0
  • 聊天消息
  • 系統(tǒng)消息
  • 評(píng)論與回復(fù)
登錄后你可以
  • 下載海量資料
  • 學(xué)習(xí)在線課程
  • 觀看技術(shù)視頻
  • 寫文章/發(fā)帖/加入社區(qū)
會(huì)員中心
創(chuàng)作中心

完善資料讓更多小伙伴認(rèn)識(shí)你,還能領(lǐng)取20積分哦,立即完善>

3天內(nèi)不再提示

AMSL公布最先進(jìn)光刻機(jī)的最新進(jìn)程 生產(chǎn)率已提高18%

如意 ? 來源:快科技 ? 作者:萬南 ? 2020-10-15 09:47 ? 次閱讀

10月14日,荷蘭ASML(阿斯麥)公布了光刻機(jī)產(chǎn)品最新進(jìn)展。

其中TWINSCAN NXE:3600D作為其目前研發(fā)中的最先進(jìn)光刻機(jī)系統(tǒng),終于敲定最終規(guī)格。

具體來說,30mJ/cm2的曝光速度達(dá)到每小時(shí)曝光160片晶圓,提高了18%的生產(chǎn)率,并改進(jìn)機(jī)器匹配套準(zhǔn)精度至1.1nm。

3600D定于2021年中旬出貨交付,客戶還需要一定時(shí)間等待,價(jià)格應(yīng)該不會(huì)低于現(xiàn)款老型號(hào)的1.2億美元。

目前,ASML已經(jīng)投產(chǎn)的最先進(jìn)光刻機(jī)是3400C,但主力出貨型號(hào)是3400B。參數(shù)方面,3400B的套刻精度為2nm、曝光速度20mJ/cm2,每小時(shí)可曝光125片晶圓。

另外,ASML透露,3400B在三季度也完成了軟件升級(jí)。全新的DUV光刻機(jī)TWINSCAN NXT:2050i已經(jīng)在三季度結(jié)束驗(yàn)證,四季度早期開始正式出貨。

據(jù)悉,在截止9月30日的單季度,ASML共獲得60臺(tái)光刻機(jī)收入,出貨了10臺(tái)EUV光刻機(jī)。
責(zé)編AJX

聲明:本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點(diǎn)僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場(chǎng)。文章及其配圖僅供工程師學(xué)習(xí)之用,如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問題,請(qǐng)聯(lián)系本站處理。 舉報(bào)投訴
  • 晶圓
    +關(guān)注

    關(guān)注

    52

    文章

    4785

    瀏覽量

    127594
  • 光刻機(jī)
    +關(guān)注

    關(guān)注

    31

    文章

    1141

    瀏覽量

    47080
  • AMSL
    +關(guān)注

    關(guān)注

    0

    文章

    10

    瀏覽量

    3220
收藏 人收藏

    評(píng)論

    相關(guān)推薦

    俄羅斯首臺(tái)光刻機(jī)問世

    據(jù)外媒報(bào)道,目前,俄羅斯首臺(tái)光刻機(jī)已經(jīng)制造完成并正在進(jìn)行測(cè)試。 俄羅斯聯(lián)邦工業(yè)和貿(mào)易部副部長(zhǎng)瓦西里-什帕克(Vasily Shpak)表示,已組裝并制造了第一臺(tái)國產(chǎn)光刻機(jī),作為澤廖諾格勒技術(shù)生產(chǎn)
    的頭像 發(fā)表于 05-28 15:47 ?665次閱讀

    Rapidus對(duì)首代工藝中0.33NA EUV解決方案表示滿意,未采用高NA EUV光刻機(jī)

    在全球四大先進(jìn)制程代工巨頭(包括臺(tái)積電、三星電子、英特爾以及Rapidus)中,只有英特爾明確表示將使用High NA EUV光刻機(jī)進(jìn)行大規(guī)模生產(chǎn)。
    的頭像 發(fā)表于 05-27 14:37 ?548次閱讀

    ASML考慮推出通用EUV光刻平臺(tái)

    范登布林克指出,更高的數(shù)值孔徑能提高光刻分辨。他進(jìn)一步解釋說,Hyper NA 光刻機(jī)將簡(jiǎn)化先進(jìn)制程
    的頭像 發(fā)表于 05-23 09:51 ?361次閱讀

    荷蘭阿斯麥稱可遠(yuǎn)程癱瘓臺(tái)積電光刻機(jī)

    disable)臺(tái)積電相應(yīng)機(jī)器,而且還可以包括最先進(jìn)的極紫外光刻機(jī)(EUV)。 這就意味著阿斯麥(ASML)留了后門,隨時(shí)有能力去遠(yuǎn)程癱瘓制造芯片的光刻機(jī)。 要知道我國大陸市場(chǎng)已經(jīng)連續(xù)三個(gè)季度成為阿斯麥(ASML)最大市場(chǎng),而
    的頭像 發(fā)表于 05-22 11:29 ?5679次閱讀

    臺(tái)積電A16制程采用EUV光刻機(jī),2026年下半年量產(chǎn)

    據(jù)臺(tái)灣業(yè)內(nèi)人士透露,臺(tái)積電并未為A16制程配備高數(shù)值孔徑(High-NA)EUV光刻機(jī),而選擇利用現(xiàn)有的EUV光刻機(jī)進(jìn)行生產(chǎn)。相較之下,英特爾和三星則計(jì)劃在此階段使用最新的High-NA EUV
    的頭像 發(fā)表于 05-17 17:21 ?809次閱讀

    英特爾突破技術(shù)壁壘:首臺(tái)商用High NA EUV光刻機(jī)成功組裝

    英特爾的研發(fā)團(tuán)隊(duì)正致力于對(duì)這臺(tái)先進(jìn)的ASML TWINSCAN EXE:5000 High NA EUV光刻機(jī)進(jìn)行細(xì)致的校準(zhǔn)工作,以確保其能夠順利融入未來的生產(chǎn)線。
    的頭像 發(fā)表于 04-22 15:52 ?822次閱讀

    光刻機(jī)的常見類型解析

    光刻機(jī)有很多種類型,但有時(shí)也很難用類型進(jìn)行分類來區(qū)別設(shè)備,因?yàn)橛行┓诸悆H是在某一分類下的分類。
    發(fā)表于 04-10 15:02 ?1531次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻機(jī)</b>的常見類型解析

    光刻機(jī)的發(fā)展歷程及工藝流程

    光刻機(jī)經(jīng)歷了5代產(chǎn)品發(fā)展,每次改進(jìn)和創(chuàng)新都顯著提升了光刻機(jī)所能實(shí)現(xiàn)的最小工藝節(jié)點(diǎn)。按照使用光源依次從g-line、i-line發(fā)展到KrF、ArF和EUV;按照工作原理依次從接觸接近式光刻機(jī)發(fā)展到浸沒步進(jìn)式投影
    發(fā)表于 03-21 11:31 ?5401次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻機(jī)</b>的發(fā)展歷程及工藝流程

    ASML 首臺(tái)新款 EUV 光刻機(jī) Twinscan NXE:3800E 完成安裝

    3 月 13 日消息,光刻機(jī)制造商 ASML 宣布其首臺(tái)新款 EUV 光刻機(jī) Twinscan NXE:3800E 已完成安裝,新機(jī)型將帶來更高的生產(chǎn)效率。 ▲ ASML 在 X 平臺(tái)上的相關(guān)動(dòng)態(tài)
    的頭像 發(fā)表于 03-14 08:42 ?473次閱讀
    ASML 首臺(tái)新款 EUV <b class='flag-5'>光刻機(jī)</b> Twinscan NXE:3800E 完成安裝

    光刻機(jī)巨頭ASML要搬離荷蘭?

    據(jù)荷蘭《電訊報(bào)》3月6日?qǐng)?bào)道,因荷蘭政府的反移民政策傾向,光刻機(jī)巨頭阿斯麥(ASML)正計(jì)劃搬離荷蘭。
    的頭像 發(fā)表于 03-08 14:02 ?1065次閱讀

    淺談不同階段光刻機(jī)工作方式

    在曝光過程中,掩模版與涂覆有光刻膠的硅片直接接觸。接觸式光刻機(jī)的縮放比為1:1,分辨可達(dá)到4-5微米。由于掩模和光刻膠膜層反復(fù)接觸和分離,隨著曝光次數(shù)的增加,會(huì)引起掩模版和
    發(fā)表于 03-08 10:42 ?1044次閱讀
    淺談不同階段<b class='flag-5'>光刻機(jī)</b>工作方式

    光刻膠和光刻機(jī)的區(qū)別

    光刻膠是一種涂覆在半導(dǎo)體器件表面的特殊液體材料,可以通過光刻機(jī)上的模板或掩模來進(jìn)行曝光。
    的頭像 發(fā)表于 03-04 17:19 ?3598次閱讀

    光刻機(jī)結(jié)構(gòu)及IC制造工藝工作原理

    光刻機(jī)是微電子制造的關(guān)鍵設(shè)備,廣泛應(yīng)用于集成電路、平面顯示器、LED、MEMS等領(lǐng)域。在集成電路制造中,光刻機(jī)被用于制造芯片上的電路圖案。
    發(fā)表于 01-29 09:37 ?2353次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻機(jī)</b>結(jié)構(gòu)及IC制造工藝工作原理

    英特爾搶下6種ASML HIGH NA光刻機(jī)

    如果我們假設(shè)光刻機(jī)成本為 3.5 億至 4 億美元,并且 2024 年 10 個(gè)光刻機(jī)的HIGH NA 銷售額將在 35億至40億美元之間。
    的頭像 發(fā)表于 12-28 11:31 ?784次閱讀

    三星希望進(jìn)口更多ASML EUV***,5年內(nèi)新增50臺(tái)

    EUV曝光是先進(jìn)制程芯片制造中最重要的部分,占據(jù)總時(shí)間、總成本的一半以上。由于這種光刻機(jī)極為復(fù)雜,因此ASML每年只能制造約60臺(tái),而全球5家芯片制造商都依賴ASML的EUV光刻機(jī),包括英特爾、美光、三星、SK海力士、臺(tái)積電。目
    的頭像 發(fā)表于 11-22 16:46 ?673次閱讀