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本文以金屬刻蝕去膠腔為背景，簡(jiǎn)述干刻清洗工藝開(kāi)發(fā)和評(píng)價(jià)過(guò)程。針對(duì)實(shí)際應(yīng)用中
的問(wèn)題，展開(kāi)討論。通過(guò)實(shí)際案例分析,展示了干刻清洗工藝的應(yīng)用價(jià)值。
關(guān)鍵字：干刻清洗Dry Clean； 金屬刻蝕 Metal Etch；干刻 Dry Etch；
去膠腔 Ash Chamber；去膠速率：Ash Rate (AR)
The Evaluation And Application Of Dry Clean Process On Ash Chamber Of Metal Etch
Wang Qian (Shanghai Jiao Tong University)
(Shanghai Huahong NEC Electronics Limited Company, Shanghai 201206, China)
Abstract: Based on ash chamber of metal etch, this paper describes the full process of dry clean
development and evaluation. And the related issue among process application is also discussed.
Through the analysis of actual case, the worth of dry clean application is presented.
的問(wèn)題，展開(kāi)討論。通過(guò)實(shí)際案例分析,展示了干刻清洗工藝的應(yīng)用價(jià)值。
關(guān)鍵字：干刻清洗Dry Clean； 金屬刻蝕 Metal Etch；干刻 Dry Etch；
去膠腔 Ash Chamber；去膠速率：Ash Rate (AR)
The Evaluation And Application Of Dry Clean Process On Ash Chamber Of Metal Etch
Wang Qian (Shanghai Jiao Tong University)
(Shanghai Huahong NEC Electronics Limited Company, Shanghai 201206, China)
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