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晶圓蝕刻

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晶圓蝕刻技術(shù)

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目前,大多數(shù)III族氮化物的加工都是通過(guò)干法等離子體蝕刻完成的。干法蝕刻有幾個(gè)缺點(diǎn),包括產(chǎn)生離子誘導(dǎo)損傷和難以獲得激光器所需的光滑蝕刻側(cè)壁。干法蝕刻產(chǎn)生...

2023-11-24 標(biāo)簽:半導(dǎo)體晶圓晶圓蝕刻 587 0

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低能量電子束曝光技術(shù)

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耐蝕點(diǎn)蝕鍍銅工藝

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2023-09-01 標(biāo)簽:半導(dǎo)體鍍銅工藝蝕刻工藝 3089 0

酸蝕刻對(duì)鈦醫(yī)藥材料納米形態(tài)表面特性及活化能的影響

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基于晶圓鍵合的高效單晶圓清洗

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就微粒污染而言,不同的微電子工藝需要非常干凈的表面。其中,直接晶片粘接在顆粒清潔度方面有非常積極的要求。直接晶圓鍵合是將兩種材料結(jié)合在一起,只需將它們光...

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硅的濕式化學(xué)蝕刻和清洗

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本文綜述了工程師們使用的典型的濕化學(xué)配方。盡可能多的來(lái)源已經(jīng)被用來(lái)提供一個(gè)蝕刻劑和過(guò)程的簡(jiǎn)明清單

2023-03-17 標(biāo)簽:半導(dǎo)體蝕刻蝕刻技術(shù) 2399 0

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晶圓蝕刻資訊

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2023-11-10 標(biāo)簽:半導(dǎo)體晶圓蝕刻工藝 347 0

用紫外線/臭氧源對(duì)硅表面進(jìn)行簡(jiǎn)單的清潔和調(diào)節(jié)

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由于成本優(yōu)化工藝是光伏行業(yè)的主要目標(biāo),簡(jiǎn)單的、具有內(nèi)聯(lián)能力的清潔可以替代成本和時(shí)間密集型的濕化學(xué)清潔方法,如來(lái)自微電子應(yīng)用的RCA清潔。

2023-05-06 標(biāo)簽:半導(dǎo)體紫外線蝕刻 883 0

美實(shí)驗(yàn)室開(kāi)發(fā)砷化鎵新晶圓蝕刻法

美國(guó)伊利諾大學(xué)(University of Illinois)實(shí)驗(yàn)室開(kāi)發(fā)出一種以金屬為蝕刻催化劑的砷化鎵晶圓蝕刻法

2012-01-07 標(biāo)簽:PCB設(shè)計(jì)砷化鎵美實(shí)驗(yàn)室 1520 0

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晶圓蝕刻數(shù)據(jù)手冊(cè)

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