TSMC和Synopsys將在生產(chǎn)中使用NVIDIA計算光刻平臺
NVIDIA 于今日宣布，為加快下一代先進(jìn)半導(dǎo)體芯片的制造速度并克服物理限制，TSMC 和 Synopsys 將在生產(chǎn)中使用 NVIDIA 計算光刻平臺。
全球領(lǐng)先的晶圓廠 TSMC 與硅片到系統(tǒng)設(shè)計解決方案領(lǐng)域的領(lǐng)先企業(yè) Synopsys 已將 NVIDIA cuLitho 集成到其軟件、制造工藝和系統(tǒng)中，在加速芯片制造速度的同時，也加快了對未來最新一代 NVIDIA Blackwell 架構(gòu) GPU 的支持。
NVIDIA 創(chuàng)始人兼首席執(zhí)行官黃仁勛表示：計算光刻技術(shù)是芯片制造的基石。我們與 TSMC 和 Synopsys 圍繞 cuLitho 展開合作，通過加速計算和生成式 AI 為半導(dǎo)體微縮開辟了新的方向。
NVIDIA 還推出了能夠增強 GPU 加速計算光刻軟件庫 cuLitho 的全新生成式 AI 算法。與當(dāng)前基于 CPU 的方法相比，新方法大幅改進(jìn)了半導(dǎo)體制造工藝。
審核編輯：劉清
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原文標(biāo)題：GTC24 | TSMC 和 Synopsys 將 NVIDIA 開創(chuàng)性計算光刻平臺投入生產(chǎn)
文章出處：【微信號：NVIDIA_China，微信公眾號：NVIDIA英偉達(dá)】歡迎添加關(guān)注！文章轉(zhuǎn)載請注明出處。
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