0
  • 聊天消息
  • 系統(tǒng)消息
  • 評論與回復(fù)
登錄后你可以
  • 下載海量資料
  • 學(xué)習(xí)在線課程
  • 觀看技術(shù)視頻
  • 寫文章/發(fā)帖/加入社區(qū)
會(huì)員中心
創(chuàng)作中心

完善資料讓更多小伙伴認(rèn)識你,還能領(lǐng)取20積分哦,立即完善>

3天內(nèi)不再提示

中芯國際表示深圳工廠進(jìn)口光刻機(jī)不是EUV光刻機(jī)

汽車玩家 ? 來源:IT之家 ? 作者:遠(yuǎn)洋 ? 2020-03-07 10:55 ? 次閱讀

IT之家3月6日消息 據(jù)中國證券報(bào)報(bào)道,3月6日下午從中芯國際獲悉,日前中芯國際深圳工廠從荷蘭進(jìn)口了一臺(tái)大型光刻機(jī),但這是設(shè)備正常導(dǎo)入,用于產(chǎn)能擴(kuò)充,并非外界所稱的EUV光刻機(jī)。

IT之家今天早些時(shí)候報(bào)道,3月4日早上8點(diǎn)不到,中芯國際集成電路制造(深圳)有限公司從從荷蘭進(jìn)口的一臺(tái)大型光刻機(jī)順利通過出口加工區(qū)場站兩道閘口進(jìn)入廠區(qū),這臺(tái)機(jī)器主要用于企業(yè)復(fù)工復(fù)產(chǎn)后的生產(chǎn)線擴(kuò)容。

據(jù)IT之家獲悉,EUV光刻機(jī)主要用于7nm及以下制程。中芯國際目前量產(chǎn)的最先進(jìn)制程為第一代FinFET 14nm,已貢獻(xiàn)2019年第四季度1%營收。

聲明:本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點(diǎn)僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場。文章及其配圖僅供工程師學(xué)習(xí)之用,如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問題,請聯(lián)系本站處理。 舉報(bào)投訴
  • 中芯國際
    +關(guān)注

    關(guān)注

    27

    文章

    1413

    瀏覽量

    65217
  • 光刻機(jī)
    +關(guān)注

    關(guān)注

    31

    文章

    1141

    瀏覽量

    47080
  • EUV
    EUV
    +關(guān)注

    關(guān)注

    8

    文章

    601

    瀏覽量

    85920
收藏 人收藏

    評論

    相關(guān)推薦

    光刻機(jī)巨頭ASML業(yè)績暴雷,芯片迎來新一輪“寒流”?

    電子發(fā)燒友網(wǎng)報(bào)道(文/黃山明)作為芯片制造過程的核心設(shè)備,光刻機(jī)決定著芯片工藝的制程。尤其是EUV光刻機(jī)已經(jīng)成為高端芯片(7nm及以下)芯片量產(chǎn)的關(guān)鍵,但目前
    的頭像 發(fā)表于 10-17 00:13 ?2412次閱讀

    俄羅斯首臺(tái)光刻機(jī)問世

    據(jù)外媒報(bào)道,目前,俄羅斯首臺(tái)光刻機(jī)已經(jīng)制造完成并正在進(jìn)行測試。 俄羅斯聯(lián)邦工業(yè)和貿(mào)易部副部長瓦西里-什帕克(Vasily Shpak)表示,已組裝并制造了第一臺(tái)國產(chǎn)光刻機(jī),作為澤廖諾格勒技術(shù)生產(chǎn)線
    的頭像 發(fā)表于 05-28 15:47 ?665次閱讀

    Rapidus對首代工藝0.33NA EUV解決方案表示滿意,未采用高NA EUV光刻機(jī)

    在全球四大先進(jìn)制程代工巨頭(包括臺(tái)積電、三星電子、英特爾以及Rapidus),只有英特爾明確表示將使用High NA EUV光刻機(jī)進(jìn)行大規(guī)模生產(chǎn)。
    的頭像 發(fā)表于 05-27 14:37 ?547次閱讀

    后門!ASML可遠(yuǎn)程鎖光刻機(jī)!

    來源:國網(wǎng),謝謝 編輯:感知視界 Link 5月22日消息,據(jù)外媒報(bào)道,臺(tái)積電從ASML購買的EUV極紫外光刻機(jī),暗藏后門,可以在必要的時(shí)候執(zhí)行遠(yuǎn)程鎖定! 據(jù)《聯(lián)合早報(bào)》報(bào)道,荷蘭
    的頭像 發(fā)表于 05-24 09:35 ?451次閱讀

    荷蘭阿斯麥稱可遠(yuǎn)程癱瘓臺(tái)積電光刻機(jī)

    disable)臺(tái)積電相應(yīng)機(jī)器,而且還可以包括最先進(jìn)的極紫外光刻機(jī)EUV)。 這就意味著阿斯麥(ASML)留了后門,隨時(shí)有能力去遠(yuǎn)程癱瘓制造芯片的光刻機(jī)。 要知道我國大陸市場已經(jīng)連續(xù)三個(gè)季度成為阿斯麥(ASML)最大市場,而
    的頭像 發(fā)表于 05-22 11:29 ?5679次閱讀

    臺(tái)積電A16制程采用EUV光刻機(jī),2026年下半年量產(chǎn)

    據(jù)臺(tái)灣業(yè)內(nèi)人士透露,臺(tái)積電并未為A16制程配備高數(shù)值孔徑(High-NA)EUV光刻機(jī),而選擇利用現(xiàn)有的EUV光刻機(jī)進(jìn)行生產(chǎn)。相較之下,英特爾和三星則計(jì)劃在此階段使用最新的High-N
    的頭像 發(fā)表于 05-17 17:21 ?809次閱讀

    英特爾突破技術(shù)壁壘:首臺(tái)商用High NA EUV光刻機(jī)成功組裝

    英特爾的研發(fā)團(tuán)隊(duì)正致力于對這臺(tái)先進(jìn)的ASML TWINSCAN EXE:5000 High NA EUV光刻機(jī)進(jìn)行細(xì)致的校準(zhǔn)工作,以確保其能夠順利融入未來的生產(chǎn)線。
    的頭像 發(fā)表于 04-22 15:52 ?822次閱讀

    光刻機(jī)的常見類型解析

    光刻機(jī)有很多種類型,但有時(shí)也很難用類型進(jìn)行分類來區(qū)別設(shè)備,因?yàn)橛行┓诸悆H是在某一分類下的分類。
    發(fā)表于 04-10 15:02 ?1531次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻機(jī)</b>的常見類型解析

    光刻機(jī)的發(fā)展歷程及工藝流程

    光刻機(jī)經(jīng)歷了5代產(chǎn)品發(fā)展,每次改進(jìn)和創(chuàng)新都顯著提升了光刻機(jī)所能實(shí)現(xiàn)的最小工藝節(jié)點(diǎn)。按照使用光源依次從g-line、i-line發(fā)展到KrF、ArF和EUV;按照工作原理依次從接觸接近式光刻機(jī)
    發(fā)表于 03-21 11:31 ?5399次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻機(jī)</b>的發(fā)展歷程及工藝流程

    ASML 首臺(tái)新款 EUV 光刻機(jī) Twinscan NXE:3800E 完成安裝

    3 月 13 日消息,光刻機(jī)制造商 ASML 宣布其首臺(tái)新款 EUV 光刻機(jī) Twinscan NXE:3800E 已完成安裝,新機(jī)型將帶來更高的生產(chǎn)效率。 ▲ ASML 在 X 平臺(tái)上的相關(guān)動(dòng)態(tài)
    的頭像 發(fā)表于 03-14 08:42 ?473次閱讀
    ASML 首臺(tái)新款 <b class='flag-5'>EUV</b> <b class='flag-5'>光刻機(jī)</b> Twinscan NXE:3800E 完成安裝

    光刻膠和光刻機(jī)的區(qū)別

    光刻膠是一種涂覆在半導(dǎo)體器件表面的特殊液體材料,可以通過光刻機(jī)上的模板或掩模來進(jìn)行曝光。
    的頭像 發(fā)表于 03-04 17:19 ?3589次閱讀

    佳能預(yù)計(jì)到2024年出貨納米壓印光刻機(jī)

    Takeishi向英國《金融時(shí)報(bào)》表示,公司計(jì)劃于2024年開始出貨其納米壓印光刻機(jī)FPA-1200NZ2C,并補(bǔ)充說芯片可以輕松以低成本制造。2023年11月,該公司表示該設(shè)備的價(jià)格將比ASML的
    的頭像 發(fā)表于 02-01 15:42 ?802次閱讀
    佳能預(yù)計(jì)到2024年出貨納米壓印<b class='flag-5'>光刻機(jī)</b>

    光刻機(jī)結(jié)構(gòu)及IC制造工藝工作原理

    光刻機(jī)是微電子制造的關(guān)鍵設(shè)備,廣泛應(yīng)用于集成電路、平面顯示器、LED、MEMS等領(lǐng)域。在集成電路制造,光刻機(jī)被用于制造芯片上的電路圖案。
    發(fā)表于 01-29 09:37 ?2349次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻機(jī)</b>結(jié)構(gòu)及IC制造工藝工作原理

    荷蘭政府撤銷ASML光刻機(jī)出口許可 中方回應(yīng)美停止對華供光刻機(jī)

    在10-11月份中國進(jìn)口ASML的光刻機(jī)激增10多倍后,美國官員聯(lián)系了荷蘭政府。荷蘭外交發(fā)言人表示,出口許可證是根據(jù)荷蘭國家安全逐案評估的。
    的頭像 發(fā)表于 01-03 15:22 ?1024次閱讀

    英特爾搶下6種ASML HIGH NA光刻機(jī)

    如果我們假設(shè)光刻機(jī)成本為 3.5 億至 4 億美元,并且 2024 年 10 個(gè)光刻機(jī)的HIGH NA 銷售額將在 35億至40億美元之間。
    的頭像 發(fā)表于 12-28 11:31 ?784次閱讀