光刻機(jī)制作芯片過(guò)程如下操作:
1.硅片表面清洗烘干
2.涂底
3.旋涂光刻膠
4.軟烘
5.對(duì)準(zhǔn)曝光
6.后烘
7.顯影
8.硬烘
9.刻蝕
光刻機(jī)制作芯片過(guò)程非常復(fù)雜,而光刻機(jī)是制造芯片最重要的設(shè)備之一,由于先進(jìn)光刻機(jī)的技術(shù)封鎖,中國(guó)芯片廠商的芯片制作工藝目前比較落后,也沒(méi)有優(yōu)秀的國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)來(lái)掌握到最先進(jìn)的光刻技術(shù)。
目前我國(guó)主要依賴大量的芯片進(jìn)口,在加工芯片的過(guò)程中,光刻機(jī)起著非常重要的作用。但是光刻機(jī)的制造難度很大,荷蘭ASML公司在全球的高端光刻機(jī)市場(chǎng)上占據(jù)的份額已經(jīng)達(dá)到了80%。
值得一提的是,中芯國(guó)際開始研制14nm芯片制程工藝,我國(guó)在半導(dǎo)體行業(yè)正在慢慢面向全球發(fā)展。
本文綜合整理自秘?cái)?shù) 半導(dǎo)體芯情 電影調(diào)查院
審核編輯:彭菁
聲明:本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點(diǎn)僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場(chǎng)。文章及其配圖僅供工程師學(xué)習(xí)之用,如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問(wèn)題,請(qǐng)聯(lián)系本站處理。
舉報(bào)投訴
相關(guān)推薦
電子發(fā)燒友網(wǎng)報(bào)道(文/黃山明)作為芯片制造過(guò)程中的核心設(shè)備,光刻機(jī)決定著芯片工藝的制程。尤其是EUV光刻機(jī)已經(jīng)成為高端
發(fā)表于 10-17 00:13
?2432次閱讀
電子發(fā)燒友網(wǎng)報(bào)道(文/李寧遠(yuǎn))提及芯片制造,首先想到的自然是光刻機(jī)和光刻技術(shù)。而眾所周知,EUV光刻機(jī)產(chǎn)能有限而且成本高昂,業(yè)界一直都在探索不完全依賴于EUV
發(fā)表于 03-09 00:15
?3905次閱讀
光刻掩膜版的制作是一個(gè)復(fù)雜且精密的過(guò)程,涉及到多個(gè)步驟和技術(shù)。以下是小編整理的光刻掩膜版制作流程: 1. 設(shè)計(jì)與準(zhǔn)備 在開始
發(fā)表于 09-14 13:26
?291次閱讀
微流控光刻掩膜的制作過(guò)程涉及多個(gè)步驟,?包括設(shè)計(jì)、?制版、?曝光、?顯影、?刻蝕等,?最終形成具有特定圖形結(jié)構(gòu)的掩膜版。? 首先,?設(shè)計(jì)階段是制作掩膜版的關(guān)鍵一步。?設(shè)計(jì)人員需要使用標(biāo)準(zhǔn)的CAD
發(fā)表于 08-08 14:56
?206次閱讀
的一部分,目前正在對(duì)其進(jìn)行測(cè)試,該設(shè)備可確保生產(chǎn)350nm的芯片。什帕克還指出,到2026年將獲得130nm的國(guó)產(chǎn)光刻機(jī),下一步將是開發(fā)90nm光刻機(jī),并繼續(xù)向下邁進(jìn)。 此前,俄羅斯曾表示,計(jì)劃到2026年實(shí)現(xiàn)65nm的
發(fā)表于 05-28 15:47
?665次閱讀
阿斯麥稱可遠(yuǎn)程癱瘓臺(tái)積電光刻機(jī) 據(jù)彭博社爆料稱,有美國(guó)官員就大陸攻臺(tái)的后果私下向荷蘭和中國(guó)臺(tái)灣官員表達(dá)擔(dān)憂。對(duì)此,光刻機(jī)制造商阿斯麥(ASML)向荷蘭官員保證,可以遠(yuǎn)程癱瘓(remotely
發(fā)表于 05-22 11:29
?5680次閱讀
據(jù)臺(tái)灣業(yè)內(nèi)人士透露,臺(tái)積電并未為A16制程配備高數(shù)值孔徑(High-NA)EUV光刻機(jī),而選擇利用現(xiàn)有的EUV光刻機(jī)進(jìn)行生產(chǎn)。相較之下,英特爾和三星則計(jì)劃在此階段使用最新的High-NA EUV光刻機(jī)。
發(fā)表于 05-17 17:21
?813次閱讀
光刻機(jī)有很多種類型,但有時(shí)也很難用類型進(jìn)行分類來(lái)區(qū)別設(shè)備,因?yàn)橛行┓诸悆H是在某一分類下的分類。
發(fā)表于 04-10 15:02
?1534次閱讀
光刻機(jī)經(jīng)歷了5代產(chǎn)品發(fā)展,每次改進(jìn)和創(chuàng)新都顯著提升了光刻機(jī)所能實(shí)現(xiàn)的最小工藝節(jié)點(diǎn)。按照使用光源依次從g-line、i-line發(fā)展到KrF、ArF和EUV;按照工作原理依次從接觸接近式光刻機(jī)發(fā)展到浸沒(méi)步進(jìn)式投影
發(fā)表于 03-21 11:31
?5413次閱讀
3 月 13 日消息,光刻機(jī)制造商 ASML 宣布其首臺(tái)新款 EUV 光刻機(jī) Twinscan NXE:3800E 已完成安裝,新機(jī)型將帶來(lái)更高的生產(chǎn)效率。 ▲ ASML 在 X 平臺(tái)上的相關(guān)動(dòng)態(tài)
發(fā)表于 03-14 08:42
?478次閱讀
在曝光過(guò)程中,掩模版與涂覆有光刻膠的硅片直接接觸。接觸式光刻機(jī)的縮放比為1:1,分辨率可達(dá)到4-5微米。由于掩模和光刻膠膜層反復(fù)接觸和分離,隨著曝光次數(shù)的增加,會(huì)引起掩模版和
發(fā)表于 03-08 10:42
?1052次閱讀
光刻膠是一種涂覆在半導(dǎo)體器件表面的特殊液體材料,可以通過(guò)光刻機(jī)上的模板或掩模來(lái)進(jìn)行曝光。
發(fā)表于 03-04 17:19
?3607次閱讀
光刻機(jī)是微電子制造的關(guān)鍵設(shè)備,廣泛應(yīng)用于集成電路、平面顯示器、LED、MEMS等領(lǐng)域。在集成電路制造中,光刻機(jī)被用于制造芯片上的電路圖案。
發(fā)表于 01-29 09:37
?2360次閱讀
關(guān)于光刻機(jī),大家還記得美國(guó)荷蘭日本的三方協(xié)議嗎?來(lái)回憶一下。 隨著芯片在各個(gè)領(lǐng)域的重要性不斷提升,人們對(duì)芯片制造的關(guān)注也日益增加。 但半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈非常復(fù)雜,不僅僅涉及到底層的架構(gòu)設(shè)計(jì),還需要通過(guò)
發(fā)表于 01-17 17:56
?601次閱讀
如果我們假設(shè)光刻機(jī)成本為 3.5 億至 4 億美元,并且 2024 年 10 個(gè)光刻機(jī)的HIGH NA 銷售額將在 35億至40億美元之間。
發(fā)表于 12-28 11:31
?786次閱讀
評(píng)論