蘇大維格：28nm***光柵尺周期精度需小于2nm
據(jù)中國媒體報(bào)道，9月7日蘇州蘇大維格科技集團(tuán)股份有限公司（蘇大維格，300331.SZ）在投資者交流平臺(tái)上寫道：“貴公司的光柵尺最高分辨率是多少？準(zhǔn)確度是多少？”28納米工程需要小于2納米的網(wǎng)格周期，公司相關(guān)產(chǎn)品需要小于1納米的周期。考慮到秘密情報(bào)，詳細(xì)的參數(shù)很難泄露。
公開的資料顯示，蘇大維格他致力于微納關(guān)鍵技術(shù)，柔性智能制造、柔性光電子材料的創(chuàng)新應(yīng)用，涉及微納光學(xué)印材、納米印刷、3D成像材料、平板顯示（大尺寸電容觸控屏，超薄導(dǎo)光板）、高端智能微納裝備（納米壓印、微納直寫光刻、3D光場打印等）的開發(fā)和技術(shù)產(chǎn)業(yè)化，2012年6月28日在深圳證券交易所a股創(chuàng)業(yè)板上市。該公司在今年7月的互動(dòng)平臺(tái)上表示：“公司向相關(guān)企業(yè)少量（少量）提供了用于半導(dǎo)體領(lǐng)域投影式***的位置追蹤光柵尺部件，目前在相關(guān)收入中所占的比重非常低?！?/p>
聲明：本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點(diǎn)僅代表作者本人，不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場。文章及其配圖僅供工程師學(xué)習(xí)之用，如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問題，請(qǐng)聯(lián)系本站處理。
舉報(bào)投訴
-
電子材料
+關(guān)注
關(guān)注
0文章
61瀏覽量
10660 -
智能制造
+關(guān)注
關(guān)注
48文章
5410瀏覽量
76197 -
3D成像
+關(guān)注
關(guān)注
0文章
97瀏覽量
16026
發(fā)布評(píng)論請(qǐng)先 登錄
相關(guān)推薦
消息稱三星電子再獲2nm訂單
三星電子在半導(dǎo)體代工領(lǐng)域再下一城，成功獲得美國知名半導(dǎo)體企業(yè)安霸的青睞，承接其2nm制程的ADAS（高級(jí)駕駛輔助系統(tǒng)）芯片代工項(xiàng)目。
臺(tái)積電2nm芯片助力 蘋果把大招留給了iPhone18
有媒體爆料稱；蘋果公司的iPhone 17系列手機(jī)極大可能將無法搭載臺(tái)積電2nm前沿制程技術(shù)芯片，iPhone 17系列手機(jī)的處理器預(yù)計(jì)將沿用當(dāng)前的3nm工藝。2nm技術(shù)芯片可能要等待iPhone
三星電子：加快2nm和3D半導(dǎo)體技術(shù)發(fā)展，共享技術(shù)信息與未來展望
在技術(shù)研發(fā)領(lǐng)域，三星電子的3nm與2nm工藝取得顯著進(jìn)步，預(yù)計(jì)本季度內(nèi)完成2nm設(shè)計(jì)基礎(chǔ)設(shè)施的開發(fā)；此外，4nm工藝的良率亦逐漸穩(wěn)定。
三星電子澄清：3nm芯片并非更名2nm，下半年將量產(chǎn)
李時(shí)榮聲稱，“客戶對(duì)代工企業(yè)的產(chǎn)品競爭力與穩(wěn)定供應(yīng)有嚴(yán)格要求，而4nm工藝已步入成熟良率階段。我們正積極籌備后半年第二代3nm工藝及明年2nm工藝的量產(chǎn)，并積極與潛在客戶協(xié)商。”
蘋果2nm芯片曝光，性能提升10%-15%
據(jù)媒體報(bào)道，目前蘋果已經(jīng)在設(shè)計(jì)2nm芯片，芯片將會(huì)交由臺(tái)積電代工。
臺(tái)積電2nm制程進(jìn)展順利
臺(tái)中科學(xué)園區(qū)已初步規(guī)劃A14和A10生產(chǎn)線，將視市場需求決定是否新增2nm制程工藝。
臺(tái)積電在2nm制程技術(shù)上展開防守策略
臺(tái)積電的2nm技術(shù)是3nm技術(shù)的延續(xù)。一直以來，臺(tái)積電堅(jiān)定地遵循著每一步一個(gè)工藝節(jié)點(diǎn)的演進(jìn)策略，穩(wěn)扎穩(wěn)打，不斷突破。
發(fā)表于 01-25 14:14
?390次閱讀
蘋果欲優(yōu)先獲取臺(tái)積電2nm產(chǎn)能，預(yù)計(jì)2024年安裝設(shè)備生產(chǎn)
有消息人士稱，蘋果期望能夠提前獲得臺(tái)積電1.4nm（A14）以及1nm（A10）兩種更為先進(jìn)的工藝的首次產(chǎn)能供應(yīng)。據(jù)了解，臺(tái)積電2nm技術(shù)開發(fā)進(jìn)展順利，預(yù)期采用GAA（全柵極環(huán)繞）技術(shù)生產(chǎn)2n
美滿電子推出5nm、3nm、2nm技術(shù)支持的數(shù)據(jù)基礎(chǔ)設(shè)施新品
該公司的首席開發(fā)官Sandeep Bharathi透露，其實(shí)施2nm相關(guān)的投資計(jì)劃已啟動(dòng)。雖無法公布準(zhǔn)確的工藝和技術(shù)細(xì)節(jié)，但已明確表示，2至5nm制程的項(xiàng)目投入正在進(jìn)行。公司專家，尤其是來自印度的專業(yè)人才，涵蓋了從數(shù)字設(shè)計(jì)到電路
臺(tái)積電2nm制程穩(wěn)步推進(jìn)，2025年將實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)
得益于2nm制程項(xiàng)目的順利推進(jìn)，寶山、高雄新晶圓廠的建造工程正有序進(jìn)行。臺(tái)中科學(xué)園區(qū)已初步確定了A14與A10生產(chǎn)線的布局，具體是否增設(shè)2nm制程工藝將根據(jù)市場需求再定。
定位系統(tǒng)為步進(jìn)電機(jī)+光柵尺的全閉環(huán)系統(tǒng)，位置補(bǔ)償算法一般都采用哪些呢？
如題，定位系統(tǒng)為步進(jìn)電機(jī)+光柵尺的全閉環(huán)系統(tǒng)，麻煩問下各位大佬位置補(bǔ)償算法一般都采用哪些呢？PID嗎？重復(fù)精度需要提高到10幾微米左右，求助求助
發(fā)表于 01-09 08:01
臺(tái)積電第一家日本工廠即將開張：預(yù)生產(chǎn)28nm工藝芯片
這座晶圓廠于2022年4月開始新建，大樓主結(jié)構(gòu)已完工，且辦公室部分區(qū)域也在今年8月啟用。將生產(chǎn)N28 28nm級(jí)工藝芯片，這是日本目前最先進(jìn)的半導(dǎo)體工藝。22ULP工藝也會(huì)在這里生產(chǎn)，但注意它不是22nm，而是
三大芯片巨頭角逐2nm技術(shù)
過去數(shù)十年里，芯片設(shè)計(jì)團(tuán)隊(duì)始終專注于小型化。減小晶體管體積，能降低功耗并提升處理性能。如今，2nm及3nm已取代實(shí)際物理尺寸，成為描述新一代芯片的關(guān)鍵指標(biāo)。
2nm意味著什么？2nm何時(shí)到來？它與3nm有何不同？
3nm工藝剛量產(chǎn)，業(yè)界就已經(jīng)在討論2nm了，并且在調(diào)整相關(guān)的時(shí)間表。2nm工藝不僅對(duì)晶圓廠來說是一個(gè)重大挑戰(zhàn)，同樣也考驗(yàn)著EDA公司，以及在此基礎(chǔ)上設(shè)計(jì)芯片的客戶。
將銅互連擴(kuò)展到2nm的研究
晶體管尺寸在3nm時(shí)達(dá)到臨界點(diǎn)，納米片F(xiàn)ET可能會(huì)取代finFET來滿足性能、功耗、面積和成本目標(biāo)。同樣，正在評(píng)估2nm銅互連的重大架構(gòu)變化，此舉將重新配置向晶體管傳輸電力的方式。
工商網(wǎng)監(jiān)
評(píng)論