0
  • 聊天消息
  • 系統(tǒng)消息
  • 評(píng)論與回復(fù)
登錄后你可以
  • 下載海量資料
  • 學(xué)習(xí)在線課程
  • 觀看技術(shù)視頻
  • 寫文章/發(fā)帖/加入社區(qū)
會(huì)員中心
創(chuàng)作中心

完善資料讓更多小伙伴認(rèn)識(shí)你,還能領(lǐng)取20積分哦,立即完善>

3天內(nèi)不再提示

中科院開始研發(fā)光刻機(jī) ASML、臺(tái)積電、三星坐不住了

電子工程師 ? 來(lái)源:TSMC ? 作者:TSMC ? 2020-09-27 14:06 ? 次閱讀

近日中科院白院長(zhǎng)就宣布,中科院開始了研發(fā)光刻機(jī)的計(jì)劃。據(jù)說(shuō)這則消息一出,圍繞著光刻機(jī)產(chǎn)業(yè)的一些關(guān)鍵廠商,可以說(shuō)都開始坐不住了,其中就涉及到了ASML,以及ASML的重要客戶,它們就是臺(tái)積電和三星電子

ASML方面就突然表示,今后將會(huì)加快在中國(guó)市場(chǎng)的布局。而作為ASML大客戶的臺(tái)積電和三星,同樣也紛紛宣布了自己的市場(chǎng)舉措,臺(tái)積電總裁魏哲家就表示,臺(tái)積電會(huì)與客戶一起努力,目的就是保證客戶的成功,因?yàn)橹挥锌蛻舫晒?,臺(tái)積電才有生意可做。

三星方面也不示弱,趕緊宣布,三星將會(huì)率先在業(yè)界,成為首批為客戶采用3納米GAA技術(shù)實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)的代工企業(yè)。

原文標(biāo)題:ASML、臺(tái)積電、三星紛紛表態(tài),只因中科院入局光刻機(jī)?

文章出處:【微信公眾號(hào):TSMC】歡迎添加關(guān)注!文章轉(zhuǎn)載請(qǐng)注明出處。

聲明:本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點(diǎn)僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場(chǎng)。文章及其配圖僅供工程師學(xué)習(xí)之用,如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問(wèn)題,請(qǐng)聯(lián)系本站處理。 舉報(bào)投訴
  • 臺(tái)積電
    +關(guān)注

    關(guān)注

    43

    文章

    5578

    瀏覽量

    165880
  • 光刻機(jī)
    +關(guān)注

    關(guān)注

    31

    文章

    1141

    瀏覽量

    47082

原文標(biāo)題:ASML、臺(tái)積電、三星紛紛表態(tài),只因中科院入局光刻機(jī)?

文章出處:【微信號(hào):TenOne_TSMC,微信公眾號(hào):芯片半導(dǎo)體】歡迎添加關(guān)注!文章轉(zhuǎn)載請(qǐng)注明出處。

收藏 人收藏

    評(píng)論

    相關(guān)推薦

    光刻機(jī)巨頭ASML業(yè)績(jī)暴雷,芯片迎來(lái)新一輪“寒流”?

    電子發(fā)燒友網(wǎng)報(bào)道(文/黃山明)作為芯片制造過(guò)程中的核心設(shè)備,光刻機(jī)決定著芯片工藝的制程。尤其是EUV光刻機(jī)已經(jīng)成為高端芯片(7nm及以下)芯片量產(chǎn)的關(guān)鍵,但目前EUV光刻機(jī)基本由荷蘭阿斯麥(A
    的頭像 發(fā)表于 10-17 00:13 ?2426次閱讀

    英特爾欲與三星結(jié)盟對(duì)抗臺(tái)

    英特爾正在積極尋求與三星電子建立“代工聯(lián)盟”,以共同制衡在芯片代工領(lǐng)域占據(jù)領(lǐng)先地位的臺(tái)
    的頭像 發(fā)表于 10-23 17:02 ?253次閱讀

    光刻巨人去世 阿斯麥(ASML)光刻機(jī)巨頭聯(lián)合創(chuàng)始人去世

    圈內(nèi)突發(fā)噩耗,光刻巨人去世; 阿斯麥(ASML)光刻機(jī)巨頭聯(lián)合創(chuàng)始人維姆?特羅斯特去世。 據(jù)外媒報(bào)道,在當(dāng)?shù)貢r(shí)間11日晚,荷蘭光刻機(jī)巨頭阿斯麥(AS
    的頭像 發(fā)表于 06-13 15:13 ?6877次閱讀

    今日看點(diǎn)丨ASML今年將向臺(tái)、三星和英特爾交付High-NA EUV;理想 L9 出事故司機(jī)質(zhì)疑 LCC,產(chǎn)品經(jīng)理回應(yīng)

    1. ASML 今年將向臺(tái)、三星和英特爾交付High-NA EUV ? 根據(jù)報(bào)道,芯片制造設(shè)備商AS
    發(fā)表于 06-06 11:09 ?788次閱讀

    Rapidus對(duì)首代工藝中0.33NA EUV解決方案表示滿意,未采用高NA EUV光刻機(jī)

    在全球四大先進(jìn)制程代工巨頭(包括臺(tái)、三星電子、英特爾以及Rapidus)中,只有英特爾明確表示將使用High NA EUV光刻機(jī)進(jìn)行大規(guī)
    的頭像 發(fā)表于 05-27 14:37 ?548次閱讀

    臺(tái)都嫌貴的光刻機(jī),大力推玻璃基板,英特爾代工的野心和危機(jī)

    電子發(fā)燒友網(wǎng)報(bào)道(文/吳子鵬)此前,臺(tái)高級(jí)副總裁張曉強(qiáng)在技術(shù)研討會(huì)上表示,“ASML最新的高數(shù)值孔徑極紫外光刻機(jī)(high-NA EUV
    的頭像 發(fā)表于 05-27 07:54 ?2374次閱讀

    后門!ASML可遠(yuǎn)程鎖光刻機(jī)!

    來(lái)源:國(guó)芯網(wǎng),謝謝 編輯:感知芯視界 Link 5月22日消息,據(jù)外媒報(bào)道,臺(tái)ASML購(gòu)買的EUV極紫外光刻機(jī),暗藏后門,可以在必要的
    的頭像 發(fā)表于 05-24 09:35 ?451次閱讀

    荷蘭阿斯麥稱可遠(yuǎn)程癱瘓臺(tái)光刻機(jī)

    disable)臺(tái)相應(yīng)機(jī)器,而且還可以包括最先進(jìn)的極紫外光刻機(jī)(EUV)。 這就意味著阿斯麥(ASML)留了后門,隨時(shí)有能力去遠(yuǎn)程癱瘓
    的頭像 發(fā)表于 05-22 11:29 ?5680次閱讀

    臺(tái)A16制程采用EUV光刻機(jī),2026年下半年量產(chǎn)

    據(jù)臺(tái)灣業(yè)內(nèi)人士透露,臺(tái)并未為A16制程配備高數(shù)值孔徑(High-NA)EUV光刻機(jī),而選擇利用現(xiàn)有的EUV光刻機(jī)進(jìn)行生產(chǎn)。相較之下,英特
    的頭像 發(fā)表于 05-17 17:21 ?811次閱讀

    光刻機(jī)巨頭阿斯麥業(yè)績(jī)爆雷 ASML公司一季度訂單下滑

    光刻機(jī)巨頭阿斯麥業(yè)績(jī)爆雷 ASML公司一季度訂單下滑 光刻機(jī)巨頭阿斯麥業(yè)績(jī)爆雷了,阿斯麥(ASML)在4月17日披露的一季度訂單遠(yuǎn)低于市場(chǎng)預(yù)期,這使得阿斯麥(
    的頭像 發(fā)表于 04-18 16:43 ?1136次閱讀

    ASML 首臺(tái)新款 EUV 光刻機(jī) Twinscan NXE:3800E 完成安裝

    ASML 官網(wǎng)尚未上線 Twinscan NXE:3800E 的信息頁(yè)面。 除了正在研發(fā)的 High-NA EUV 光刻機(jī) Twinscan EXE 系列,ASML 也為其 NXE
    的頭像 發(fā)表于 03-14 08:42 ?478次閱讀
    <b class='flag-5'>ASML</b> 首臺(tái)新款 EUV <b class='flag-5'>光刻機(jī)</b> Twinscan NXE:3800E 完成安裝

    光刻機(jī)巨頭ASML要搬離荷蘭?

    據(jù)荷蘭《電訊報(bào)》3月6日?qǐng)?bào)道,因荷蘭政府的反移民政策傾向,光刻機(jī)巨頭阿斯麥(ASML)正計(jì)劃搬離荷蘭。
    的頭像 發(fā)表于 03-08 14:02 ?1065次閱讀

    三星清空ASML股份,11年盈利超16倍

    根據(jù)資料顯示,在2012年,為了支持ASML EUV光刻機(jī)研發(fā)與商用,并獲得EUV光刻機(jī)的優(yōu)先供應(yīng),在2012年,英特爾、臺(tái)
    的頭像 發(fā)表于 02-23 17:27 ?923次閱讀

    iPhone17 Pro將采用臺(tái)2nm芯片!華為小米崛起,蘋果下滑!三星ASML投資建立芯片研發(fā)機(jī)構(gòu)/熱點(diǎn)科技新聞點(diǎn)

    下滑,華為、小米在高端市場(chǎng)份額上升。還有三星宣布和光刻機(jī)龍頭企業(yè)ASML共同投資建立芯片研發(fā)機(jī)構(gòu)。編輯對(duì)條熱點(diǎn)新聞進(jìn)行點(diǎn)評(píng)。
    的頭像 發(fā)表于 12-13 10:37 ?2266次閱讀
    iPhone17 Pro將采用<b class='flag-5'>臺(tái)</b><b class='flag-5'>積</b><b class='flag-5'>電</b>2nm芯片!華為小米崛起,蘋果下滑!<b class='flag-5'>三星</b>和<b class='flag-5'>ASML</b>投資建立芯片<b class='flag-5'>研發(fā)</b>機(jī)構(gòu)/熱點(diǎn)科技新聞點(diǎn)

    三星希望進(jìn)口更多ASML EUV***,5年內(nèi)新增50臺(tái)

    EUV曝光是先進(jìn)制程芯片制造中最重要的部分,占據(jù)總時(shí)間、總成本的一半以上。由于這種光刻機(jī)極為復(fù)雜,因此ASML每年只能制造約60臺(tái),而全球5家芯片制造商都依賴ASML的EUV
    的頭像 發(fā)表于 11-22 16:46 ?674次閱讀