0
  • 聊天消息
  • 系統(tǒng)消息
  • 評論與回復(fù)
登錄后你可以
  • 下載海量資料
  • 學(xué)習(xí)在線課程
  • 觀看技術(shù)視頻
  • 寫文章/發(fā)帖/加入社區(qū)
會員中心
創(chuàng)作中心

完善資料讓更多小伙伴認識你,還能領(lǐng)取20積分哦,立即完善>

3天內(nèi)不再提示

90nm國產(chǎn)光刻機對比5nm ASML光刻機,差距很大

獨愛72H ? 來源:網(wǎng)絡(luò)整理 ? 作者:佚名 ? 2020-04-13 17:22 ? 次閱讀

(文章來源:網(wǎng)絡(luò)整理)

眾所周知全球最大的兩個芯片代工廠是三星和臺積電,雖說臺積電和三星如果斷供,像華為麒麟高端芯片可能就會癱瘓,但三星和臺積電也沒有自己的光刻機,只能跟荷蘭ASML公司購買。從去年開始,華為開始被一些科技企業(yè)斷供,現(xiàn)在又有消息稱要從芯片產(chǎn)業(yè)鏈上限制,對此華為徐直軍霸氣回應(yīng)稱那么蘋果手機在國內(nèi)也要被禁售。隨著華為關(guān)注度提升后,臺積電,ASML,中芯國際等企業(yè)也備受關(guān)注,很多網(wǎng)友關(guān)注國產(chǎn)光刻機發(fā)展到了什么地步,與ASML的差距還有多少,接下來就說一說國產(chǎn)光刻機和全球最強的ASML光刻機的差距。

國產(chǎn)最先進的光刻機來自上海微電子(SMEE),成立至今已有18年,目前這家科技企業(yè)所能生產(chǎn)的最頂級的芯片制造工藝是90nm。那么這個水平和ASML相比如何呢,ASML早在2018年就將其光刻機賣給三星和臺積電大規(guī)模量產(chǎn)7nm高端芯片,臺積電表示現(xiàn)在已經(jīng)開始試產(chǎn)5nm芯片,今年下半年大規(guī)模量產(chǎn)。經(jīng)過對比,可以微電子光刻機技術(shù)與世界先進水平的ASML光刻機還有很大的差距,至少25年。

微電子光刻機生產(chǎn)90nm及之前的制程工藝,屬于低端領(lǐng)域,目前微電子壟斷了低端芯片生產(chǎn),全球市場份額高達80%,不過大家最期待的高端芯片市場份額為零,目前16nm已經(jīng)不算高端芯片工藝,而5nm大規(guī)模商用之后,10nm可能又被認為是中端工藝技術(shù),所以說即使現(xiàn)在能做出高端光刻機的企業(yè)罕見,代工廠也就那么幾家,但高端芯片工藝技術(shù)每年都在突破,上海微電子仍需要長時間追趕。

微電子難以突破高端光刻機的一大原因是買不到關(guān)鍵零部件,SAML公司也需要購買美國光柵、德國鏡頭、瑞典軸承、法國閥件等國外一些高科技企業(yè)的光刻機部件,而這些硬件都不對外出售,所以說微電子只能從零開始。當(dāng)然有總比沒有好,高端光刻機也是從低端開始做起,微電子突破高端光刻機只是時間問題。

目前不僅是高端光刻機關(guān)鍵零部件被限制,流量中芯國際購買ASML光刻機也被暫停供應(yīng),之前購買的7nm EUV高端光刻機至今仍未通過授權(quán),因此中芯還不能生產(chǎn)7nm芯片。但近日純國產(chǎn)芯片麒麟710A正式商用,該芯片由中芯國際代工,12nm工藝,說明中芯已經(jīng)突破能量產(chǎn)12nm芯片,據(jù)悉今年年底量產(chǎn)10nm芯片??偨Y(jié),目前中芯國際和微電子仍在不斷突破新技術(shù),最終將邁向高端芯片技術(shù)領(lǐng)域。
(責(zé)任編輯:fqj)

聲明:本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場。文章及其配圖僅供工程師學(xué)習(xí)之用,如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問題,請聯(lián)系本站處理。 舉報投訴
  • 芯片
    +關(guān)注

    關(guān)注

    452

    文章

    50026

    瀏覽量

    419814
  • 光刻機
    +關(guān)注

    關(guān)注

    31

    文章

    1141

    瀏覽量

    47082
收藏 人收藏

    評論

    相關(guān)推薦

    光刻機巨頭ASML業(yè)績暴雷,芯片迎來新一輪“寒流”?

    電子發(fā)燒友網(wǎng)報道(文/黃山明)作為芯片制造過程中的核心設(shè)備,光刻機決定著芯片工藝的制程。尤其是EUV光刻機已經(jīng)成為高端芯片(7nm及以下)芯片量產(chǎn)的關(guān)鍵,但目前EUV光刻機基本由荷蘭阿
    的頭像 發(fā)表于 10-17 00:13 ?2433次閱讀

    光刻巨人去世 阿斯麥(ASML)光刻機巨頭聯(lián)合創(chuàng)始人去世

    圈內(nèi)突發(fā)噩耗,光刻巨人去世; 阿斯麥(ASML)光刻機巨頭聯(lián)合創(chuàng)始人維姆?特羅斯特去世。 據(jù)外媒報道,在當(dāng)?shù)貢r間11日晚,荷蘭光刻機巨頭阿斯麥(AS
    的頭像 發(fā)表于 06-13 15:13 ?6877次閱讀

    俄羅斯首臺光刻機問世

    的一部分,目前正在對其進行測試,該設(shè)備可確保生產(chǎn)350nm的芯片。什帕克還指出,到2026年將獲得130nm國產(chǎn)光刻機,下一步將是開發(fā)90nm
    的頭像 發(fā)表于 05-28 15:47 ?665次閱讀

    俄羅斯推出首臺光刻機:350nm

    的芯片。Shpak表示,“我們組裝并制造了第一臺國產(chǎn)光刻機。作為澤廖諾格勒技術(shù)生產(chǎn)線的一部分,目前正在對其進行測試?!倍砹_斯接下來的目標(biāo)是在2026年制造可以支持130nm工藝的光刻機
    的頭像 發(fā)表于 05-28 09:13 ?600次閱讀

    后門!ASML可遠程鎖光刻機!

    來源:國芯網(wǎng),謝謝 編輯:感知芯視界 Link 5月22日消息,據(jù)外媒報道,臺積電從ASML購買的EUV極紫外光刻機,暗藏后門,可以在必要的時候執(zhí)行遠程鎖定! 據(jù)《聯(lián)合早報》報道,荷蘭方面在
    的頭像 發(fā)表于 05-24 09:35 ?452次閱讀

    荷蘭阿斯麥稱可遠程癱瘓臺積電光刻機

    disable)臺積電相應(yīng)機器,而且還可以包括最先進的極紫外光刻機(EUV)。 這就意味著阿斯麥(ASML)留了后門,隨時有能力去遠程癱瘓制造芯片的光刻機。 要知道我國大陸市場已經(jīng)連續(xù)三個季度成為阿斯麥(
    的頭像 發(fā)表于 05-22 11:29 ?5680次閱讀

    ASML發(fā)貨第二臺High NA EUV光刻機,已成功印刷10nm線寬圖案

    ASML公司近日宣布發(fā)貨了第二臺High NA EUV光刻機,并且已成功印刷出10納米線寬圖案,這一重大突破標(biāo)志著半導(dǎo)體制造領(lǐng)域的技術(shù)革新向前邁進了一大步。
    的頭像 發(fā)表于 04-29 10:44 ?723次閱讀

    光刻機的發(fā)展歷程及工藝流程

    光刻機經(jīng)歷了5代產(chǎn)品發(fā)展,每次改進和創(chuàng)新都顯著提升了光刻機所能實現(xiàn)的最小工藝節(jié)點。按照使用光源依次從g-line、i-line發(fā)展到KrF、ArF和EUV;按照工作原理依次從接觸接近式光刻機
    發(fā)表于 03-21 11:31 ?5413次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻機</b>的發(fā)展歷程及工藝流程

    ASML 首臺新款 EUV 光刻機 Twinscan NXE:3800E 完成安裝

    3 月 13 日消息,光刻機制造商 ASML 宣布其首臺新款 EUV 光刻機 Twinscan NXE:3800E 已完成安裝,新機型將帶來更高的生產(chǎn)效率。 ▲ ASML 在 X 平臺
    的頭像 發(fā)表于 03-14 08:42 ?478次閱讀
    <b class='flag-5'>ASML</b> 首臺新款 EUV <b class='flag-5'>光刻機</b> Twinscan NXE:3800E 完成安裝

    光刻機巨頭ASML要搬離荷蘭?

    據(jù)荷蘭《電訊報》3月6日報道,因荷蘭政府的反移民政策傾向,光刻機巨頭阿斯麥(ASML)正計劃搬離荷蘭。
    的頭像 發(fā)表于 03-08 14:02 ?1067次閱讀

    ASML光刻機技術(shù)的領(lǐng)航者,挑戰(zhàn)與機遇并存

    ASML在半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)中扮演著舉足輕重的角色,其光刻機技術(shù)和市場地位對于全球半導(dǎo)體制造廠商來說都具有重要意義。
    發(fā)表于 03-05 11:26 ?1009次閱讀

    光刻膠和光刻機的區(qū)別

    光刻膠是一種涂覆在半導(dǎo)體器件表面的特殊液體材料,可以通過光刻機上的模板或掩模來進行曝光。
    的頭像 發(fā)表于 03-04 17:19 ?3607次閱讀

    光刻機結(jié)構(gòu)及IC制造工藝工作原理

    光刻機是微電子制造的關(guān)鍵設(shè)備,廣泛應(yīng)用于集成電路、平面顯示器、LED、MEMS等領(lǐng)域。在集成電路制造中,光刻機被用于制造芯片上的電路圖案。
    發(fā)表于 01-29 09:37 ?2360次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻機</b>結(jié)構(gòu)及IC制造工藝工作原理

    荷蘭政府撤銷ASML光刻機出口許可 中方回應(yīng)美停止對華供光刻機

    在10-11月份中國進口ASML光刻機激增10多倍后,美國官員聯(lián)系了荷蘭政府。荷蘭外交發(fā)言人表示,出口許可證是根據(jù)荷蘭國家安全逐案評估的。
    的頭像 發(fā)表于 01-03 15:22 ?1027次閱讀

    英特爾搶下6種ASML HIGH NA光刻機

    如果我們假設(shè)光刻機成本為 3.5 億至 4 億美元,并且 2024 年 10 個光刻機的HIGH NA 銷售額將在 35億至40億美元之間。
    的頭像 發(fā)表于 12-28 11:31 ?786次閱讀