我國正加速實現(xiàn)中高端光刻機的國產(chǎn)化。近日,亦莊企業(yè)北京國望光學科技有限公司增資項目在北京產(chǎn)權交易所完成。通過此次增資,國望光學引入中國科學院長春光學精密機械與物理研究所和中國科學院上海光學精密機械研究所作為戰(zhàn)略投資者,兩家機構以無形資產(chǎn)作價10億元入股,對應持股比例為33.33%。這意味著北京在推動國產(chǎn)光刻機核心部件生產(chǎn)方面邁出實質性步伐,將加快突破國產(chǎn)中高端光刻機制造“卡脖子”技術難題。
光刻機作為集成電路制造中最關鍵的設備,對芯片制作工藝有著決定性的影響,被譽為“超精密制造技術皇冠上的明珠”,制造和維護均需要高度的光學和電子工業(yè)基礎。光刻機工作原理跟照相機類似,不過它的底片是涂滿光刻膠的硅片,各種電路圖案經(jīng)激光縮微投影曝光到光刻膠上,光刻膠的曝光部分與硅片進行反應,將其永久刻在硅片上,這就是芯片生產(chǎn)最重要的步驟。由于制造光刻機具有極高的技術和資金門檻,目前全球光刻機市場基本被荷蘭的阿斯麥、日本的尼康和佳能三家企業(yè)壟斷。
國望光學2018年6月落戶北京經(jīng)濟技術開發(fā)區(qū),是北京亦莊國際投資發(fā)展有限公司的全資子公司,注冊資本20億元,主營業(yè)務為光刻機核心部件生產(chǎn)。
“國產(chǎn)光刻機制作工藝和全球頂尖工藝還有一定差距,國望光學的成立就是要推動國產(chǎn)中高端光刻機整機研發(fā)和量產(chǎn)?!币嗲f國投相關負責人說,此次通過北交所增資就是要尋找技術實力一流的戰(zhàn)略投資方。
聲明:本文內容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權轉載。文章觀點僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場。文章及其配圖僅供工程師學習之用,如有內容侵權或者其他違規(guī)問題,請聯(lián)系本站處理。
舉報投訴
相關推薦
電子發(fā)燒友網(wǎng)報道(文/黃山明)作為芯片制造過程中的核心設備,光刻機決定著芯片工藝的制程。尤其是EUV光刻機已經(jīng)成為高端芯片(7nm及以下)芯片量產(chǎn)的關鍵,但目前EUV光刻機基本由荷蘭阿斯麥(ASML
發(fā)表于 10-17 00:13
?2447次閱讀
據(jù)外媒報道,目前,俄羅斯首臺光刻機已經(jīng)制造完成并正在進行測試。 俄羅斯聯(lián)邦工業(yè)和貿(mào)易部副部長瓦西里-什帕克(Vasily Shpak)表示,已組裝并制造了第一臺國產(chǎn)光刻機,作為澤廖諾格勒技術生產(chǎn)線
發(fā)表于 05-28 15:47
?665次閱讀
的芯片。Shpak表示,“我們組裝并制造了第一臺國產(chǎn)光刻機。作為澤廖諾格勒技術生產(chǎn)線的一部分,目前正在對其進行測試?!倍砹_斯接下來的目標是在2026年制造可以支持130nm工藝的光刻機。 據(jù)報道,俄羅斯科學院下諾夫哥羅德應用物理
發(fā)表于 05-28 09:13
?601次閱讀
阿斯麥稱可遠程癱瘓臺積電光刻機 據(jù)彭博社爆料稱,有美國官員就大陸攻臺的后果私下向荷蘭和中國臺灣官員表達擔憂。對此,光刻機制造商阿斯麥(ASML)向荷蘭官員保證,可以遠程癱瘓(remotely
發(fā)表于 05-22 11:29
?5685次閱讀
據(jù)臺灣業(yè)內人士透露,臺積電并未為A16制程配備高數(shù)值孔徑(High-NA)EUV光刻機,而選擇利用現(xiàn)有的EUV光刻機進行生產(chǎn)。相較之下,英特爾和三星則計劃在此階段使用最新的High-NA EUV光刻機。
發(fā)表于 05-17 17:21
?820次閱讀
盡管High NA EUV光刻機有望使芯片設計尺寸縮減達三分之二,但芯片制造商需要權衡利弊,考慮其高昂的成本及ASML老款設備的可靠性問題。
發(fā)表于 05-15 09:34
?355次閱讀
英特爾的研發(fā)團隊正致力于對這臺先進的ASML TWINSCAN EXE:5000 High NA EUV光刻機進行細致的校準工作,以確保其能夠順利融入未來的生產(chǎn)線。
發(fā)表于 04-22 15:52
?823次閱讀
光刻機有很多種類型,但有時也很難用類型進行分類來區(qū)別設備,因為有些分類僅是在某一分類下的分類。
發(fā)表于 04-10 15:02
?1535次閱讀
光刻機經(jīng)歷了5代產(chǎn)品發(fā)展,每次改進和創(chuàng)新都顯著提升了光刻機所能實現(xiàn)的最小工藝節(jié)點。按照使用光源依次從g-line、i-line發(fā)展到KrF、ArF和EUV;按照工作原理依次從接觸接近式光刻機發(fā)展到浸沒步進式投影
發(fā)表于 03-21 11:31
?5417次閱讀
ASML 官網(wǎng)尚未上線 Twinscan NXE:3800E 的信息頁面。 除了正在研發(fā)的 High-NA EUV 光刻機 Twinscan EXE 系列,ASML 也為其 NXE 系列傳統(tǒng)數(shù)值孔徑
發(fā)表于 03-14 08:42
?479次閱讀
據(jù)荷蘭《電訊報》3月6日報道,因荷蘭政府的反移民政策傾向,光刻機巨頭阿斯麥(ASML)正計劃搬離荷蘭。
發(fā)表于 03-08 14:02
?1068次閱讀
光刻膠是一種涂覆在半導體器件表面的特殊液體材料,可以通過光刻機上的模板或掩模來進行曝光。
發(fā)表于 03-04 17:19
?3616次閱讀
供應鏈消息人士向WitDisplay透露,應用材料全球首臺第6代AMOLED垂直蒸鍍機已出貨,成功打破日韓廠商在6代蒸鍍機的壟斷格局。
發(fā)表于 01-29 09:48
?993次閱讀
光刻機是微電子制造的關鍵設備,廣泛應用于集成電路、平面顯示器、LED、MEMS等領域。在集成電路制造中,光刻機被用于制造芯片上的電路圖案。
發(fā)表于 01-29 09:37
?2363次閱讀
如果我們假設光刻機成本為 3.5 億至 4 億美元,并且 2024 年 10 個光刻機的HIGH NA 銷售額將在 35億至40億美元之間。
發(fā)表于 12-28 11:31
?787次閱讀
評論