0
  • 聊天消息
  • 系統(tǒng)消息
  • 評(píng)論與回復(fù)
登錄后你可以
  • 下載海量資料
  • 學(xué)習(xí)在線課程
  • 觀看技術(shù)視頻
  • 寫文章/發(fā)帖/加入社區(qū)
會(huì)員中心
創(chuàng)作中心

完善資料讓更多小伙伴認(rèn)識(shí)你,還能領(lǐng)取20積分哦,立即完善>

3天內(nèi)不再提示

我國光刻機(jī)技術(shù)處于一個(gè)什么水平,未來發(fā)展將會(huì)何如

獨(dú)愛72H ? 來源:科技晴 ? 作者:科技晴 ? 2020-03-19 16:46 ? 次閱讀

(文章來源:科技晴)

我國的光刻機(jī)目前能做的只有90nm制程,而荷蘭的ASML 最新EUV工藝光刻機(jī)可以做到7nm制程、6nm制程、5nm制程,并且一臺(tái)頂級(jí)的光刻機(jī)需要上萬個(gè)零部件,需要不同國家的各個(gè)頂級(jí)部件,售價(jià)也高達(dá)7億人民幣。我們國家技術(shù)差就差在沒有得到各個(gè)公司的頂級(jí)技術(shù)支持,以及國外對于光刻機(jī)關(guān)鍵部件的封鎖??赐暌韵潞商mASML光刻機(jī)為什么能夠成功,就可以知道我們究竟差在哪里。

荷蘭ASML公司是目前全球頂級(jí)光刻機(jī)的扛把子,雖然說尼康(Nikon)和佳能(Canon) 也能夠提供商用的光刻機(jī),但它們與ASML光刻機(jī)市場占有率相比還是差非常多,ASML占據(jù)了全球80%以上的份額。

制造光刻機(jī)所需要的鏡片、光柵都是由德國和美國提供,這兩樣?xùn)|西對我們國家來說都是禁止銷售的,也就是我們有錢也不可能買的到。我們就以德國蔡司公司提供的鏡頭來說,據(jù)說這個(gè)工廠祖孫三代從事同一個(gè)職位,制造鏡頭技術(shù)根本不外傳,鏡片材質(zhì)要做到均勻,需幾十年到上百十年技術(shù)積淀。

再加之荷蘭ASML公司有一個(gè)模式,那就是只有投資它的公司才能夠優(yōu)先得到他們的頂級(jí)光刻機(jī)。例如蔡司就是投資了ASML,占據(jù)了它超過20%的股份。這些公司不單單投資它,也給它提供最新的技術(shù),這樣它就不是孤軍奮戰(zhàn)狀態(tài),做到了技術(shù)分工。像三星、英特爾、臺(tái)積電都對它有一定的投資,才能夠優(yōu)先獲得它的最先頂級(jí)的光刻機(jī)。

荷蘭雖然是一個(gè)小國家,但它對知識(shí)產(chǎn)權(quán)特別的重視,這讓ASML有很多自己的知識(shí)技術(shù)產(chǎn)權(quán)。一旦它擁有了這個(gè)產(chǎn)權(quán),別人是不能夠再使用,使用需要繳納一定費(fèi)用,這也就自然成就了ASML全球霸主的地位。根據(jù)WTO公布的數(shù)據(jù),近十年來,全球知識(shí)產(chǎn)權(quán)使用費(fèi)出口排名中,荷蘭(僅包括五年的數(shù)據(jù))達(dá)到2392億美元,僅次于美國和日本,超過英國,法國,德國等歐洲大國。

我們都知道華為投資超級(jí)多才造就了如今的海思麒麟處理器,而ASML的頂級(jí)光刻機(jī)也是一樣。在2019年 荷蘭ASML公司全球銷售額大概是21億歐元左右,它拿出了4.8億歐元進(jìn)行技術(shù)研發(fā),研發(fā)費(fèi)用占營收的比例達(dá)到22.8%。因此它的成功不是偶然,是必然。

我們國家的光刻機(jī)主要是以上海微電子設(shè)備研究所的為主,它做的是國內(nèi)比較先進(jìn)的了,它的SMEE200系列光刻機(jī)只有90nm。其它的就更不能提了,例如合肥芯碩半導(dǎo)體公司都只能夠擁有200nm工藝。當(dāng)時(shí)上海微電子的總經(jīng)理去德國考察時(shí),人家曾經(jīng)明確的說,就算我們給你們?nèi)椎膱D紙,你們也不可能做出來我們這種光刻機(jī)。

它之所以能夠說出這種話,也不是對我們的一種鄙視,而就是現(xiàn)實(shí)。因?yàn)檫@個(gè)光刻機(jī)堪稱人類智慧集大成的產(chǎn)物,它被稱為現(xiàn)代光學(xué)工業(yè)之花。曾經(jīng)有人這樣形容它的工作過程,就像坐在一架超音速飛行的飛機(jī)上時(shí),拿著線頭穿進(jìn)另一架飛機(jī)上的針孔。

雖然最近不斷的有好消息,例如2018時(shí)中科院的“超分辨光刻裝備研制”通過驗(yàn)收,它的光刻分辨力達(dá)到22nm,結(jié)合雙重曝光技術(shù)后,未來還可用于制造10nm級(jí)別的芯片。但是與ASML比起來還是差很遠(yuǎn),并且它是處于實(shí)驗(yàn)室階段,想要真正商業(yè)化使用還是需要一段時(shí)間。而反觀現(xiàn)在的ASML,它的EUV光刻機(jī),已經(jīng)可以達(dá)到7nm,甚至5nm。因此我們的光刻機(jī)還處于不利地位,需要很長一段路要走。

通過以上的介紹大家就可以知道我們與他們究竟差在哪里,這并不能說我們不行。而是因?yàn)檫@個(gè)東西需要的部件太多了,也需要不同企業(yè)頂尖技術(shù)支持,只有把它們頂級(jí)技術(shù)進(jìn)行整合才能夠做出頂級(jí)光刻機(jī)。而我們現(xiàn)在是肯定不行的,因?yàn)槊绹?、歐盟對光刻機(jī)關(guān)鍵部件、技術(shù)都是嚴(yán)格封鎖,有再多的錢都不一定會(huì)出售。我們差就差在沒有整個(gè)行業(yè)頂級(jí)技術(shù)支持,以及先進(jìn)的鏡片支持。

我們要做的仍然是不斷加大研發(fā)投入,就像海思麒麟處理器一樣,只有不斷投入研發(fā),技術(shù)積累,各個(gè)行業(yè)緊密合作幫助才能夠做出頂級(jí)光刻機(jī)。2G、3G、4G一直落后于人,5G我們做到了領(lǐng)先。雖然我們現(xiàn)在光刻機(jī)很弱,但是相信經(jīng)過一段時(shí)間技術(shù)積累,我們?nèi)耘f可以做到領(lǐng)先,未來可期。
(責(zé)任編輯:fqj)

聲明:本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點(diǎn)僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場。文章及其配圖僅供工程師學(xué)習(xí)之用,如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問題,請聯(lián)系本站處理。 舉報(bào)投訴
  • 芯片
    +關(guān)注

    關(guān)注

    452

    文章

    50026

    瀏覽量

    419812
  • 光刻機(jī)
    +關(guān)注

    關(guān)注

    31

    文章

    1141

    瀏覽量

    47082
收藏 人收藏

    評(píng)論

    相關(guān)推薦

    光刻機(jī)巨頭ASML業(yè)績暴雷,芯片迎來新輪“寒流”?

    電子發(fā)燒友網(wǎng)報(bào)道(文/黃山明)作為芯片制造過程中的核心設(shè)備,光刻機(jī)決定著芯片工藝的制程。尤其是EUV光刻機(jī)已經(jīng)成為高端芯片(7nm及以下)芯片量產(chǎn)的關(guān)鍵,但目前EUV光刻機(jī)基本由荷蘭阿斯麥(ASML
    的頭像 發(fā)表于 10-17 00:13 ?2432次閱讀

    凈化機(jī)光刻機(jī):陌路交錯(cuò),攜手開創(chuàng)行業(yè)未來

    光刻機(jī)被稱為“半導(dǎo)體行業(yè)的璀璨明珠”,融合了光學(xué)、流體力學(xué)、表面物理與化學(xué)、精密儀器、軟件和圖像等多個(gè)領(lǐng)域的尖端技術(shù),其構(gòu)造由十幾萬個(gè)部件組成。全球有超過5000家領(lǐng)先企業(yè)提供相關(guān)設(shè)備,包括來自德國
    的頭像 發(fā)表于 09-26 09:06 ?166次閱讀

    俄羅斯首臺(tái)光刻機(jī)問世

    據(jù)外媒報(bào)道,目前,俄羅斯首臺(tái)光刻機(jī)已經(jīng)制造完成并正在進(jìn)行測試。 俄羅斯聯(lián)邦工業(yè)和貿(mào)易部副部長瓦西里-什帕克(Vasily Shpak)表示,已組裝并制造了第臺(tái)國產(chǎn)光刻機(jī),作為澤廖諾格勒技術(shù)
    的頭像 發(fā)表于 05-28 15:47 ?665次閱讀

    荷蘭阿斯麥稱可遠(yuǎn)程癱瘓臺(tái)積電光刻機(jī)

    disable)臺(tái)積電相應(yīng)機(jī)器,而且還可以包括最先進(jìn)的極紫外光刻機(jī)(EUV)。 這就意味著阿斯麥(ASML)留了后門,隨時(shí)有能力去遠(yuǎn)程癱瘓制造芯片的光刻機(jī)。 要知道我國大陸市場已經(jīng)連續(xù)三個(gè)
    的頭像 發(fā)表于 05-22 11:29 ?5680次閱讀

    臺(tái)積電A16制程采用EUV光刻機(jī),2026年下半年量產(chǎn)

    據(jù)臺(tái)灣業(yè)內(nèi)人士透露,臺(tái)積電并未為A16制程配備高數(shù)值孔徑(High-NA)EUV光刻機(jī),而選擇利用現(xiàn)有的EUV光刻機(jī)進(jìn)行生產(chǎn)。相較之下,英特爾和三星則計(jì)劃在此階段使用最新的High-NA EUV光刻機(jī)。
    的頭像 發(fā)表于 05-17 17:21 ?813次閱讀

    英特爾突破技術(shù)壁壘:首臺(tái)商用High NA EUV光刻機(jī)成功組裝

    英特爾的研發(fā)團(tuán)隊(duì)正致力于對這臺(tái)先進(jìn)的ASML TWINSCAN EXE:5000 High NA EUV光刻機(jī)進(jìn)行細(xì)致的校準(zhǔn)工作,以確保其能夠順利融入未來的生產(chǎn)線。
    的頭像 發(fā)表于 04-22 15:52 ?822次閱讀

    光刻機(jī)的常見類型解析

    光刻機(jī)有很多種類型,但有時(shí)也很難用類型進(jìn)行分類來區(qū)別設(shè)備,因?yàn)橛行┓诸悆H是在某分類下的分類。
    發(fā)表于 04-10 15:02 ?1534次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻機(jī)</b>的常見類型解析

    光刻機(jī)發(fā)展歷程及工藝流程

    光刻機(jī)經(jīng)歷了5代產(chǎn)品發(fā)展,每次改進(jìn)和創(chuàng)新都顯著提升了光刻機(jī)所能實(shí)現(xiàn)的最小工藝節(jié)點(diǎn)。按照使用光源依次從g-line、i-line發(fā)展到KrF、ArF和EUV;按照工作原理依次從接觸接近式
    發(fā)表于 03-21 11:31 ?5413次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻機(jī)</b>的<b class='flag-5'>發(fā)展</b>歷程及工藝流程

    ASML 首臺(tái)新款 EUV 光刻機(jī) Twinscan NXE:3800E 完成安裝

    EUV 光刻機(jī)持續(xù)更新升級(jí),未來目標(biāo)在 2025 年推出 NXE:4000F 機(jī)型。 上兩代 NXE 系列機(jī)型 3400C 和 3600D 分別適合 7~5、5~3 納米節(jié)點(diǎn)生產(chǎn),德媒 ComputerBase 因此預(yù)測 3800E 有望支持 3~2
    的頭像 發(fā)表于 03-14 08:42 ?478次閱讀
    ASML 首臺(tái)新款 EUV <b class='flag-5'>光刻機(jī)</b> Twinscan NXE:3800E 完成安裝

    光刻機(jī)巨頭ASML要搬離荷蘭?

    據(jù)荷蘭《電訊報(bào)》3月6日報(bào)道,因荷蘭政府的反移民政策傾向,光刻機(jī)巨頭阿斯麥(ASML)正計(jì)劃搬離荷蘭。
    的頭像 發(fā)表于 03-08 14:02 ?1066次閱讀

    ASML光刻機(jī)技術(shù)的領(lǐng)航者,挑戰(zhàn)與機(jī)遇并存

    ASML在半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)中扮演著舉足輕重的角色,其光刻機(jī)技術(shù)和市場地位對于全球半導(dǎo)體制造廠商來說都具有重要意義。
    發(fā)表于 03-05 11:26 ?1009次閱讀

    光刻膠和光刻機(jī)的區(qū)別

    光刻膠是種涂覆在半導(dǎo)體器件表面的特殊液體材料,可以通過光刻機(jī)上的模板或掩模來進(jìn)行曝光。
    的頭像 發(fā)表于 03-04 17:19 ?3606次閱讀

    光刻機(jī)結(jié)構(gòu)及IC制造工藝工作原理

    光刻機(jī)是微電子制造的關(guān)鍵設(shè)備,廣泛應(yīng)用于集成電路、平面顯示器、LED、MEMS等領(lǐng)域。在集成電路制造中,光刻機(jī)被用于制造芯片上的電路圖案。
    發(fā)表于 01-29 09:37 ?2360次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻機(jī)</b>結(jié)構(gòu)及IC制造工藝工作原理

    狂加工年!ASML把欠中國的600億光刻機(jī),成功交付了

    系列環(huán)節(jié)如制造、封裝、測試等。 ? 在這其中,制造過程顯得尤為關(guān)鍵,而高端光刻機(jī)則是制造過程中不可或缺的設(shè)備。 光刻機(jī)在微電子制造過程中扮演核心角色,其要求具備高度精密的光學(xué)系統(tǒng)、復(fù)雜的機(jī)械結(jié)構(gòu)和先進(jìn)的控制
    的頭像 發(fā)表于 01-17 17:56 ?601次閱讀

    英特爾搶下6種ASML HIGH NA光刻機(jī)

    如果我們假設(shè)光刻機(jī)成本為 3.5 億至 4 億美元,并且 2024 年 10 個(gè)光刻機(jī)的HIGH NA 銷售額將在 35億至40億美元之間。
    的頭像 發(fā)表于 12-28 11:31 ?786次閱讀