2021年3月5日消息,近日,中國科學(xué)院上海光學(xué)精密機(jī)械研究所的研究人員提出了一種基于厚掩模模型和社會(huì)學(xué)習(xí)的極紫外光刻(EUVL)源掩模優(yōu)化(SMO)技術(shù)粒子群優(yōu)化(SL-PSO)算法。
該方法的仿真表明,該技術(shù)比基于啟發(fā)式算法的類似方法更有效。
研究人員說,隨著集成電路關(guān)鍵尺寸的不斷縮小,對(duì)精度和最佳性能的要求越來越嚴(yán)格。計(jì)算光刻在不改變光刻系統(tǒng)本身的硬件或軟件配置的情況下提高了性能,而是通過優(yōu)化當(dāng)前的光源,數(shù)學(xué)模型和算法來提高其性能。
SMO是一種計(jì)算光刻技術(shù),可同時(shí)優(yōu)化照明源和掩模圖案,以提高成像質(zhì)量。
EUVL已被應(yīng)用于5納米制程節(jié)點(diǎn)的大批量生產(chǎn),而SMO對(duì)這項(xiàng)技術(shù)的功能至關(guān)重要。
為了改進(jìn)該技術(shù),研究人員提出了一種基于厚掩模模型和SL-PSO算法的EUVL SMO方法。研究人員在模擬中測(cè)試的方法使用了基于結(jié)構(gòu)分解方法(SDM)的快速厚模型。SDM通過描述入射光在吸收體和多層中的傳播來計(jì)算掩模光譜。
盡管已經(jīng)對(duì)SDM進(jìn)行了廣泛的研究,但研究人員表示,尚未對(duì)像素化相位掩模(本身就是一種分辨率增強(qiáng)技術(shù))進(jìn)行廣泛的研究。
SL-PSO算法優(yōu)化了源代碼和掩碼模式,社交學(xué)習(xí)策略提高了系統(tǒng)效率。另外,調(diào)整后的初始化參數(shù)控制了算法中的初始群。這改善了掩模的可制造性。
仿真結(jié)果表明,與其他啟發(fā)式算法相比,該方法具有更快,更有效的效果。圖案誤差顯著降低,成像保真度得到改善。使用位于環(huán)縫不同位置的圖案進(jìn)行的仿真表明,該方法不僅提高了成像保真度,而且減輕了陰影效果。
未來的研究將集中于通過增加掩模像素?cái)?shù)量來提高優(yōu)化效率,以及消除晶圓散焦平面上的圖案偏移。
這項(xiàng)研究發(fā)表在《光學(xué)快報(bào)》上。
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