微電子產(chǎn)業(yè)特種化學(xué)品和材料解決方案廠商英特格 (Entegris) 宣布,新一代的光罩盒已獲得半導(dǎo)體生產(chǎn)設(shè)備商艾司摩爾 (ASML) 的認(rèn)證,可用于極紫外光 (EUV) 微影技術(shù)的芯片大量生產(chǎn)上,用以保護(hù)在制造過程中光罩的完整。
英格爾表示,日前公司正式發(fā)布了下一代 EUV 1010 光罩盒,可用于以 EUV 微影技術(shù)進(jìn)行大量生產(chǎn)的半導(dǎo)體制造上。英特格進(jìn)一步指出,EUV 1010 光罩盒是透過與全球最大芯片生產(chǎn)設(shè)備制造商之一的 ASML 密切合作而開發(fā)的,已率先成為全世界第一個獲得 ASML 的認(rèn)證,可用于 NXE:3400B 以及未來更先進(jìn)機(jī)臺上的光罩盒產(chǎn)品。
英特格還表示,隨著半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)開始大量使用 EUV 微影技術(shù)進(jìn)行先進(jìn)技術(shù)節(jié)點(diǎn)的大量制造,保持 EUV 光罩無缺陷的要求比以往任何時候都要高。因此,英特格的 EUV 1010光 罩盒已經(jīng)通過 ASML 全面認(rèn)證,可用于他們的最新一代 EUV 微影機(jī),并展現(xiàn)對的 EUV 光罩保護(hù)能力,這其中還包括了解決最關(guān)鍵的粒子污染挑戰(zhàn)。因此,英特格的 EUV 1010 光罩盒也因此讓客戶能夠順利地使用這最先進(jìn)的微影制程,來制造出產(chǎn)品所需的越來越小線寬。
而為了在 ASML 的 NXE:3400B 微影機(jī)中實(shí)現(xiàn)這些性能水準(zhǔn),英特格開發(fā)出使用于接觸光罩和控制環(huán)境上的新型技術(shù)。英特格晶圓和光罩處理副總裁 Paul Magoon 表示,EUV 1010 代表了英特格的產(chǎn)品在改進(jìn)缺陷率方面的重大突破,使得為先進(jìn)技術(shù)節(jié)點(diǎn)實(shí)施的客戶,可以專注于提高效率和產(chǎn)量。而且,與 ASML 的共同開發(fā)和測試,也確保 EUV 1010 可符合最先進(jìn)的 EUV 微影機(jī)的要求。
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