據(jù)說1nm光刻機(jī)已經(jīng)被設(shè)計(jì)出來了，預(yù)計(jì)2022年即可商用
據(jù)日媒近日消息，IMEC公司（比利時(shí)的一家微電子研究機(jī)構(gòu)，總部在比利時(shí)魯汶，是一個(gè)專注于納米科技的世界級(jí)研究中心）在ITF Japan 2020大會(huì)上公布了3nm、2nm、1．5nm以及1nm以下的邏輯器件小型化路線圖。
根據(jù)IMEC首席執(zhí)行官兼總裁Luc Van den hove透露，IMEC公司與ASML緊密合作，將推進(jìn)下一代高分辨率EUV光刻技術(shù)商用。目前，ASML已完成作為NXE：5000系列的高NA EUV曝光系統(tǒng)的基本設(shè)計(jì)，將應(yīng)用于1nm光刻機(jī)，預(yù)計(jì)2022年即可商用。
責(zé)任編輯：xj
聲明：本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點(diǎn)僅代表作者本人，不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場(chǎng)。文章及其配圖僅供工程師學(xué)習(xí)之用，如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問題，請(qǐng)聯(lián)系本站處理。
舉報(bào)投訴
-
邏輯器件
+關(guān)注
關(guān)注
0文章
87瀏覽量
20077 -
ASML
+關(guān)注
關(guān)注
7文章
714瀏覽量
41107 -
1nm
+關(guān)注
關(guān)注
0文章
15瀏覽量
3902
發(fā)布評(píng)論請(qǐng)先 登錄
相關(guān)推薦
光刻機(jī)巨頭ASML業(yè)績(jī)暴雷，芯片迎來新一輪“寒流”？
電子發(fā)燒友網(wǎng)報(bào)道（文/黃山明）作為芯片制造過程中的核心設(shè)備，光刻機(jī)決定著芯片工藝的制程。尤其是EUV光刻機(jī)已經(jīng)成為高端芯片（7nm及以下）芯片量產(chǎn)的關(guān)鍵，但目前EUV
臺(tái)積電1nm進(jìn)展曝光！預(yù)計(jì)投資超萬億新臺(tái)幣，真有必要嗎？
電子發(fā)燒友網(wǎng)（文/吳子鵬）根據(jù)臺(tái)灣媒體的最新消息，臺(tái)積電1nm制程將落腳嘉義科學(xué)園區(qū)，臺(tái)積電已向相關(guān)管理局提出100公頃用地需求，其中40公頃將先設(shè)立先進(jìn)封裝廠，后續(xù)的60公頃將作為1nm建廠用地
光刻巨人去世 阿斯麥(ASML)光刻機(jī)巨頭聯(lián)合創(chuàng)始人去世
圈內(nèi)突發(fā)噩耗，光刻巨人去世； 阿斯麥(ASML)光刻機(jī)巨頭聯(lián)合創(chuàng)始人維姆?特羅斯特去世。 據(jù)外媒報(bào)道，在當(dāng)?shù)貢r(shí)間11日晚，荷蘭光刻機(jī)巨頭阿斯麥(ASML)創(chuàng)始人之一維姆?特魯斯特(Wim
俄羅斯首臺(tái)光刻機(jī)問世
的一部分，目前正在對(duì)其進(jìn)行測(cè)試，該設(shè)備可確保生產(chǎn)350nm的芯片。什帕克還指出，到2026年將獲得130nm的國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)，下一步將是開發(fā)90nm
俄羅斯推出首臺(tái)光刻機(jī)：350nm
的芯片。Shpak表示，“我們組裝并制造了第一臺(tái)國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)。作為澤廖諾格勒技術(shù)生產(chǎn)線的一部分，目前正在對(duì)其進(jìn)行測(cè)試?！倍砹_斯接下來的目標(biāo)是在2026年制造可以支持130nm工藝的光刻機(jī)
荷蘭阿斯麥稱可遠(yuǎn)程癱瘓臺(tái)積電光刻機(jī)
disable）臺(tái)積電相應(yīng)機(jī)器，而且還可以包括最先進(jìn)的極紫外光刻機(jī)（EUV）。 這就意味著阿斯麥（ASML）留了后門，隨時(shí)有能力去遠(yuǎn)程癱瘓制造芯片的光刻機(jī)。 要知道我國(guó)大陸市場(chǎng)已經(jīng)連續(xù)三個(gè)季度成為阿斯麥（ASML）最大市場(chǎng)，而
臺(tái)積電A16制程采用EUV光刻機(jī)，2026年下半年量產(chǎn)
據(jù)臺(tái)灣業(yè)內(nèi)人士透露，臺(tái)積電并未為A16制程配備高數(shù)值孔徑（High-NA）EUV光刻機(jī)，而選擇利用現(xiàn)有的EUV光刻機(jī)進(jìn)行生產(chǎn)。相較之下，英特爾和三星則計(jì)劃在此階段使用最新的High-NA EUV光刻機(jī)。
光刻機(jī)的常見類型解析
光刻機(jī)有很多種類型，但有時(shí)也很難用類型進(jìn)行分類來區(qū)別設(shè)備，因?yàn)橛行┓诸悆H是在某一分類下的分類。
發(fā)表于 04-10 15:02
?1536次閱讀
光刻機(jī)的發(fā)展歷程及工藝流程
光刻機(jī)經(jīng)歷了5代產(chǎn)品發(fā)展，每次改進(jìn)和創(chuàng)新都顯著提升了光刻機(jī)所能實(shí)現(xiàn)的最小工藝節(jié)點(diǎn)。按照使用光源依次從g-line、i-line發(fā)展到KrF、ArF和EUV；按照工作原理依次從接觸接近式光刻機(jī)發(fā)展到浸沒步進(jìn)式投影
發(fā)表于 03-21 11:31
?5426次閱讀
ASML 首臺(tái)新款 EUV 光刻機(jī) Twinscan NXE:3800E 完成安裝
EUV 光刻機(jī)持續(xù)更新升級(jí)，未來目標(biāo)在 2025 年推出 NXE:4000F 機(jī)型。 上兩代 NXE 系列機(jī)型 3400C 和 3600D 分別適合 7~5、5~3 納米節(jié)點(diǎn)生產(chǎn)，德媒 ComputerBase 因此預(yù)測(cè) 3800E 有望支持 3~2
傳光刻機(jī)巨頭ASML要搬離荷蘭？
據(jù)荷蘭《電訊報(bào)》3月6日?qǐng)?bào)道，因荷蘭政府的反移民政策傾向，光刻機(jī)巨頭阿斯麥（ASML）正計(jì)劃搬離荷蘭。
光刻膠和光刻機(jī)的區(qū)別
光刻膠是一種涂覆在半導(dǎo)體器件表面的特殊液體材料，可以通過光刻機(jī)上的模板或掩模來進(jìn)行曝光。
佳能預(yù)計(jì)到2024年出貨納米壓印光刻機(jī)
來源：DIGITIMES ASIA 佳能預(yù)計(jì)其納米壓印光刻機(jī)將于今年出貨，與ASML的EVU設(shè)備競(jìng)爭(zhēng)市場(chǎng)，因?yàn)槭澜绺鞯氐慕?jīng)濟(jì)體都熱衷于擴(kuò)大其本土芯片產(chǎn)能。 佳能董事長(zhǎng)兼首席執(zhí)行官Hiroaki
光刻機(jī)結(jié)構(gòu)及IC制造工藝工作原理
光刻機(jī)是微電子制造的關(guān)鍵設(shè)備，廣泛應(yīng)用于集成電路、平面顯示器、LED、MEMS等領(lǐng)域。在集成電路制造中，光刻機(jī)被用于制造芯片上的電路圖案。
發(fā)表于 01-29 09:37
?2373次閱讀
英特爾搶下6種ASML HIGH NA光刻機(jī)
如果我們假設(shè)光刻機(jī)成本為 3.5 億至 4 億美元，并且 2024 年 10 個(gè)光刻機(jī)的HIGH NA 銷售額將在 35億至40億美元之間。
工商網(wǎng)監(jiān)
評(píng)論