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      光刻技術是什么,有哪些作用

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      什么是光刻工藝？光刻的基本原理

      光刻是半導體芯片生產(chǎn)流程中最復雜、最關鍵的工藝步驟，耗時長、成本高。半導體芯片生產(chǎn)的難點和關鍵點在于將電路圖從掩模上轉(zhuǎn)移至硅片上，這一過程通過光刻來實現(xiàn)， 光刻的工藝水平直接決定芯片的制程水平和性能水平。
      2023-08-23 10:47:531586

      浸沒式光刻，拯救摩爾定律

      2000年代初，芯片行業(yè)一直致力于從193納米氟化氬（ArF）光源光刻技術過渡到157納米氟（F 2 ）光源光刻技術。
      2023-08-23 10:33:46798

      光刻技術概述及其分類

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      2023-08-07 17:52:531480

      EUV光刻市場高速增長，復合年增長率21.8%

      EUV掩膜，也稱為EUV掩模或EUV光刻掩膜，對于極紫外光刻（EUVL）這種先進光刻技術至關重要。EUV光刻是一種先進技術，用于制造具有更小特征尺寸和增強性能的下一代半導體器件。
      2023-08-07 15:55:02396

      次時代EUV光刻已箭在弦上！

      半導體技術的未來通常是通過光刻設備的鏡頭來看待的，盡管高度挑戰(zhàn)性的技術問題幾乎永無休止，但光刻設備仍繼續(xù)為未來的工藝節(jié)點提供更好的分辨率。
      2023-07-28 17:41:161130

      深紫外光刻復雜照明光學系統(tǒng)設計

      摘要 ：隨著微電子產(chǎn)業(yè)的迅猛發(fā)展，我國迫切需要研制極大規(guī)模集成電路的加工設備-光刻機。曝光波長為193nm的投影式光刻機因其技術成熟、曝光線寬可延伸至32nm節(jié)點的優(yōu)勢已成為目前光刻領域的主流設備
      2023-07-17 11:02:38592

      光刻掩膜版測溫儀，光刻機曝光光學系統(tǒng)測溫儀

      GK-1000光刻掩膜版測溫儀，光刻機曝光光學系統(tǒng)測溫儀光刻機是一種用于微納米加工的設備，主要用于制造集成電路、光電子器件、MEMS（微機電系統(tǒng)）等微細結構。光刻機是一種光學投影技術，通過將光線通過
      2023-07-07 11:46:07

      虹科案例 | 用于低成本改造光刻設備的UV紫外光源

      ? ? 紫外光刻和曝光 是半導體行業(yè)生產(chǎn)各種高端芯片、微觀電路結構的核心技術。在紫外光刻過程中，光源發(fā)射的紫外線通過掩模上的微小透鏡或光柵，然后投射到光刻膠層上，形成所需的微細圖案。 長期以來
      2023-07-05 10:11:241026

      3D IC對光刻技術的新技術要求

      中國科學院大學集成電路學院是國家首批支持建設的示范性微電子學院。為了提高學生對先進光刻技術的理解，本學期集成電路學院開設了《集成電路先進光刻技術與版圖設計優(yōu)化》研討課。在授課過程中，除教師系統(tǒng)地講授
      2023-06-30 10:06:02261

      基于機器學習的逆向光刻技術

      中國科學院大學集成電路學院是國家首批支持建設的示范性微電子學院。為了提高學生對先進光刻技術的理解，本學期集成電路學院開設了《集成電路先進光刻技術與版圖設計優(yōu)化》研討課。在授課過程中，除教師系統(tǒng)地講授
      2023-06-29 10:02:17327

      晶圓代工廠如何突破物理極限提升光刻技術？

      EUV微影技術的落實延續(xù)了摩爾定律的壽命，這里的EUV指的其實是一種紫外光源，跟過去光刻技術所采用的光源比起來，EUV的波長更短，因此有助于大幅提高分辨率。
      2023-06-27 10:11:42248

      光刻對準原理與精度控制

      中國科學院大學集成電路學院是國家首批支持建設的示范性微電子學院。為了提高學生對先進光刻技術的理解，本學期集成電路學院開設了《集成電路先進光刻技術與版圖設計優(yōu)化》研討課。在授課過程中，除教師系統(tǒng)地講授
      2023-06-26 17:00:19766

      一文了解光刻的歷史

      如今，光刻技術已成為一項容錯率極低的大產(chǎn)業(yè)。全球領先的荷蘭公司 ASML 也是歐洲市值最大的科技公司。它的光刻工具依賴于世界上最平坦的鏡子、最強大的商用激光器之一以及比太陽表面爆炸還高的熱度，在硅上刻出微小的形狀，尺寸僅為幾納米。
      2023-06-26 16:59:16569

      與EUV相比，這一光刻技術更具發(fā)展?jié)摿?/a>

      光刻中承上啟下的半導體掩膜版

      電子發(fā)燒友網(wǎng)報道（文/周凱揚）在上游的半導體制造產(chǎn)業(yè)中，除了光刻機等設備外，光刻膠、掩膜版等材料也是決定晶圓質(zhì)量與良率的關鍵因素。就拿掩膜版來說，這個承載設計圖形的材料，經(jīng)過曝光后將圖形信息轉(zhuǎn)移到
      2023-06-22 01:27:001984

      硅基光刻技術在柔性電子器件制造中的應用

      近日，湖南大學段輝高教授團隊通過開發(fā)基于“光刻膠全干法轉(zhuǎn)印”技術的新型光刻工藝，用于柔性及不規(guī)則（曲面、懸空）襯底上柔性電子器件的原位和高保形制造，為高精度、高可靠性和高穩(wěn)定性柔性電子器件的制造提供
      2023-06-17 10:19:38507

      面向光刻的設計規(guī)則建立及優(yōu)化

      中國科學院大學集成電路學院是國家首批支持建設的示范性微電子學院。為了提高學生對先進光刻技術的理解，本學期集成電路學院開設了《集成電路先進光刻技術與版圖設計優(yōu)化》研討課。在授課過程中，除教師系統(tǒng)地講授
      2023-06-14 10:16:38226

      芯片制造之光刻工藝詳細流程圖

      光刻機可分為前道光刻機和后道光刻機。光刻機既可以用在前道工藝，也可以用在后道工藝，前道光刻機用于芯片的制造，曝光工藝極其復雜，后道光刻機主要用于封裝測試，實現(xiàn)高性能的先進封裝，技術難度相對較小。
      2023-06-09 10:49:205857

      芯片制造光刻步驟詳解

      芯片前道制造可以劃分為七個環(huán)節(jié)，即沉積、涂膠、光刻、去膠、烘烤、刻蝕、離子注入。
      2023-06-08 10:57:093765

      一文看懂EUV光刻

      極紫外 (EUV) 光刻系統(tǒng)是當今使用的最先進的光刻系統(tǒng)。本文將介紹這項重要但復雜的技術。
      2023-06-06 11:23:54688

      知識分享---光刻模塊標準步驟

      通常，光刻是作為特性良好的模塊的一部分執(zhí)行的，其中包括晶圓表面制備、光刻膠沉積、掩模和晶圓的對準、曝光、顯影和適當?shù)目刮g劑調(diào)節(jié)。光刻工藝步驟需要按順序進行表征，以確保模塊末端剩余的抗蝕劑是掩模的最佳圖像，并具有所需的側壁輪廓。
      2023-06-02 16:30:25418

      逆向光刻的原理及其優(yōu)勢

      中國科學院大學集成電路學院是國家首批支持建設的示范性微電子學院。為了提高學生對先進光刻技術的理解，本學期集成電路學院開設了《集成電路先進光刻技術與版圖設計優(yōu)化》研討課。
      2023-05-26 14:59:17528

      化學放大型光刻膠的作用原理

      感光速度:即光刻膠受光照射發(fā)生溶解速度改變所需的最小能量，感光速度越快，單位時間內(nèi)芯片制造的產(chǎn)出越高，經(jīng)濟效益越好，另-方面，過快的感光速度會對引起工藝寬容度的減小，影響工藝制程的穩(wěn)定性。
      2023-05-25 09:46:09561

      光刻技術：光學關鍵尺寸測量（OCD）原理

      　　集成電路芯片持續(xù)朝著密度不斷增加和器件尺寸不斷微縮的方向發(fā)展，其中最為關鍵的一個參數(shù)就是柵極線條寬度。任何經(jīng)過光刻后的光刻膠線條寬度或刻蝕后柵極線條寬度與設計尺寸的偏離都會直接影響最終器件的性能
      2023-05-24 09:25:193491

      EUV光刻技術優(yōu)勢及挑戰(zhàn)

      EUV光刻技術仍被認為是實現(xiàn)半導體行業(yè)持續(xù)創(chuàng)新的關鍵途徑。隨著技術的不斷發(fā)展和成熟，預計EUV光刻將在未來繼續(xù)推動芯片制程的進步。
      2023-05-18 15:49:041790

      一文講透光刻膠及芯片制造關鍵技術

      在集成電路制造領域，如果說光刻機是推動制程技術進步的“引擎”，光刻膠就是這部“引擎”的“燃料”。
      2023-05-13 11:28:381122

      二極管的鉗位作用和穩(wěn)壓作用有什么不同啊？

      二極管的鉗位作用和穩(wěn)壓作用有什么不同啊？
      2023-05-05 10:00:38

      EUV光刻的無名英雄

      晶圓廠通常使用光刻膠來圖案化抗蝕刻硬掩模，然后依靠硬掩模來保護晶圓。但是，如果光刻膠太薄，它可能會在第一個轉(zhuǎn)移步驟完成之前被侵蝕掉。隨著光刻膠厚度的減小，底層厚度也應該減小。
      2023-04-27 16:25:00689

      NVIDIA H100 GPU為2nm芯片加速計算光刻！

      現(xiàn)代工藝技術將晶圓廠設備要求推向極限，需要實現(xiàn)突破其物理極限的高分辨率，這正是計算光刻技術發(fā)揮作用的地方。計算光刻就是為芯片生產(chǎn)制作光掩模的技術，它結合來自ASML設備和測試晶圓的關鍵數(shù)據(jù)，是一個模擬生產(chǎn)過程的算法。
      2023-04-26 10:05:29918

      淺談光刻技術

      在整個芯片制造過程中，幾乎每一道工序的實施都離不開光刻技術。光刻技術也是制造芯片最關鍵的技術，占芯片制造成本的35%以上。
      2023-04-26 08:57:031033

      光刻技術的種類介紹

      根據(jù)維基百科的定義，光刻是半導體器件制造工藝中的一個重要步驟，該步驟利用曝光和顯影在光刻膠層上刻畫幾何圖形結構，然后通過刻蝕工藝將光掩模上的圖形轉(zhuǎn)移到所在襯底上。這里所說的襯底不僅包含硅晶圓，還可以是其他金屬層、介質(zhì)層，例如玻璃、SOS中的藍寶石。
      2023-04-25 11:11:331243

      光刻技術的詳細工序

      清洗硅片（Wafer Clean） 清洗硅片的目的是去除污染物去除顆粒、減少針孔和其它缺陷，提高光刻膠黏附性 基本步驟：化學清洗——漂洗——烘干。
      2023-04-25 11:09:403859

      光刻技術的原理及發(fā)展前景分析

      光刻就是把芯片制作所需要的線路與功能區(qū)做出來。利用光刻機發(fā)出的光通過具有圖形的光罩對涂有光刻膠的薄片曝光，光刻膠見光后會發(fā)生性質(zhì)變化，從而使光罩上得圖形復印到薄片上，從而使薄片具有電子線路圖的作用
      2023-04-25 11:05:322260

      什么是光刻技術

      光刻技術簡單來講，就是將掩膜版圖形曝光至硅片的過程，是大規(guī)模集成電路的基礎。目前市場上主流技術是193nm沉浸式光刻技術，CPU所謂30nm工藝或者22nm工藝指的就是采用該技術獲得的電路尺寸。
      2023-04-25 11:02:322261

      光刻技術簡述

      光刻技術是將掩模中的幾何形狀的圖案轉(zhuǎn)移到覆蓋在半導體晶片表面的薄層輻射敏感材料（稱為抗蝕劑）上的過程
      2023-04-25 09:55:131057

      計算光刻技術有多重要？計算光刻如何改變2nm芯片制造？

      光刻是在晶圓上創(chuàng)建圖案的過程，是芯片制造過程的起始階段，包括兩個階段——光掩膜制造和圖案投影。
      2023-04-25 09:22:16696

      負光刻膠顯影殘留原因

      151n光刻膠曝光顯影后開口底部都會有一撮殘留，找不到原因。各位幫分析下
      2023-04-20 13:13:52

      田字型電容橋有什么作用？

      電路的作用問題：這種“田”字電容電路有什么作用？檢測嗎？
      2023-04-19 17:35:04

      淺談EUV光刻中的光刻膠和掩模等材料挑戰(zhàn)

      新的High NA EUV 光刻膠不能在封閉的研究環(huán)境中開發(fā)，必須通過精心設計的底層、新型硬掩模和高選擇性蝕刻工藝進行優(yōu)化以獲得最佳性能。為了迎接這一挑戰(zhàn)，imec 最近開發(fā)了一個新的工具箱來匹配光刻膠和底層的屬性。
      2023-04-13 11:52:121164

      音圈電機模組在主流光刻掩模臺系統(tǒng)中的應用

      光刻機是芯片智造的核心設備之一，也是當下尤為復雜的精密儀器之一。正因為此，荷蘭光刻機智造商阿斯麥通研制的EUV光刻機才會“千金難求”。 很多人都對光刻機有所耳聞，但其實不同光刻機的用途并不
      2023-04-06 08:56:49679

      Dev Error Detect有什么作用？

      我想知道 OSIF 的含義以及有關其配置的一些信息。 1. “Dev Error Detect”有什么作用？它是否啟用斷言來檢查/檢測有關 Osif 驅(qū)動程序的錯誤？2.“使用系統(tǒng)定時器”選項
      2023-03-27 08:56:50

      GTC 2023 NVIDIA將加速計算引入半導體光刻 計算光刻技術提速40倍

      GTC 2023 NVIDIA將加速計算引入半導體光刻 計算光刻技術提速40倍 NVIDIA cuLitho的計算光刻庫可以將計算光刻技術提速40倍。這對于半導體制造而言極大的提升了效率。甚至可以說
      2023-03-23 18:55:377489

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