引言
半導(dǎo)體制造過程中,在每個過程前后實施的清洗過程約占整個過程的30%,是重要的過程之一。特別是以RCA清潔為基礎(chǔ)的濕式清潔工藝,除了化學(xué)液的過度使用、設(shè)備的巨大化、廢水造成的環(huán)境污染等問題外,重要的是有效地沖洗,防止清潔化學(xué)液在道工序后在晶片表面殘留,以及防止水斑點等污染物再次污染。因此,最近在濕清洗過程中,正在努力減少化學(xué)液和超純水的量,回收利用,開發(fā)新的清洗過程,在干燥過程中,使用超純水和IPA分離層的marangoni干燥方法正在引入。本研究考察了不同于傳統(tǒng)的marangoni方法,利用超純水和IPA的混合溶液表面進(jìn)行干燥和去除污染顆粒的效果。
實驗方法
自制了超純水和IPA混合溶液安裝在室內(nèi),為了制造一定濃度的混合溶液,我們先在單獨的容器中混合,并保持混合溶液在bath內(nèi)以3 LPM的流量恒定地投入。此外,為了方便晶片的干燥,還采取了其他措施。
實驗結(jié)果
根據(jù)IPA的濃度變化,觀察晶片表面污染顆粒的增減情況,在IPA添加量為低濃度和高濃度的情況下,可以觀察到良好的結(jié)果。而且,將晶片從bath內(nèi)取出到大氣中時的解除速度對晶片表面的污染粒子數(shù)沒有太大影響,但對晶片底部的water droplet形成有很大影響,結(jié)論表明與GAN有密切關(guān)系。另外,繼續(xù)反復(fù)使用超純水和IPA混合溶液進(jìn)行工藝,表明晶片表面存在的粒子數(shù)量沒有增加,而是保持在一定水平。干燥過程中吹的hot N2的溫度變化,晶片表面溫度在各部分觀察不一樣,但沒有特別的影響。
審核編輯:符乾江
聲明:本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場。文章及其配圖僅供工程師學(xué)習(xí)之用,如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問題,請聯(lián)系本站處理。
舉報投訴
相關(guān)推薦
的化學(xué)穩(wěn)定性,則進(jìn)一步拓寬了其應(yīng)用領(lǐng)域。電學(xué)性質(zhì)上,碳化硅的寬禁帶、高擊穿電壓以及相對較高的電子遷移率(盡管低于硅但在特定應(yīng)用中依然優(yōu)勢顯著),為高效能電子器件的設(shè)計提供了無限可能。然而,卻在晶圓拋光后的
發(fā)表于 09-02 17:14
?216次閱讀
以下是關(guān)于碳化硅晶圓和硅晶圓的區(qū)別的分析: 材料特性: 碳化硅(SiC)是一種寬禁帶半導(dǎo)體材料,具有比硅(Si)更高的熱導(dǎo)率、電子遷移率和擊穿電場。這使得碳化硅
發(fā)表于 08-08 10:13
?804次閱讀
在半導(dǎo)體制造工廠中,各種電子設(shè)備所用半導(dǎo)體的制造過程中使用了多種化學(xué)品。在進(jìn)行下一道工序之前,需要除去附著在電路上的多余的化學(xué)物質(zhì),并且使用“超純水”進(jìn)行該清洗。“超純水”是指高度純化的水,已
發(fā)表于 05-28 10:48
?269次閱讀
使用監(jiān)測儀器,將監(jiān)測數(shù)據(jù)上傳至平臺,查看分析超標(biāo)車輛,對超標(biāo)車輛進(jìn)行管理。 懸浮顆粒物是目前最重要的污染源之一。汽車尾氣顆粒物則是指汽車在運行過程中通過尾氣管排放出的因燃油未充分燃燒而
發(fā)表于 05-16 11:43
?301次閱讀
【JD-LSZ05】山東競道光電持續(xù)更新中....水環(huán)境標(biāo)準(zhǔn)監(jiān)測站在檢測微量污染物方面具有一定的能力,但其準(zhǔn)確性受到多種因素的影響,需要綜合考慮各種因素以確保檢測結(jié)果的可靠性。
首先
發(fā)表于 05-09 16:06
?191次閱讀
顆粒清潔度方面有非常嚴(yán)格的要求。事實上,對于200毫米的硅晶片,已知直徑為1微米的顆粒會產(chǎn)生直徑約為1厘米的鍵合缺陷。這里,除了粒子的經(jīng)典表面表征之外,DWB技術(shù)可以被提議作為測試兆頻超聲波技術(shù)用于粒子污染物
發(fā)表于 04-07 14:28
?187次閱讀
來源:中國海洋觀測,謝謝 編輯:感知芯視界 Link 海洋是地球上最大的水體,它對人類的生存和發(fā)展具有重要的作用。然而,海洋也面臨著各種來源和類型的污染物的威脅,如重金屬、有機(jī)物、營養(yǎng)鹽、微塑料等
發(fā)表于 03-15 09:56
?894次閱讀
晶圓表面的潔凈度對于后續(xù)半導(dǎo)體工藝以及產(chǎn)品合格率會造成一定程度的影響,最常見的主要污染包括金屬、有機(jī)物及顆粒狀粒子的殘留,而
發(fā)表于 02-23 17:34
?1978次閱讀
):由感光劑、樹脂和溶劑構(gòu)成,用于形成電路圖案和阻擋層 光刻膠是由可溶性聚合物和光敏材料組成的化合物,當(dāng)其暴露在光線下時,會在溶劑中發(fā)生降解或融合等化學(xué)反應(yīng)。在運用于晶圓級封裝的光刻(
發(fā)表于 02-18 18:16
?841次閱讀
靜電對晶圓有哪些影響?怎么消除? 靜電是指由于物體帶電而產(chǎn)生的現(xiàn)象,它對晶圓產(chǎn)生的影響主要包括制備過程中的
發(fā)表于 12-20 14:13
?875次閱讀
半導(dǎo)體制造業(yè)依賴復(fù)雜而精確的工藝來制造我們需要的電子元件。其中一個過程是晶圓清洗,這個是去除硅晶圓表面不需要的
發(fā)表于 12-07 13:19
?641次閱讀
隨著技術(shù)的不斷變化和器件尺寸的不斷縮小,清潔過程變得越來越復(fù)雜。每次清洗不僅要對晶圓進(jìn)行清洗,所使用的機(jī)器和設(shè)備也必須進(jìn)行清洗。晶圓污染物的
發(fā)表于 12-06 17:19
?1563次閱讀
環(huán)境中芳香族污染物對人身安全及環(huán)境等都造成嚴(yán)重危害,而常規(guī)探測方式存在探測效率低、作業(yè)安全性差、易受干擾等瓶頸問題。
發(fā)表于 11-25 10:13
?873次閱讀
高效硅太陽能電池的加工在很大程度上取決于高幾何質(zhì)量和較低污染的硅晶片的可用性。在晶圓加工結(jié)束時,有必要去除晶
發(fā)表于 11-01 17:05
?277次閱讀
熱處理是簡單地將晶圓加熱和冷卻來達(dá)到特定結(jié)果,在熱處理過程中,雖然會有一些污染物和水汽從晶圓上蒸
發(fā)表于 10-30 11:18
?2033次閱讀
評論