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電子發(fā)燒友網(wǎng)>電源/新能源>電源設(shè)計(jì)應(yīng)用> - 準(zhǔn)確測量氮化鎵(GaN)晶體管的皮秒量級上升時(shí)間

- 準(zhǔn)確測量氮化鎵(GaN)晶體管的皮秒量級上升時(shí)間

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氮化GaN技術(shù)助力電源管理革新

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氮化晶體管GaN的概述和優(yōu)勢

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的熱量,需要更大的散熱器。不幸的是,這增加了系統(tǒng)成本、重量和解決方案總尺寸,這在空間受限的應(yīng)用中是不期望的或不可接受的。氮化GaN)高電子遷移率晶體管(HEMT)具有優(yōu)于硅MOSFET的多種優(yōu)勢
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氮化晶體管電路的布局需要考慮哪些因素?

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轉(zhuǎn)換器,將性能與兩種可比場景進(jìn)行了比較:第一種是所有三種晶體管類型都在500KHz諧振頻率下工作,第二種是500KHz基于GaN的LLC與基于100KHz硅的LLC。主要晶體管氮化、硅或碳化硅。初級
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本文展示氮化場效應(yīng)晶體管并配合LM5113半橋驅(qū)動(dòng)器可容易地實(shí)現(xiàn)的功率及效率。
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氮化能否實(shí)現(xiàn)高能效、高頻電源的設(shè)計(jì)?

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2021-06-17 10:56:45

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測量 上升時(shí)間

怎么測量 信號(hào)的上升時(shí)間?
2015-03-15 08:36:34

測量上升時(shí)間失敗

,top_threshold_pct)來通過瞬態(tài)模擬來測量信號(hào)的上升時(shí)間。我想掃描輸入頻率并測量每個(gè)輸出的上升時(shí)間。使用掃描時(shí),此功能似乎失敗。有解決方法嗎?我意識(shí)到,雖然滲透頻率,我的數(shù)據(jù)輸出是一個(gè)二維數(shù)組,如果我通過使用y
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CGH40010F氮化GaN)高 電子遷移率晶體管

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CGHV40030氮化高電子遷移率晶體管

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CGHV60040D-GP4高電子遷移率晶體管

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CGHV96050F1衛(wèi)星通信氮化高電子遷移率晶體管CREE

CGHV96050F1是款碳化硅(SiC)基材上的氮化(GaN)高電子遷移率晶體管(HEMT)。與其它同類產(chǎn)品相比,這些GaN內(nèi)部搭配CGHV96050F1具有卓越的功率附帶效率。與硅或砷化
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CGHV96100F2晶體管

是碳化硅(SiC)襯底上的氮化GaN)高電子遷移率晶體管(HEMT)。這種GaN內(nèi)匹配(IM)場效應(yīng)晶體管與其他技術(shù)相比,提供了優(yōu)異的功率附加效率。GaN與硅或砷化相比具有更高的性能,包括更高
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CGHV96100F2氮化GaN)高電子遷移率晶體管

`Cree的CGHV96100F2是氮化GaN)高電子遷移率晶體管(HEMT)在碳化硅(SiC)基板上。 該GaN內(nèi)部匹配(IM)FET與其他技術(shù)相比,具有出色的功率附加效率。 氮化與硅或砷化
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CHZ9012-QFA功率放大器

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Cree的CMPA801B025是氮化GaN)高電子遷移率基于晶體管(HEMT)的單片微波集成電路(MMIC)。 氮化與硅或砷化相比具有更好的性能,包括更高的擊穿電壓,更高的飽和電子漂移速度
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IFWS 2018:氮化功率電子器件技術(shù)分會(huì)在深圳召開

應(yīng)用。加拿大多倫多大學(xué)教授吳偉東分享了關(guān)于用于GaN功率晶體管的智能柵極驅(qū)動(dòng)器IC的精彩報(bào)告,并提出了一種適用于氮化功率晶體管的智能柵極驅(qū)動(dòng)集成電路,該集成電路帶有電流傳感特性、可調(diào)節(jié)輸出電阻、可調(diào)
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IGN0450M250高功率GaN-on-SiC RF功率晶體管

`IGN0450M250是一款高功率GaN-on-SiC RF功率晶體管,旨在滿足P波段雷達(dá)系統(tǒng)的獨(dú)特需求。它在整個(gè)420-450 MHz頻率范圍內(nèi)運(yùn)行。 在100毫以下,10%占空比脈沖條件
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MACOM:GaN在無線基站中的應(yīng)用

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MACOM:適用于5G的半導(dǎo)體材料硅基氮化GaN

GaN)那么,問題來了,怎么解決高昂的價(jià)格?首先,先了解下什么是硅基氮化,與硅器件相比,由于氮化晶體具備更強(qiáng)的化學(xué)鍵,因此它可以承受比硅器件高出很多倍的電場而不會(huì)崩潰。這意味我們可以把晶體管
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Micsig光隔離探頭實(shí)測案例——氮化GaN半橋上測試

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2023-01-12 09:54:23

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2018-07-30 15:25:55

QPD1018氮化晶體管

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SGN2729-250H-R氮化晶體管

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SGN2729-600H-R氮化晶體管

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SGNE045MK晶體管

)= + 25°CSGN19H181M1H砷化晶體管SGN19H240M1H砷化晶體管SGN21H180M1H砷化晶體管SGN21H121M1H砷化晶體管SGN21H181M1H砷化晶體管
2021-03-30 11:32:19

TGF2040砷化晶體管

功率增益13 dB的增益和55%的功率附加效率在1 dB壓縮。這種性能使tgf2040適合高效率的應(yīng)用。帶有氮化硅的保護(hù)層提供了環(huán)境魯棒性和劃痕保護(hù)級別。產(chǎn)品型號(hào):TGF2040產(chǎn)品名稱:砷化晶體管
2018-07-18 12:00:19

TGF2977-SM氮化晶體管

TGF2977-SM氮化晶體管產(chǎn)品介紹TGF2977-SM報(bào)價(jià)TGF2977-SM代理TGF2977-SM咨詢熱線TGF2977-SM現(xiàn)貨,王先生 深圳市首質(zhì)誠科技有限公司TGF2977-SM是5
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氮化器件進(jìn)行準(zhǔn)確測量

當(dāng)測定氮化GaN晶體管量級上升時(shí)間時(shí),即使有1GHz的觀察儀器和1GHz的探針仍可能不夠。準(zhǔn)確測定GaN晶體管上升和下降時(shí)間需要細(xì)心留意您的測量設(shè)置和設(shè)備。讓我們初步了解一下使用TI
2018-09-07 14:52:23

為什么氮化(GaN)很重要?

氮化(GaN)的重要性日益凸顯,增加。因?yàn)樗c傳統(tǒng)的硅技術(shù)相比,不僅性能優(yōu)異,應(yīng)用范圍廣泛,而且還能有效減少能量損耗和空間的占用。在一些研發(fā)和應(yīng)用中,傳統(tǒng)硅器件在能量轉(zhuǎn)換方面,已經(jīng)達(dá)到了它的物理
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為什么氮化比硅更好?

度為1.1 eV,而氮化的禁帶寬度為3.4 eV。由于寬禁帶材料具備高電場強(qiáng)度,耗盡區(qū)窄短,從而可以開發(fā)出載流子濃度非常高的器件結(jié)構(gòu)。例如,一個(gè)典型的650V橫向氮化晶體管,可以支持超過800V
2023-06-15 15:53:16

什么是GaN透明晶體管?

電子產(chǎn)品中。這種氧化物是個(gè)好選擇,因?yàn)樗芘cAlGaN/GaN形成良好的肖特基接觸,并在GaN晶體管中起到柵極的作用。有一些報(bào)道證實(shí)在氮化晶體管中可存在銦錫氧化物(ITO)柵極,并且已經(jīng)表明,在氮化器件
2020-11-27 16:30:52

什么是晶體管 晶體管的分類及主要參數(shù)

GaAs-GaAlAs,放大倍數(shù)可以大于1000,響應(yīng)時(shí)間長于納,常用作光電探測器和光放大。場效應(yīng)光電晶體管(FET)響應(yīng)迅速(約50),但缺點(diǎn)是光敏面積和增益小,常用作超高速光電探測器。還有許多其他平面
2023-02-03 09:36:05

什么是氮化GaN)?

具有更小的晶體管、更短的電流路徑、超低的電阻和電容等優(yōu)勢,氮化充電器的充電器件運(yùn)行速度,比傳統(tǒng)硅器件要快 100倍。 更重要的是,氮化相比傳統(tǒng)的硅,可以在更小的器件空間內(nèi)處理更大的電場,同時(shí)提供更快的開關(guān)速度。此外,氮化比硅基半導(dǎo)體器件,可以在更高的溫度下工作。
2023-06-15 15:41:16

什么是氮化GaN)?

、高功率、高效率的微電子、電力電子、光電子等器件方面的領(lǐng)先地位?!喝c(diǎn)半說』經(jīng)多方專家指點(diǎn)查證,特推出“氮化系列”,告訴大家什么是氮化GaN)?
2019-07-31 06:53:03

什么阻礙氮化器件的發(fā)展

產(chǎn)的Guidance Enhanced Missile-TBM(GEM-T)攔截器中使用氮化GaN)計(jì)算機(jī)芯片,以取代目前在導(dǎo)彈發(fā)射器中使用的行波(TWT)。雷神希望通過使用GaN芯片升級
2019-07-08 04:20:32

傳統(tǒng)的硅組件、碳化硅(Sic)和氮化(GaN)

應(yīng)用領(lǐng)域,SiC和GaN形成競爭。隨著碳化硅(SiC)、氮化(GaN)等新材料陸續(xù)應(yīng)用在二極、場效晶體管(MOSFET)等組件上,電力電子產(chǎn)業(yè)的技術(shù)大革命已揭開序幕。這些新組件雖然在成本上仍比傳統(tǒng)硅
2021-09-23 15:02:11

供應(yīng)氮化功率芯片NV6127+晶體管AON6268絲印6268

明佳達(dá)電子優(yōu)勢供應(yīng)氮化功率芯片NV6127+晶體管AON6268絲印6268,只做原裝,價(jià)格優(yōu)勢,實(shí)單歡迎洽談。產(chǎn)品信息型號(hào)1:NV6127絲?。篘V6127屬性:氮化功率芯片封裝:QFN芯片
2021-01-13 17:46:43

光隔離探頭應(yīng)用場景之—— 助力氮化GaN)原廠FAE解決客戶問題

GaN)原廠來說尤為常見,其根本原因是氮化芯片的優(yōu)異開關(guān)性能所引起的測試難題,下游的氮化應(yīng)用工程師往往束手無策。某知名氮化品牌的下游客戶,用氮化半橋方案作為3C消費(fèi)類產(chǎn)品的電源,因電源穩(wěn)定性
2023-02-01 14:52:03

如何利用氮化實(shí)現(xiàn)高性能柵極驅(qū)動(dòng)?

氮化技術(shù)是功率級的真正推動(dòng)者,如今可提供過去十年無法想象的性能。只有當(dāng)柵極驅(qū)動(dòng)器與晶體管具有相同程度的性能和創(chuàng)新時(shí),才能獲得GaN的最大性能和優(yōu)勢。經(jīng)過多年的研發(fā),MinDCet通過推出
2023-02-24 15:09:34

如何實(shí)現(xiàn)氮化的可靠運(yùn)行

我經(jīng)常感到奇怪,我們的行業(yè)為什么不在加快氮化 (GaN) 晶體管的部署和采用方面加大合作力度;畢竟,大潮之下,沒人能獨(dú)善其身。每年,我們都看到市場預(yù)測的前景不太令人滿意。但通過共同努力,我們就能
2022-11-16 06:43:23

如何用集成驅(qū)動(dòng)器優(yōu)化氮化性能

導(dǎo)讀:將GaN FET與它們的驅(qū)動(dòng)器集成在一起可以改進(jìn)開關(guān)性能,并且能夠簡化基于GaN的功率級設(shè)計(jì)。氮化 (GaN) 晶體管的開關(guān)速度比硅MOSFET快很多,從而有可能實(shí)現(xiàn)更低的開關(guān)損耗。然而,當(dāng)
2022-11-16 06:23:29

如何設(shè)計(jì)GaN氮化 PD充電器產(chǎn)品?

如何設(shè)計(jì)GaN氮化 PD充電器產(chǎn)品?
2021-06-15 06:30:55

實(shí)例講解,教你提高晶體管的開關(guān)速度

,則晶體管總的開關(guān)時(shí)間共有4個(gè):延遲時(shí)間td,上升時(shí)間tr,存儲(chǔ)時(shí)間ts和下降時(shí)間tf;ton=td+tr,toff=ts+tf在不考慮晶體管的管殼電容、布線電容等所引起的附加電容的影響時(shí),晶體管
2019-09-22 08:00:00

實(shí)現(xiàn)更小、更輕、更平穩(wěn)的電機(jī)驅(qū)動(dòng)器的氮化器件

的性能已接近理論極限[1-2],而且市場對更高功率密度的需求日益增加。氮化(GaN)晶體管和IC具有優(yōu)越特性,可以滿足這些需求。 氮化器件具備卓越的開關(guān)性能,有助消除死區(qū)時(shí)間且增加PWM頻率,從而
2023-06-25 13:58:54

想要實(shí)現(xiàn)高效氮化設(shè)計(jì)有哪些步驟?

  第 1 步 – 柵極驅(qū)動(dòng)選擇  驅(qū)動(dòng)GaN增強(qiáng)模式高電子遷移率晶體管(E-HEMT)的柵極與驅(qū)動(dòng)硅(Si)MOSFET的柵極有相似之處,但有一些有益的差異?! ◎?qū)動(dòng)氮化E-HEMT不會(huì)消除任何
2023-02-21 16:30:09

支持瓦特到千瓦級應(yīng)用的氮化技術(shù)介紹

。LMG3410和LMG3411系列產(chǎn)品的額定電壓為600 V,提供從低功率適配器到超過2 kW設(shè)計(jì)的各類解決方案。通過導(dǎo)通電阻選擇器件內(nèi)部氮化場效應(yīng)晶體管(FET)的額定值為RDS(on) - 漏極-源極或?qū)娮琛?/div>
2022-11-10 06:36:09

教你巧用幾個(gè)設(shè)計(jì),輕松提高晶體管的開關(guān)速度

,則晶體管總的開關(guān)時(shí)間共有4個(gè):延遲時(shí)間td,上升時(shí)間tr,存儲(chǔ)時(shí)間ts和下降時(shí)間tf;ton=td+tr,toff=ts+tf在不考慮晶體管的管殼電容、布線電容等所引起的附加電容的影響時(shí),晶體管
2019-08-19 04:00:00

數(shù)字電路測量示波器探頭的上升時(shí)間和帶寬

的。如果準(zhǔn)確知道設(shè)備的10-90%上升時(shí)間,并且測量是在沒有噪聲的情況下進(jìn)行的,測量上升時(shí)間要好的方法是使用速度更快的探頭和示波器。簡單地說,這種方法可以提高示波器的使用頻率范圍到原來的2~3倍。購線網(wǎng)www.gooxian.com 專業(yè)定制各類測試線(同軸線、香蕉頭測試線,低噪線等)。
2018-04-19 10:42:59

有關(guān)氮化半導(dǎo)體的常見錯(cuò)誤觀念

功率/高頻射頻晶體管和發(fā)光二極。2010年,第一款增強(qiáng)型氮化晶體管普遍可用,旨在取代硅功率MOSFET。之后隨即推出氮化功率集成電路- 將GaN FET、氮化基驅(qū)動(dòng)電路和電路保護(hù)集成為單個(gè)器件
2023-06-25 14:17:47

用于大功率和頻率應(yīng)用的舍入 GaN晶體管

針對可靠的高功率和高頻率電子設(shè)備,制造商正在研究氮化(GaN)來制造具有高開關(guān)頻率的場效應(yīng)晶體管(FET)由于硅正在接近其理論極限,制造商現(xiàn)在正在研究使用寬帶隙(WBG)材料來制造高效率的大功率
2022-06-15 11:43:25

電流旁路對GaN晶體管并聯(lián)配置的影響

,在這種情況下采用基于氮化GaN晶體管的解決方案意義重大。與傳統(tǒng)硅器件相類似,GaN晶體管單位裸片面積同樣受實(shí)際生產(chǎn)工藝限制,單個(gè)器件的電流處理能力存在上限。為了增大輸出功率,并聯(lián)配置晶體管已成為
2021-01-19 16:48:15

直接驅(qū)動(dòng)GaN晶體管的優(yōu)點(diǎn)

受益于集成器件保護(hù),直接驅(qū)動(dòng)GaN器件可實(shí)現(xiàn)更高的開關(guān)電源效率和更佳的系統(tǒng)級可靠性。高電壓(600V)氮化GaN)高電子遷移率晶體管(HEMT)的開關(guān)特性可實(shí)現(xiàn)提高開關(guān)模式電源效率和密度的新型
2020-10-27 06:43:42

示波器的那些事-示波器上升時(shí)間

上升時(shí)間 在數(shù)字領(lǐng)域中,上升時(shí)間測量至關(guān)重要。在預(yù)計(jì)測量數(shù)字信號(hào)時(shí),如脈沖和階躍,上升時(shí)間可能是更合適的性能考慮因素。示波器必須有充足的上升時(shí)間,才能準(zhǔn)確捕獲迅速跳變的細(xì)節(jié)。 示波器的上升時(shí)間 檢定
2016-04-11 14:38:38

請問氮化GaN是什么?

氮化GaN是什么?
2021-06-16 08:03:56

輸入電容對上升時(shí)間和噪聲的影響是什么?

時(shí)間和頻率的關(guān)系是什么輸入電容對上升時(shí)間和噪聲的影響是什么進(jìn)行電平測量時(shí)需要考慮的速度問題
2021-04-15 06:24:37

迄今為止最堅(jiān)固耐用的晶體管氮化器件

”的器件。它有多好呢?擊穿電壓是功率晶體管的關(guān)鍵指標(biāo)之一,達(dá)到這個(gè)臨界點(diǎn),半導(dǎo)體阻止電流流動(dòng)的能力就會(huì)崩潰。東脅研究的開創(chuàng)性晶體管的擊穿電壓大于250伏。相比之下,氮化花了近20年的時(shí)間才達(dá)到這一
2023-02-27 15:46:36

CMPA0060002F氮化 (GaN) 晶體管 (HEMT)

Cree 的 CMPA0060002F 是一種氮化 (GaN) 高電子遷移率晶體管(HEMT) 基于單片微波集成電路 (MMIC)。 GaN具有優(yōu)越的與硅或砷化相比的特性,包括更高的擊穿率電壓
2022-05-17 18:34:26

CMPA0060002D氮化 (GaN) 高電子遷移率晶體管 (HEMT)

Cree 的 CMPA0060002D 是一種氮化 (GaN) 高電子基于移動(dòng)晶體管 (HEMT) 的單片微波集成電路(MMIC) 。 與硅相比,GaN 具有更優(yōu)越的性能或砷化,包括更高的擊穿
2022-05-18 10:06:16

CGHV40180F氮化 (GaN) 高電子遷移率晶體管 (HEMT)

Wolfspeed 的 CGHV40180 是一款氮化 (GaN) 高電子遷移率晶體管 (HEMT)。它具有無與倫比的輸入,可在 DC-2.0 GHz 范圍內(nèi)提供最佳的瞬時(shí)寬帶性能。GaN與硅或砷
2022-06-24 09:19:36

CGHV40180P氮化 (GaN) 高電子遷移率晶體管 (HEMT)

Wolfspeed 的 CGHV40180 是一款氮化 (GaN) 高電子遷移率晶體管 (HEMT)。它具有無與倫比的輸入,可在 DC-2.0 GHz 范圍內(nèi)提供最佳的瞬時(shí)寬帶性能。GaN與硅或砷
2022-06-24 09:22:17

CGHV59070P氮化 (GaN) 高電子遷移率晶體管 (HEMT)

Wolfspeed 的 CGHV59070 是內(nèi)部匹配的;氮化 (GaN) 高電子遷移率晶體管 (HEMT)。CGHV59070;從 50 伏電壓軌運(yùn)行;提供一般用途;適用于各種射頻和微波
2022-06-27 14:11:15

CGHV96130F氮化 (GaN) 高電子遷移率晶體管 (HEMT)

Wolfspeed 的 CGHV96130F 是碳化硅 (SiC) 基板上的氮化 (GaN) 高電子遷移率晶體管 (HEMT)。與其他技術(shù)相比,這種 GaN 內(nèi)部匹配 (IM) FET 可提供
2022-06-27 16:24:32

CMPA0060025F氮化 (GaN) 高電子遷移率晶體管 (HEMT)

Wolfspeed 的 CMPA0060025 是一種基于氮化 (GaN) 高電子遷移率晶體管 (HEMT) 的單片微波集成電路 (MMIC)。GaN與硅或砷化相比具有優(yōu)越的性能;包括更高的擊穿
2022-06-27 16:37:17

上升時(shí)間限制電路圖

上升時(shí)間限制電路圖
2009-07-15 16:43:39519

如何利用測量設(shè)備來準(zhǔn)確地評估高性能的氮化晶體管

氮化鎵(GaN)場效應(yīng)晶體管具備高速的開關(guān)速度優(yōu)勢,需要使用良好的測量技術(shù)及能夠描述高速波形細(xì)節(jié)的良好技巧來進(jìn)行評估。本文專注于如何基于用戶的要求及測量技術(shù),利用測量設(shè)備來準(zhǔn)確地評估高性能的氮化晶體管。此外,本文評估高帶寬差分探頭與不接地參考波形一起使用時(shí)的情況。
2018-06-08 16:43:003123

上升時(shí)間與壓擺率是一回事嗎

我們先來看一下壓擺率,壓擺率的概念與上升時(shí)間類似,但有一些重要區(qū)別。如圖1所示,階躍響應(yīng)的上升時(shí)間被定義為波形從終值的10%變?yōu)?0%所需的時(shí)間。(有時(shí)上升時(shí)間被定義為20/80%。)請注意,上升時(shí)間通過波形大小的百分比來定義,與所涉及的電壓無關(guān)。例如圖1中的波形具有大約3μs的上升時(shí)間。
2020-09-29 11:54:101857

淺談?wù)袷?b class="flag-6" style="color: red">上升時(shí)間及影響

振蕩上升時(shí)間(start up time)是指IC電源啟動(dòng)時(shí),從振蕩過渡的狀態(tài)向恒定區(qū)移動(dòng)所需的時(shí)間,村田的規(guī)定是達(dá)到恒定狀態(tài)的振蕩水平的90%的時(shí)間。 振蕩上升時(shí)間受振蕩電路中使用的元件的影響,與晶體諧振器相比較的話,CERALOCK的振蕩上升時(shí)間會(huì)快1位數(shù)到2位數(shù)。 編輯:hfy
2021-03-31 10:21:052667

GaN Systems即將要推出1美元以下的GaN晶體管?

GaN氮化鎵)功率晶體管的全球領(lǐng)導(dǎo)者GaN Systems今天宣布,其低電流,大批量氮化晶體管的價(jià)格已跌至1美元以下。
2021-03-13 11:38:46682

您是否在準(zhǔn)確測定氮化鎵器件的皮秒量級上升時(shí)間

您是否在準(zhǔn)確測定氮化鎵器件的皮秒量級上升時(shí)間?
2022-11-04 09:51:250

什么是氮化鎵(GaN)?什么是高電子遷移率晶體管

氮化鎵(GaN)是一種寬帶隙半導(dǎo)體,用于高效功率晶體管和集成電路。在GaN晶體的頂部生長氮化鋁鎵(AlGaN)薄層并在界面施加應(yīng)力,從而產(chǎn)生二維電子氣(2DEG)。2DEG用于在電場作用下,高效
2023-02-10 11:05:173854

運(yùn)放輸出電壓上升時(shí)間的計(jì)算指南

本文介紹了運(yùn)放電路帶寬增益積 和壓擺率 對運(yùn)放輸出電壓上升時(shí)間的影響,評估運(yùn)放輸出電壓的上升時(shí)間,一般采用輸出電壓的 10% ~ 90% 這一段時(shí)間作為上升時(shí)間。
2023-04-27 09:26:25510

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