應(yīng)用聲明缺陷評(píng)估工具為0.18微米晶圓廠設(shè)定了步伐

加利福尼亞州圣克拉拉市 - 應(yīng)用材料公司今天表示其SEMVision缺陷檢查系統(tǒng)已經(jīng)過驗(yàn)證國際Sematech生產(chǎn)0.18微米芯片。據(jù)Applied介紹，該行業(yè)聯(lián)盟已指定掃描電子顯微鏡(SEM)系統(tǒng)作為第一個(gè)能夠自動(dòng)檢查和分類晶圓廠缺陷的批量生產(chǎn)工具。

隨著器件尺寸縮小，定位可能破壞制造產(chǎn)量的微小缺陷不僅變得更加困難，而且確定異常是嚴(yán)重還是僅僅是“滋擾缺陷”也變得更加困難。能夠在生產(chǎn)車間快速對(duì)缺陷進(jìn)行分類變得至關(guān)重要，因?yàn)榫A廠經(jīng)理在將新的半導(dǎo)體材料引入工藝的過程中試圖提高產(chǎn)量(參見SBN在線雜志的特寫)。

“SEMVision系統(tǒng)為基于SEM的半導(dǎo)體行業(yè)自動(dòng)缺陷分類設(shè)立了新的基準(zhǔn)，”Sematech在德克薩斯州奧斯汀的前端處理部門主管Rinn Cleavelin表示?！霸撚?jì)劃驗(yàn)證了SEMVision系統(tǒng)符合國際半導(dǎo)體技術(shù)路線圖中針對(duì)180納米技術(shù)所述的生產(chǎn)ADC自動(dòng)缺陷分類要求。特別令人印象深刻的是該系統(tǒng)的高產(chǎn)量和可靠的性能，這是實(shí)現(xiàn)產(chǎn)值產(chǎn)量的重要要求，“他補(bǔ)充道。

應(yīng)用材料公司表示，Sematech使用SEMVision基于規(guī)則的自動(dòng)缺陷分類方法，基于八種核心缺陷類別為工具供應(yīng)商和用戶創(chuàng)建了一種通用語言。應(yīng)用說，該術(shù)語將使芯片制造商能夠按類型(例如顆粒或劃痕)，材料特性以及操作員可以用來快速確定問題根源的其他特征對(duì)缺陷進(jìn)行分類。

預(yù)計(jì)芯片制造商將在未來幾年內(nèi)在自動(dòng)缺陷檢查和分類系統(tǒng)上投入更多資金。 Dataquest預(yù)測(cè)，這些工具 - 包括基于光學(xué)和SEM的系統(tǒng) - 到2003年將產(chǎn)生3.84億美元的收入，而1998年為1.58億美元。