Veeco攜手ALLOS研發(fā)硅基氮化鎵外延片產品技術

Veeco Instruments Inc. (Nasdaq: VECO) 與 ALLOS Semiconductors GmbH 10日宣布取得又一階段的合作成果，雙方共同努力，致力于為MicroLED生產應用提供業(yè)內領先的硅基氮化鎵外延片產品技術。

兩家公司最近合作的宗旨是，在為全球范圍內多家杰出的消費類電子產品公司生產外延片的同時，展示ALLOS 200 mm硅基氮化鎵外延片產品技術在Veeco Propel? MOCVD反應器上的可復制性。

“要將Micro LED技術轉化為生產，僅依據(jù)單項指標展示主導價值是不夠的。我們必須確保每種外延片的整套規(guī)格都具有出色的可重復性和收益，”Veeco Compound Semiconductor業(yè)務部門高級副總裁兼總經(jīng)理Peo Hansson博士表示。“此次成功聯(lián)合再次肯定Veeco的優(yōu)秀MOCVD專業(yè)知識與ALLOS硅基氮化鎵外延片產品技術強強結合，能夠為客戶提供經(jīng)驗證的、可靠的創(chuàng)新方案，加速推進Micro LED應用?！?/p>

作為標準，傳統(tǒng)LED技術通過分類和分級實現(xiàn)波長一致性。但鑒于Micro LED 尺寸小、數(shù)量多而無法分類和分級，因此，外延沉積的一致性變得更為重要。要使大批量生產MicroLED顯示器的承諾變成現(xiàn)實，最重要的成功要素在于實現(xiàn)極佳的發(fā)射波長一致性，這樣就不需要進行單獨的MicroLED芯片測試和分選。根據(jù)業(yè)內目標要求，外延片分級應介于+/-1 nm（下限）和+/-4 nm（上限）之間，取決于應用和傳質方法。通過合作項目，Veeco和ALLOS 通過標準偏差僅為0.85 nm的晶片進一步改善至關重要的波長一致性，這在生產系統(tǒng)方面屬于行業(yè)首例。

“Veeco和ALLOS對晶片之間的可復制性進行了驗證，所有晶片的平均波長標準偏差為1.21nm，且峰值波長介于+/-0.5 nm范圍內。由此，我們朝著+/-1 nm外延片分級的目標又邁進一大步，”ALLOS首席執(zhí)行官Burkhard Slischka 表示?！拔覀兊募夹g已經(jīng)可以在直徑200 mm的晶片上使用，這樣就能使用低成本、高收益的硅系列進行MicroLED芯片生產。此外，我們對于300 mm晶片應用已有清晰的發(fā)展藍圖?！?/p>

作為下一個重大技術轉變主題，MicroLED備受顯示器技術創(chuàng)新者的關注。根據(jù)LEDinside分析，Micro LED市場產值于2022年將達31.8億美金。邊長小于 100 μm 的MicroLED技術被視作開發(fā)功耗更低的旗艦顯示器的重要驅動因素，相關技術承諾助長了這一樂觀情緒。但是，材料成本高、收益低以及MicroLED傳質技術產量一直阻礙著此類顯示器的開發(fā)。此次技術聯(lián)合有效地解決了這些挑戰(zhàn)，Veeco和ALLOS將繼續(xù)與客戶合作，旨在進一步改善硅基氮化鎵外延片和MicroLED傳質技術。

2018年11月12日，兩家公司將攜手在日本金澤市召開的國際氮化物半導體工作研討會 (IWN) 上詳細展示他們的突破成就。