)處的濃度越高,腐蝕速率越快。在拋光過程中拋光液持續(xù)流動(dòng),我們假設(shè)在腐蝕點(diǎn)處的濃度可以保持初始時(shí)的濃度,腐蝕率以最快的速度發(fā)生,則拋光液不同的PH值對(duì)應(yīng)一個(gè)腐蝕率,由此可見,去除速率與PH值有關(guān),PH越高,速率越快。
2023-06-02 15:24:06344

碳化硅晶片的超精密拋光工藝

使用化學(xué)機(jī)械拋光(CMP)方法對(duì)碳化硅晶片進(jìn)行了超精密拋光試驗(yàn),探究了滴液速率、拋光頭轉(zhuǎn) 速、拋光壓力、拋光時(shí)長及晶片吸附方式等工藝參數(shù)對(duì)晶片表面粗糙度的影響,并對(duì)工藝參數(shù)進(jìn)行了優(yōu)化,最終 得到了表面粗糙度低于0.1 nm的原子級(jí)光滑碳化硅晶片。
2023-05-31 10:30:062212

使用負(fù)偏壓萃取電極的方法

使用負(fù)偏壓的萃取電極將離子離子源內(nèi)的等離子體中抽出,并將其加速到大約50keV的能量。
2023-05-29 09:37:59385

半導(dǎo)體制造之離子注入工藝簡述

高壓直流電源用于加速離子,大約為200kV的DC電源供應(yīng)系統(tǒng)被裝配在注入機(jī)內(nèi)。為了通過離子源產(chǎn)生離子,需要用熱燈絲或射頻等離子體源。熱燈絲需要大電流和幾百伏的供電系統(tǒng),然而一個(gè)射頻離子源需要大約
2023-05-26 14:44:171356

固體負(fù)離子檢測(cè)儀簡介

固體負(fù)離子檢測(cè)儀是一款常見的負(fù)離子檢測(cè)儀,可用于測(cè)量礦石類產(chǎn)品中的負(fù)離子濃度,并且該儀器在運(yùn)行時(shí)能表現(xiàn)出較多的優(yōu)勢(shì)特點(diǎn),目前已被廣泛應(yīng)用,下面一起來了解一下這款儀器。 固體負(fù)離子檢測(cè)儀作用 固體
2023-05-25 17:00:07390

金屬銀鍍PTFE涂層等離子處理原理 提高PTFE粘附性

金屬銀鍍PTFE涂層等離子處理是指在金屬鍍銀進(jìn)行PTFE涂層,并在PTFE涂層上進(jìn)行等離子處理的一種表面處理技術(shù)。該技術(shù)可以使金屬表面具有一定的耐腐蝕性、耐磨性和耐高溫性,同時(shí)還可以提高金屬表面的潤滑性和粘附性。
2023-05-25 15:54:14513

半導(dǎo)體絕緣介質(zhì)的填充-HDPOX

為了形成高密度等離子體,需要有激發(fā)混合氣體的射頻(RF)源,并直接使高密度等離子體到達(dá)硅片表面。在HDP-CVD反應(yīng)腔中,主要是由電感耦合等離子體反應(yīng)器(ICP)來產(chǎn)生并維持高密度的等離子體。當(dāng)射頻電流通過線圈(coil)時(shí)會(huì)產(chǎn)生一個(gè)交流磁場(chǎng)
2023-05-22 15:47:373156

PTFE表面等離子改性的原理 引入活性基團(tuán) 提高粘附性

PTFE表面等離子改性是一種有效的技術(shù)手段,可以改變PTFE表面的性質(zhì),增加其在各個(gè)領(lǐng)域的應(yīng)用。通過引入親水基團(tuán)、改善表面形貌、形成致密的氟化物膜等方式,可以提高PTFE表面的粘附性、潤濕性、抗腐蝕性、耐磨性、生物相容性和電性能。
2023-05-19 10:45:39628

強(qiáng)磁場(chǎng)中等離子體湍流的性質(zhì)和機(jī)制

在天體物理學(xué)中,有許多天體都具有強(qiáng)大的磁場(chǎng),例如恒星、行星和黑洞。這些天體周圍通常有大量的等離子體,例如恒星風(fēng)、行星際介質(zhì)和吸積盤。
2023-05-17 09:24:16452

射頻等離子體源,射頻離子

因產(chǎn)品配置不同, 價(jià)格貨期需要電議, 圖片僅供參考, 一切以實(shí)際成交合同為準(zhǔn)射頻等離子體源 RF2100ICP Plasma Source上海伯東代理美國 KRi 考夫
2023-05-11 14:57:22

芯片等離子活化原理 提高化學(xué)惰性、抗腐蝕性、耐磨性

芯片等離子活化技術(shù)是一種物理處理技術(shù),通過改變材料表面的化學(xué)性質(zhì)、物理性質(zhì)和機(jī)械性能,實(shí)現(xiàn)對(duì)材料的表面處理和改性。芯片等離子活化技術(shù)具有處理效率高、處理精度高、無需添加劑、處理后材料性能穩(wěn)定和應(yīng)用范圍廣泛等優(yōu)勢(shì)。
2023-05-06 10:44:50650

鋁箔等離子表面處理設(shè)備原理 增加鋁箔表面的粘附力

通過金徠等離子體處理,可以提高金屬表面的活性,改善金屬表面的結(jié)合力、增強(qiáng)涂層附著力等性質(zhì),使得金屬制品的質(zhì)量和性能得到明顯的改善和提升。此外,等離子體處理還可以改善金屬表面的光潔度,使得金屬表面更加平整光滑。
2023-05-05 10:51:23525

如何讓自動(dòng)拋光設(shè)備達(dá)到理想的拋光效果

一、自動(dòng)拋光機(jī)的拋光效果因素自動(dòng)拋光機(jī)的拋光效果取決于多個(gè)因素,除了自動(dòng)拋光機(jī)本身的質(zhì)量以外,還包括使用工藝、選用什么樣的拋光輔料,要拋光物件材質(zhì),操作者的經(jīng)驗(yàn)技術(shù)等,在條件都合適的情況下,自動(dòng)
2023-05-05 09:57:03535

PLC與常見7種設(shè)備的連接方式

PLC常見的輸入設(shè)備有按鈕、行程開關(guān)、接近開關(guān)、轉(zhuǎn)換開關(guān)、撥碼器、各種傳感器等,輸出設(shè)備有繼電器、接觸器、 電磁閥等。正確地連接輸入和輸出電路,是保證PLC安全可靠工作的前提。
2023-04-20 14:22:470

射頻功率放大器在等離子體壓力傳感器中的應(yīng)用

(6~10mm)、溫度漂移等問題,無法滿足發(fā)動(dòng)機(jī)復(fù)雜機(jī)械內(nèi)部非定常測(cè)量的需要。而在對(duì)新技術(shù)的探索中,等離子體技術(shù)由于其有著許多先天優(yōu)勢(shì)而引起了研究者們的關(guān)注,如其理論上有著高頻率響應(yīng)的特性、不受熱慣性的限制、基于等離子體原理的探針結(jié)構(gòu)尺寸小,可達(dá)毫米尺度。因此認(rèn)為其具有十分優(yōu)秀的發(fā)展?jié)摿Γ型黄聘邷馗?/div>
2023-04-19 15:29:42260

靜電消除設(shè)備——常見風(fēng)機(jī)風(fēng)棒種類一覽

靜電消除設(shè)備是用來中和物體間產(chǎn)生靜電的一種機(jī)器,它可以有效地將電離子進(jìn)行中和。常見風(fēng)機(jī)風(fēng)棒種類一覽如下:
2023-04-18 15:35:43605

通過物聯(lián)網(wǎng)網(wǎng)關(guān)實(shí)現(xiàn)拋光設(shè)備數(shù)據(jù)采集遠(yuǎn)程監(jiān)控

設(shè)備所替代。 自動(dòng)化拋光設(shè)備一般是針對(duì)特定工藝特定工件而設(shè)計(jì)的非標(biāo)設(shè)備,可以進(jìn)行高效率的拋光打磨工作,常見設(shè)備便是工業(yè)機(jī)器人。物通博聯(lián)工業(yè)智能網(wǎng)關(guān)可以采集各類打磨拋光設(shè)備、工業(yè)機(jī)器人內(nèi)的控制器PLC數(shù)據(jù),將各
2023-04-14 10:21:59337

神奇的光等離子 輝光(2)#科技與物理

電路分析元器件電路分析基礎(chǔ)
jf_49750429發(fā)布于 2023-04-13 16:28:13

神奇的光等離子 輝光(1)#科技與物理

電路分析元器件電路分析基礎(chǔ)
jf_49750429發(fā)布于 2023-04-13 16:27:42

超精密拋光技術(shù),不簡單!

很早以前看過這樣一個(gè)報(bào)道:德國、日本等國家的科學(xué)家耗時(shí)5年時(shí)間,花了近千萬元打造了一個(gè)高純度的硅-28材料制成的圓球,這個(gè)1kg純硅球要求超精密加工研磨拋光、精密測(cè)量(球面度、粗糙度和質(zhì)量),可謂
2023-04-13 14:24:341683

利用等離子體色散效應(yīng)來增強(qiáng)硅基電光調(diào)制器的性能

全硅等離子體色散效應(yīng)環(huán)形諧振器調(diào)制器具有誘人的發(fā)展前景。然而,其性能目前受限于調(diào)制深度和開關(guān)速度之間的權(quán)衡。
2023-04-12 09:12:121594

等離子光譜儀需要進(jìn)行哪種維修保養(yǎng)

大家目前對(duì)于等離子光譜儀的普遍使用早已見怪不怪了,這種相對(duì)來說較為細(xì)致的設(shè)備是一定要盡早的實(shí)施維修保養(yǎng)的,否則很容易就沒辦法運(yùn)用或者機(jī)械設(shè)備產(chǎn)生情況,下面大家一起來看看等離子光譜儀需要進(jìn)行哪種
2023-04-07 07:37:42124

等離子電視關(guān)鍵技術(shù)探秘

? 導(dǎo)讀:?屏(也叫面板),是等離子電視最重要的部件,占整機(jī)成本的六、七成。屏的好壞,直接決定著平板電視的優(yōu)劣。目前世界上只有韓國LG、三星和日本的松下等少數(shù)廠商具備等離子屏的生產(chǎn)能力,其中LG的A3生產(chǎn)線被公認(rèn)為最先進(jìn)的等離子生產(chǎn)線。很大程度上,等離子電視的選擇就是等離子屏的選擇。 ?
2023-03-30 15:56:10452

VESD離子風(fēng)嘴應(yīng)用的領(lǐng)域和優(yōu)勢(shì)

尤為重要了。 1:工業(yè)除靜電離子風(fēng)嘴的原理 工業(yè)除靜電離子風(fēng)嘴是一種高科技產(chǎn)品,它通過高壓電場(chǎng)作用于材料表面,使其電離從而達(dá)到除塵的目的。常見等離子體有CFO、PLAM-SINK及VESD等幾種。高壓電擊產(chǎn)生巨大能量,能夠?qū)⒉涣茧姾芍?/div>
2023-03-29 09:35:52367

氣體放電管- GDT /氣體等離子體避雷器3600V

2RM3600A6L2 氣體放電管- GDT /氣體等離子體避雷器3600Discharge 2-Electrode Arrester  5.5*6 直流擊穿電壓3600V氣體
2023-03-27 17:04:09

工業(yè)除靜電離子風(fēng)機(jī)的維護(hù)與保養(yǎng)

隨著工業(yè)生產(chǎn)的不斷發(fā)展,除靜電離子風(fēng)機(jī)已成為一種重要設(shè)備。然而,由于靜電除離子風(fēng)機(jī)具有較強(qiáng)的吸附能力和腐蝕性,其維護(hù)與保養(yǎng)工作尤為重要。 1:工業(yè)除靜電離子風(fēng)機(jī)的運(yùn)作特性 工業(yè)除靜電離子風(fēng)機(jī)也被稱為
2023-03-23 16:52:27445

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