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通過缺陷驅(qū)動的錫成核實(shí)現(xiàn)廢石墨的靶向再生和升級循環(huán)!

清新電源 ? 來源:清新電源 ? 2023-10-07 11:35 ? 次閱讀

研究背景

由于廢舊電池的廣泛應(yīng)用、豐富的原料供應(yīng)和可持續(xù)發(fā)展,廢舊電池的回收利用變得越來越重要。與退化的陰極相比,廢陽極石墨在長時(shí)間循環(huán)后通常具有相對完整的結(jié)構(gòu),幾乎沒有缺陷。然而,大多數(shù)用過的石墨被簡單地燃燒或丟棄,這是由于其有限的價(jià)值和在使用復(fù)雜、效率低且不能恢復(fù)性能的常規(guī)回收方法時(shí)的低劣性能,因此提出了一種基于缺陷驅(qū)動的針對性修復(fù)的快速、高效和“智能”的廢石墨再生和升級策略。

成果簡介

近日,華中科技大學(xué)姚永剛教授通過缺陷驅(qū)動的錫成核實(shí)現(xiàn)廢石墨的靶向再生和升級循環(huán)。使用錫作為納米級修補(bǔ)劑,使用快速加熱(~50毫秒)使動態(tài)錫液滴能夠在冷卻時(shí)自動在石墨表面缺陷周圍成核,這是由于與缺陷的強(qiáng)結(jié)合(~5.84 eV/atom),從而同時(shí)實(shí)現(xiàn)錫分散和石墨修復(fù)。生石墨顯示出增強(qiáng)的容量和循環(huán)穩(wěn)定性(100次循環(huán)后在0.2 A g-1下為458.9 mAh g-1),優(yōu)于商用石墨。受益于Sn分散的自適應(yīng),具有不同程度缺陷的廢石墨可以再生為相似的結(jié)構(gòu)和性能。EverBatt分析表明,有針對性的再生和升級循環(huán)顯著降低了能耗(降低約99%),且產(chǎn)生比濕法冶金高得多利潤,這為以高效、綠色和有利可圖的方式直接向上循環(huán)廢石墨以用于可持續(xù)電池制造開辟了新途徑。該工作以“Targeted regeneration and upcycling of spent graphite by defect‐driven tin nucleation”為題發(fā)表在Carbon Energy上。

研究亮點(diǎn)

(1)提出了一種高效、節(jié)能的回收方法,通過有針對性的缺陷修復(fù)來再生和升級SG。

(2) 使用快速焦耳加熱來分解前體,并使Sn分散和石墨再生準(zhǔn)確。

(3) EverBatt分析的環(huán)境和經(jīng)濟(jì)影響表明,與傳統(tǒng)的濕法冶金回收相比,這種方法所需的能源和材料投入最少,產(chǎn)生的CO2最少,利潤最高。

圖文導(dǎo)讀

為了比較石墨在長期循環(huán)后的結(jié)構(gòu)演變和潛在缺陷,我們首先詳細(xì)表征了CG和SG的結(jié)構(gòu)。x射線衍射(XRD圖2A)來確定整體結(jié)構(gòu),其中兩種模式與石墨的模式匹配良好,沒有任何不純的峰,表明SG在長期循環(huán)后大多保持完整的層狀結(jié)構(gòu)。36此外,掃描電子顯微鏡(SEM圖2B)的圖像顯示CG的表面光滑平整,而高分辨率透射電子顯微鏡圖像(HRTEM;圖2C)清楚地顯示了以0.34納米的晶格條紋間距規(guī)則排列的碳原子陣列,對應(yīng)于石墨的(002)面。同時(shí),這些樣品的石墨化程度通過拉曼光譜進(jìn)行表征。如圖2D所示,1340cm-1和1580cm-1處的峰值分別歸因于無序石墨(D帶)和結(jié)晶石墨(G帶)的振動模式。38與CG的ID/IG = 0.079相比,SG顯示了更高的D峰值和ID/IG = 0.797的相應(yīng)增加的D/G比,這表明盡管SG的整體層狀結(jié)構(gòu)相對完整,但在充電/放電過程后,其表面上的無序或有缺陷的碳鍵比CG多得多。顯微鏡下,SG表面粗糙,由于長期循環(huán)和錯(cuò)誤嵌入,存在許多邊緣和膨脹石墨層,如圖2E所示。SG的HRTEM圖像(圖2F)也顯示了更高程度的無序,清楚地顯示了晶格條紋。

更重要的是,SG表面有許多原子空位,這清楚地表明石墨表面的破壞,特別是在納米尺度上。SG的結(jié)構(gòu)缺陷,如上述石墨層剝離和碳原子空位,通常通過碳涂層或高溫下的再石墨化進(jìn)行修復(fù),以進(jìn)行再生。但是,這些工藝需要新的表面或新的石墨化,這不僅耗時(shí)耗力,而且需要精密的涂層技術(shù),因此對于高效和有利可圖的SG回收來說并不理想。考慮到缺陷和碳/石墨層之間的物理化學(xué)差異,針對缺陷的再生是可能的,并且更加經(jīng)濟(jì)。特別是,碳缺陷可以作為成核點(diǎn)來捕獲金屬納米粒子。因此,我們選擇了錫,一種熔點(diǎn)低、理論容量高達(dá)993 mAh g-1的金屬,作為實(shí)現(xiàn)節(jié)能目標(biāo)再生的候選材料。

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圖1。通過快速加熱對廢石墨進(jìn)行目標(biāo)再生和升級循環(huán)的示意圖。(B)單個(gè)錫原子在完美和缺陷石墨上的吸附結(jié)構(gòu)和結(jié)合能。(C)RG和先前報(bào)告的回收石墨陽極的容量和加工時(shí)間S。

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圖2。SG與CG相比的結(jié)構(gòu)變化。(A)CG和SG的XRD圖案。插圖顯示了(002)峰的放大圖。(B)CG的SEM圖像和(C) TEM圖像。(D)CG和SG的拉曼光譜。(E)SG的SEM和(F) TEM圖像。

在圖3A中,結(jié)合在有缺陷的石墨烯上的單個(gè)Sn原子的Eb,對于不同的配置,范圍從2.95到5.84 eV,顯著大于在完美的石墨烯上的Eb(0.85 eV),這表明Sn原子容易吸附在石墨烯的空位上并成核。完美石墨烯上Sn原子較小的Eb主要來源于Sn原子與石墨烯π-體系之間的引力。值得注意的是,單個(gè)錫原子在完美石墨烯上不同吸附位置的Eb范圍為0.61–0.85 eV。較小的擴(kuò)散勢壘(~0.24 eV)有利于單個(gè)Sn原子的快速遷移,促進(jìn)空位飽和和Sn團(tuán)簇的生長。相比之下,缺陷石墨烯上Sn原子較大的Eb主要來源于Sn原子與空位處懸空C原子的共價(jià)結(jié)合。

此外,隨著Sn原子數(shù)的增加,缺陷石墨烯上的Eb減少,這表明Sn–C共價(jià)鍵比Sn–Sn鍵更有利。因此,單個(gè)Sn原子優(yōu)先與空位處的懸空C原子結(jié)合,而不是與Sn簇結(jié)合,這有利于空位缺陷的快速修復(fù)和Sn分散。另一方面,缺陷石墨烯上Sn簇的Ead隨著Sn原子數(shù)的增加而逐漸降低。以D3襯底為例(圖3B),吸附兩個(gè)Sn原子時(shí)Ead最大,在這種情況下,空位處的所有懸空C原子都飽和。隨著錫原子數(shù)的進(jìn)一步增加,逐漸減少的Ead阻礙了錫團(tuán)簇的進(jìn)一步生長。這源于Sn原子的原子半徑較大,使得Sn團(tuán)簇難以在空位處形成穩(wěn)定的團(tuán)簇結(jié)構(gòu)。

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圖3。靶向修復(fù)的理論和實(shí)驗(yàn)證據(jù)。(A) 單個(gè)Sn原子完美和有缺陷的石墨烯襯底(D1–D4)的結(jié)合能(Ebin eV/Sn原子)。(B) Sn簇在不同石墨烯襯底上的結(jié)合能(Ebin eV/Sn原子)和吸附能(Eadin eV)以及在D3襯底上的吸附結(jié)構(gòu)。(C)CG和(D)針狀焦成核后的SEM圖像

這些結(jié)果表明,錫原子優(yōu)先飽和空位上的懸空C原子,并最終在有缺陷的石墨烯上形成小的錫納米團(tuán)簇,表明熔化的錫可以有效地修復(fù)石墨的缺陷。為了從實(shí)驗(yàn)上證實(shí)上述結(jié)果,我們進(jìn)一步使用CG和針狀焦(具有許多表面缺陷的CG的前體)來證實(shí)缺陷驅(qū)動的Sn成核和分散。兩個(gè)樣品都通過焦耳加熱在50毫秒內(nèi)加熱到1600℃。如SEM圖(圖3C)所示,CG表面幾乎看不到Sn顆粒,因?yàn)槠涫砻嫒毕葺^少。然而,對于針狀焦炭,我們可以看到大量納米顆粒均勻分布在其表面(圖3D),這是由于缺陷表面的性質(zhì),它可以有效地分散和固定熔融錫。因此,上述理論和實(shí)驗(yàn)工作證明了通過缺陷驅(qū)動錫成核定向再生SG的可行性。

為了研究實(shí)際SG的再生,我們探索了不同的加載和快速加熱參數(shù)來調(diào)節(jié)Sn分散體的微觀結(jié)構(gòu),特別是顆粒尺寸和相關(guān)的電化學(xué)性質(zhì)。、選擇了SG中Sn的四種質(zhì)量分?jǐn)?shù)(0.5%、1%、2%和5%,來自SnCl2)和幾種加熱溫度(1400°C、1600°C和1800°C,均持續(xù)50 ms)。圖S9提供了不同峰值溫度的溫度曲線。對于所有曲線,溫度在50毫秒內(nèi)以約104 K/s的加熱速率達(dá)到最大值,然后以約103 K/s的冷卻速率下降。如此高的溫度不僅將SnCl2熱還原為Sn,還將其轉(zhuǎn)化為熔融的動態(tài)狀態(tài),從而能夠定位缺陷。

圖4A、B顯示了不同加載量的RG的SEM圖像。如果我們增加裝載量,粒徑會更大。當(dāng)我們將負(fù)載量增加到5%時(shí),發(fā)現(xiàn)了微米大小的錫顆粒。當(dāng)我們將質(zhì)量分?jǐn)?shù)設(shè)置為1%時(shí),由于蒸汽壓的增加,隨著加熱溫度的增加,Sn顆粒的數(shù)量和直徑明顯減少(圖S11)。當(dāng)溫度為1400°C時(shí),蒸汽壓為12.7 Pa,但在1600°C時(shí),蒸汽壓迅速增加到121 Pa,在1800°C時(shí)增加到745 Pa。如此高的飽和蒸汽壓會導(dǎo)致熔融錫蒸發(fā),從而產(chǎn)生少量納米顆粒。總體而言,在錫負(fù)載量為1%和1600°C快速加熱的最佳條件下,可以實(shí)現(xiàn)錫納米顆粒的均勻分散,這可以在缺陷修復(fù)和錫顆粒尺寸之間實(shí)現(xiàn)良好的平衡。

此外,我們通過XPS發(fā)現(xiàn)C 1s的光譜解卷積為三個(gè)峰,可歸屬于C–O(285.3 eV)、C–C(284.8 eV)和C–Sn(284.1 eV)。這表明C和Sn之間存在直接鍵合,這也與DFT分析的結(jié)果一致。HRTEM(圖4C)圖像顯示了錫納米顆粒的良好結(jié)晶,并且錫納米顆粒具有核-殼結(jié)構(gòu)。顏色較淺的規(guī)則晶格條紋屬于石墨。較暗顆粒的晶面間距為0.29 nm,對應(yīng)于Sn的(200)晶面。Sn的晶體結(jié)構(gòu)也可以在快速傅里葉逆變換中得到確認(rèn)。圖4D表明納米顆粒中錫的富集,證明錫納米顆粒的均勻裝飾。值得注意的是,在EDS的線掃描中,O的信號與Sn的信號高相關(guān),表明殼是SnO2。與Sn金屬相比,SnO2在循環(huán)測試中表現(xiàn)更好,因?yàn)樵诘谝淮窝h(huán)中會產(chǎn)生Li2O。這提供了一個(gè)強(qiáng)大的框架來減輕合金應(yīng)力,并作為修復(fù)劑發(fā)揮更好的作用。此外,Li2O可能會消耗電池中有限的Li。然而,當(dāng)我們考慮到錫的低負(fù)載時(shí),鋰的消耗可以忽略不計(jì)

由于溫度較低且時(shí)間有限,這些內(nèi)部缺陷無法修復(fù),但它們在鋰離子的轉(zhuǎn)移中起著重要作用,并提供了更多的位置來吸收鋰離子。此外XRD圖中沒有屬于Sn的峰,這可能是因?yàn)镾n的含量較低。拉曼光譜(圖4F)顯示了石墨表面的無序程度。當(dāng)ID/IG從SG的0.797降低到HTG的0.288時(shí),加熱過程在去除表面缺陷方面具有積極的效果。隨著Sn的加入,該比率進(jìn)一步降低到0.127,這證實(shí)了由于缺陷中Sn顆粒的目標(biāo)成核,加入Sn可以減少表面缺陷。在圖4G中,我們總結(jié)了CG、RG和再生針狀焦上Sn顆粒密度的統(tǒng)計(jì)數(shù)據(jù),以分析其與表面缺陷的相關(guān)性,表面缺陷由ID/IG表征。值得注意的是,它們顯示出線性度為0.998的強(qiáng)線性相關(guān)性,這直接表明Sn顆粒和缺陷之間的強(qiáng)對應(yīng)關(guān)系,并支持Sn的缺陷驅(qū)動成核。此外,選擇ID/IG為0.34的SG(命名為RG)和ID/IG為0.80的CO2活化的石墨來證實(shí)線性相關(guān)性,并且數(shù)據(jù)仍然是強(qiáng)相關(guān)的。這種線性關(guān)系表明SG的自適應(yīng)再生,因?yàn)椴煌潭热毕莸氖梢酝ㄟ^調(diào)節(jié)其Sn顆粒的尺寸以1%的負(fù)載量再生。

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圖4。(A、B)RG的SEM圖像。(C) RG的TEM圖像。(D) RG的元素映射。(E) TG和RG的XRD圖譜和(F)拉曼光譜。(G) CG、RG、RG’、活性石墨和針狀焦的Sn顆粒密度作為ID/IG的函數(shù)

為G、HTG和CG的電化學(xué)性能首先使用半電池進(jìn)行評估,如圖5所示。RG的循環(huán)伏安曲線(CVs )(圖5A)首先用于分析其電化學(xué)行為。在第一次充電過程中,0.58 V處的陰極還原峰歸因于石墨表面上SEI的產(chǎn)生。重要的是,在隨后的掃描中還原峰的消失意味著沒有新的SEI形成,表明RG具有良好的結(jié)構(gòu)穩(wěn)定性。約0.33 V處的氧化峰對應(yīng)于石墨中Li+的脫嵌。此外,在0.4-0.8V處沒有明顯的氧化和還原峰屬于Sn,表明納米級Sn由于其可忽略的負(fù)載重量而對容量沒有明顯的貢獻(xiàn)。

在長期循環(huán)測試中(圖5B),RG保持了出色的循環(huán)穩(wěn)定性,在0.2 A g1的電流密度下100次循環(huán)后顯示出458.9 mAh g-1的可逆放電容量,這遠(yuǎn)遠(yuǎn)高于HTG的容量(圖5B)證實(shí)RG電極可以保持電化學(xué)循環(huán)穩(wěn)定性,這與納米尺寸的Sn和石墨的柔性導(dǎo)電緩沖劑密切相關(guān)。

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圖5。RG、HTG和CG的電化學(xué)性能。(A)RG的CV曲線。(B)電流密度為0.2a G1時(shí)的循環(huán)性能。(C)RG和CG的速率性能。電化學(xué)阻抗譜。(E)第100次循環(huán)的放電曲線。容量分布和初始庫侖效率。(G)RG中鋰嵌入的示意圖。

負(fù)載量為0.2%、2%和5%的RG的性能,以確定Sn的分散和負(fù)載如何影響電化學(xué)性能。圖S18顯示了它們的循環(huán)性能。像HTG一樣,0.2%的低負(fù)載導(dǎo)致不令人滿意的容量(388.7 mAh/g),因?yàn)橛邢薜腟n不能修復(fù)許多缺陷。對于2%的高負(fù)載量,具有2%的高Sn負(fù)載量的RG顯示出與具有1%的Sn負(fù)載量的RG相似的容量(454.8mAh/g),表明目標(biāo)再生在一定的負(fù)載范圍內(nèi)保持有效。然而,當(dāng)我們將負(fù)載增加到5%時(shí),其容量比RG高得多,但下降得很快,導(dǎo)致性能比RG差。由于Sn是高容量陽極材料,循環(huán)穩(wěn)定性差,如此高的負(fù)載量不可避免地削弱了循環(huán)穩(wěn)定性。至于速率測試(圖5C),RG在電流密度分別為0.1、0.2、0.5和1 A g-1時(shí)的容量分別為429.6、402.3、357.8和256.0 mAh g-1,表現(xiàn)出比CG更好的速率。

當(dāng)密度回到0.1a mAh g-1時(shí),可以獲得424.3 mAh g-1的容量。更好的速率性能可歸因于兩個(gè)原因。一方面,存在大量(錫覆蓋的)表面邊緣和缺陷,與平面嵌入中的長距離相比,這縮短了Li+的傳輸長度,從而促進(jìn)了Li+在石墨中的快速嵌入和脫嵌以及速率性能。另一方面,錫顆粒可以使Li離子有效轉(zhuǎn)移到石墨層中,因?yàn)槠涓週i結(jié)合能和Li+導(dǎo)電性將Li離子引導(dǎo)到石墨的表面缺陷中。進(jìn)行了電化學(xué)阻抗譜(EIS)以確定動力學(xué)特性。在圖5D中,高頻區(qū)域的半圓與電荷轉(zhuǎn)移電阻相關(guān),中低頻區(qū)域的線顯示了與離子擴(kuò)散電阻相對應(yīng)的阻抗(Zw)。

為了揭示電化學(xué)性能增強(qiáng)的原因,我們進(jìn)一步分析了HTG、CG和RG在第100次循環(huán)時(shí)的放電曲線(圖5E)。對于石墨的典型曲線,也稱為“卡屋”模型,容量可以分為兩部分,斜率容量和平臺容量,其中放電曲線的斜率代表具有寬能量分布的過程,例如在石墨邊緣或缺陷上的吸附,電壓平臺可以從Li+嵌入石墨層中得到。如圖5F所示,RG(mAh g-1)的平臺容量與CG(312.3 mAh g-1)和HTG(315.7 mAh g-1)的平臺容量接近,表明決定嵌入Li+數(shù)量的相似完整結(jié)構(gòu)。

相比之下,RG(135.2 mAh g-1)的斜率容量遠(yuǎn)遠(yuǎn)高于CG(65.1 mAh g-1)和HTG(64.8 mAh g-1),揭示了吸收的Li+對容量的巨大貢獻(xiàn)。此外,我們使用微分容量曲線(圖S20)來分析它們之間的容量差異。在0.25 V下,RG和HTG的曲線相似,表明相同的鋰離子插入反應(yīng)和LiC6的生成。相比之下,在0.25-2.5V范圍內(nèi),RG的鋰離子吸收范圍和dQ/dV比HTG高得多,這證實(shí)了受Sn顆粒保護(hù)的表面缺陷的影響。此外,RG的ICE (84.3%)遠(yuǎn)高于HTG (72.8%)并接近CG (89.7%),這可歸因于表面缺陷的針對性修復(fù)。圖5G進(jìn)一步說明了Li+在RG中的轉(zhuǎn)移和儲存示意圖。由于受保護(hù)的表面缺陷,Li+可以通過它們迅速擴(kuò)散到石墨中,一些Li+吸附在缺陷上,從而表現(xiàn)出較高的速率和增強(qiáng)的容量。此外,石墨碳負(fù)載的納米級錫可以降低循環(huán)過程中的應(yīng)力,從而提高循環(huán)穩(wěn)定性。

總結(jié)與展望

提出了一種高效、節(jié)能和干式回收方法,通過有針對性的缺陷修復(fù)來再生和升級SG。理論計(jì)算表明,SG的表面缺陷對Sn的形核有很強(qiáng)的吸引力,這使得定向再生成為可能。以這種方式,使用快速焦耳加熱來分解前體,并使Sn分散和石墨再生準(zhǔn)確。由于錫顆粒的適當(dāng)尺寸和再生缺陷保持的儲鋰活性,含可忽略錫的RG在100次循環(huán)后顯示出84.3%的ICE和458.9 mAh g-1的增強(qiáng)容量。由于錫成核的自適應(yīng),不同石墨在循環(huán)試驗(yàn)中表現(xiàn)相似,表明混合不同石墨的效果有限。

此外,EverBatt分析的環(huán)境和經(jīng)濟(jì)影響表明,與傳統(tǒng)的濕法冶金回收相比,我們的方法所需的能源和材料投入最少,產(chǎn)生的CO2最少,利潤最高。因此,靶向再生和升級循環(huán)方法表現(xiàn)出超高的能量和時(shí)間效率,這可以為SG的直接回收和更可持續(xù)的電池應(yīng)用提供新的途徑。








審核編輯:劉清

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原文標(biāo)題:華中科技大學(xué)姚永剛教授Carbon Energy通過缺陷驅(qū)動的錫成核實(shí)現(xiàn)廢石墨的靶向再生和升級循環(huán)!

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    的頭像 發(fā)表于 01-26 09:07 ?418次閱讀
    如何減少<b class='flag-5'>錫</b>膏在回流焊、波峰焊接中<b class='flag-5'>錫</b>珠出現(xiàn)的幾率?

    石墨烯如何改善電池?石墨烯片可以用于儲能嗎?

    本文將探索無缺陷石墨烯(大(>50微米橫片尺寸)、薄且?guī)缀鯚o缺陷(LTDF)石墨烯片)如何幫助實(shí)現(xiàn)下一代電池的全部潛力。
    的頭像 發(fā)表于 01-22 10:19 ?593次閱讀
    <b class='flag-5'>石墨</b>烯如何改善電池?<b class='flag-5'>石墨</b>烯片可以用于儲能嗎?

    什么是點(diǎn)膠膏?

    點(diǎn)膠膏是一種充裝在針筒內(nèi),通過點(diǎn)膠針頭,接觸焊盤而點(diǎn)膠釋放基板焊盤上的膏。由于工藝方式不同,點(diǎn)膠膏不能像印刷膏一樣裝在罐子里,而是裝
    的頭像 發(fā)表于 01-12 09:11 ?462次閱讀
    什么是點(diǎn)膠<b class='flag-5'>錫</b>膏?

    什么是再生電阻及其作用?

    什么是再生電阻及其作用?? 再生電阻是一種電阻器件,它能夠通過電流和電壓之間的相互轉(zhuǎn)換來實(shí)現(xiàn)能量的回收。再生電阻的主要作用是在電路中回收和利
    的頭像 發(fā)表于 12-29 10:45 ?2904次閱讀

    銅鋁加工行業(yè)通過物聯(lián)網(wǎng)技術(shù)實(shí)現(xiàn)高質(zhì)量可持續(xù)發(fā)展

    ,廣泛應(yīng)用自動化智能裝備,逐步建立企業(yè)資源計(jì)劃系統(tǒng)(ERP)、數(shù)據(jù)采集與監(jiān)視控制系統(tǒng)(SCADA)。 ? 對此,數(shù)之能提供銅鋁加工行業(yè)的一體化物聯(lián)網(wǎng)解決方案。通過實(shí)現(xiàn)生產(chǎn)加工設(shè)備、環(huán)保設(shè)備、能耗設(shè)備等設(shè)備集中監(jiān)控與管
    的頭像 發(fā)表于 12-27 15:56 ?278次閱讀
    <b class='flag-5'>廢</b>銅鋁加工行業(yè)<b class='flag-5'>通過</b>物聯(lián)網(wǎng)技術(shù)<b class='flag-5'>實(shí)現(xiàn)</b>高質(zhì)量可持續(xù)發(fā)展

    膏焊后出現(xiàn)的須是什么東西?

    電子產(chǎn)品中往往包含各種類型的芯片,這些芯片需要通過封裝的形式形成電通路。在電子產(chǎn)品封裝時(shí)往往需要用到膏等焊接材料進(jìn)行芯片與基板的鍵合來實(shí)現(xiàn)電通路。由于與銅在加熱狀態(tài)下的結(jié)合效果優(yōu)秀
    的頭像 發(fā)表于 12-18 10:05 ?768次閱讀
    <b class='flag-5'>錫</b>膏焊后出現(xiàn)的<b class='flag-5'>錫</b>須是什么東西?

    SMT加工中膏上缺陷出現(xiàn)的原因是什么?

    SMT加工中,上是貼片焊接的一個(gè)重要加工環(huán)節(jié),上會直接影響到SMT貼片焊接的質(zhì)量,焊接質(zhì)量可以說是貼片加工的核心質(zhì)量。出現(xiàn)上缺陷并不是什么稀奇事,然而這些
    的頭像 發(fā)表于 11-13 17:23 ?637次閱讀
    SMT加工中<b class='flag-5'>錫</b>膏上<b class='flag-5'>錫</b><b class='flag-5'>缺陷</b>出現(xiàn)的原因是什么?

    PCB電鍍純缺陷

    濕膜在缸中受到純光劑及其它有機(jī)污染的攻擊溶解,當(dāng)鍍錫槽陽極面積不足時(shí)必然會導(dǎo)致電流效率降低,電鍍過程中析氧(電鍍原理:陽極析氧,陰極析氫)。如果電流密度過大而硫酸含量偏高時(shí)陰極析氫,攻擊濕膜從而導(dǎo)致滲的發(fā)生(即所講的“滲鍍
    發(fā)表于 11-09 15:08 ?430次閱讀

    醫(yī)療廢物在線監(jiān)管助力醫(yī)管理升級

    醫(yī)療廢物在線監(jiān)管助力醫(yī)管理升級 醫(yī)療廢物主要分為5類: 感染性廢物:具有感染性危險(xiǎn)的醫(yī)療廢物; 病理性廢物:例如手術(shù)中產(chǎn)生的廢棄人體組織等; 損傷性廢物:包括醫(yī)用針、手術(shù)刀、玻璃試管等; 藥物性
    的頭像 發(fā)表于 11-07 17:12 ?398次閱讀
    醫(yī)療廢物在線監(jiān)管助力醫(yī)<b class='flag-5'>廢</b>管理<b class='flag-5'>升級</b>

    SMT貼片加工中焊接缺陷怎么避免?

    在SMT貼片加工中,75%到85%的不良是由缺陷引起的,很多容易出現(xiàn)問題的細(xì)節(jié),比如焊接缺陷。可以說,smt焊接缺陷的原因有很多,所以在日常生產(chǎn)細(xì)節(jié)控制過程中,
    的頭像 發(fā)表于 10-30 17:36 ?659次閱讀
    SMT貼片加工中焊接<b class='flag-5'>缺陷</b>怎么避免?