第1屆全國等離子體生物醫(yī)學會議由西安交通大學發(fā)起的“第一屆全國等離子體生物醫(yī)學學術會議”于2024年3月15日-18日在西安成功舉辦。會議吸引了來自全國80余家高校、研究所、醫(yī)院和企業(yè)的280
2024-03-22 08:01:18
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Aigtek誠邀您參會2024年3月15-17日，Aigtek安泰電子將攜一眾明星產品及專業(yè)測試解決方案亮相第一屆全國等離子體生物醫(yī)學學術會議。在此，我們誠邀您蒞臨會議參觀、洽談與觀摩！-時間
2024-03-07 08:01:05182 pcb等離子處理的5大作用
2024-03-05 10:24:4897 電芯短路試驗箱-電池短路試驗機-電芯強制內部短路試驗機一、設備品名：1.1產品名稱：電芯短路試驗箱1.2產品型號：GAG-H211二、適用說明：2.1試驗目的 遙控大電流短路裝置綜合多種電池短路試驗
2024-02-26 14:03:52
據了解，中機新材專注于國產高性能研磨拋光材料的研發(fā)與應用，能夠為客戶提供量身打造的工業(yè)磨拋解決方案，力求協(xié)助半導體產業(yè)徹底解決長期困擾的瓶頸問題。
2024-02-21 16:56:53406 共讀好書 陳婷 周偉潔 王濤 （無錫中微高科電子有限公司） 摘要： 研究了微波等離子工藝影響導電膠形貌的機理，進一步分析了等離子清洗次數對電路可靠性的影響。結果表明，對裝片后的電路進行 1 次等離子
2024-02-20 13:37:16125 
等離子發(fā)動機原理： 等離子發(fā)動機是一種利用電磁力將離子加速并噴射出來產生推力的發(fā)動機。它主要包括等離子體產生器、離子加速器和噴嘴等組成。下面將詳細介紹等離子發(fā)動機的工作原理。 生成等離子體：等離子
2024-02-14 18:18:003168 等離子顯示器（Plasma Display Panel，簡稱PDP）是一種采用氣體放電和發(fā)光材料發(fā)光的平板顯示技術。與液晶顯示器相比，等離子顯示器擁有更高的對比度、更高的色彩飽和度和更快的響應速度
2024-02-03 10:00:17305 光學3D表面輪廓儀通過納米傳動與掃描技術、白光干涉與高精度3D重建技術實現0.1nm級表面粗糙度測量，成為超精密拋光技術研究領域的重要工具和幫手。
我們熱切期待參與需要利用光學3D表面輪廓儀對材料
2024-01-30 15:21:55267 
、固封、研磨、拋光、最后提供形貌照片、開裂分層大小判斷、或尺寸等數據。是一種觀察樣品截面組織結構情況的最常用的制樣手段?！?PCBA板外觀檢查（板面腐蝕、電遷移等等
2024-01-29 22:07:56
為實現碳化硅晶片的高效低損傷拋光，提高碳化硅拋光的成品率，降低加工成本，對現有的碳化硅化學機械拋光 技術進行了總結和研究。針對碳化硅典型的晶型結構及其微觀晶格結構特點，簡述了化學機械拋光技術對碳化硅
2024-01-24 09:16:36431 
光刻機的鏡頭要實現納米級的成像分辨率，就得拼命增大鏡片的數值孔徑（Numerical Aperture），但這同時會導致焦深（DoF）的下降，焦深是指光學成像的聚焦深度，要想保證光刻圖像清晰不失焦，晶圓表面的高低起伏，就必須落在焦深范圍之內。
2024-01-22 18:19:26409 
Disco在切割、研磨和拋光機器方面擁有全球最大的市場份額。安裝在機器中的切割輪高速旋轉以處理形成電路的基板。該裝置由鉆石制成，磨損后需要更換。Disco 在廣島縣和長野縣擁有兩家生產切割輪的工廠。
2024-01-14 13:59:03581 最后的拋光步驟是進行化學蝕刻和機械拋光的結合，這種形式的拋光稱為化學機械拋光(CMP)。首先要做的事是，將晶圓片安裝在旋轉支架上并且要降低到一個墊面的高度，在然后沿著相反的方向旋轉。墊料通常是由一種
2024-01-12 09:54:06358 
傳統(tǒng)的手工拋光打磨存在勞動強度高、拋光效果不穩(wěn)定、難以處理復雜形狀、安全風險和無法滿足高質量要求等痛點。因此，應用工業(yè)機器人進行自動化表面精加工的技術隨之崛起。
2024-01-11 11:03:37196 ——利用在基板上的金屬薄膜中產生的表面波來散熱，是一個重要的突破。 韓國科學技術學院（KAIST）宣布，機械工程系Bong Jae Lee教授的研究小組在世界上首次成功測量了沉積在基板上的金屬薄膜中“表面等離子體激元”（surface pla
2024-01-03 15:32:39184 宏集推出七軸都帶有扭矩傳感器的柔性機械臂，通過類人類觸覺、力位控制策略與直觀易用的打磨app，實現均勻一致的打磨效果，打破“被動柔順”方案的不可控性與精度限制，使表面精加工技術效率和精度大幅提升
2024-01-03 13:36:22145 
特性進行更精確的分析氬離子拋光機可以實現平面拋光和截面研磨拋光這兩種形式：半導體芯片氬離子截面切割拋光后效果圖： 聚焦離子束FIB切割+SEM分析聚焦離子束FIB測試原理：聚焦離子束(FIB)系統(tǒng)
2024-01-02 17:08:51
CMP技術指的是在化學和機械的協(xié)同作用下，使得待拋光原料表面達到指定平面度的過程。化學藥水與原料接觸后，生成易于拋光的軟化層，隨后利用拋光墊以及研磨顆粒進行物理機械拋光，以清除軟化層。
2023-12-28 15:13:06409 12月27日消息，根據韓媒報道，SK海力士近日研發(fā)出了可重復使用的 CMP拋光墊技術，不僅可以降低成本，而且可以增強 ESG（環(huán)境、社會、治理）管理。
2023-12-27 13:48:50231 
需要指出的是，CMP 技術通過化學與機械作用使得待拋光材料表面達到所需平滑程度。其中，拋光液中化學物質與材料表面發(fā)生化學反應，生成易于拋光的軟化層。拋光墊和研磨顆粒則負責物理機械拋光，清除這一軟化層。
2023-12-27 10:58:31335 
01、重點和難點 等離子體通常被認為是物質的第四態(tài)，除了固體、液體和氣體之外的狀態(tài)。等離子體是一種高能量狀態(tài)的物質，其中原子或分子中的電子被從它們的原子核中解離，并且在整個系統(tǒng)中自由移動。這種狀態(tài)
2023-12-26 08:26:29209 
磨削和研磨等磨料處理是生產半導體芯片的必要方式，然而研磨會導致芯片表面的完整性變差。因此，拋光的一致性、均勻性和表面粗糙度對生產芯片來說是十分重要的。
2023-12-21 09:44:26491 
? 01、重點和難點 在硅材料加工和研究領域，皮秒脈沖激光激發(fā)的等離子體對于提高加工技術、開發(fā)創(chuàng)新設備以及加深對材料物理特性的理解都有重大研究意義。這種影響尤其體現在硅材料表面等離子體形態(tài)變化的研究
2023-12-19 10:53:11236 
眾所周知，化合物半導體中不同的原子比對材料的蝕刻特性有很大的影響。為了對蝕刻速率和表面形態(tài)的精確控制，通過使用低至25nm的薄器件阻擋層的，從而增加了制造的復雜性。本研究對比了三氯化硼與氯氣的偏置功率，以及氣體比對等離子體腐蝕高鋁含量AlGaN與AlN在蝕刻速率、選擇性和表面形貌方面的影響。
2023-12-15 14:28:30227 
基于GaN的高電子遷移率，晶體管，憑借其高擊穿電壓、大帶隙和高電子載流子速度，應用于高頻放大器和高壓功率開關中。就器件制造而言，GaN的相關材料，如AlGaN，憑借其物理和化學穩(wěn)定性，為等離子體蝕刻
2023-12-13 09:51:24294 
光捕獲技術是提高太陽能電池光吸收率的有效方法之一，它可以減少材料厚度，從而降低成本。近年來，表面等離子體（SP）在這一領域取得了長足的進步。利用表面等離子體的光散射和耦合效應，可以大大提高太陽能電池的效率。
2023-12-05 10:52:27497 
CMP（Chemical Mechanical Polishing）即“化學機械拋光”，是為了克服化學拋光和機械拋光的缺點
2023-12-05 09:35:19416 
高壓放大器在等離子體實驗中有多種重要應用。等離子體是一種帶電粒子與電中性粒子混合的物質，其具有多種獨特的物理性質，因此在許多領域具有廣泛的應用，例如聚變能源、等離子體醫(yī)學、材料加工等。下面安泰電子將介紹高壓放大器在等離子體實驗中的應用。
2023-11-27 17:40:00189 
? 一種使用等離子體激元的新型成像技術能夠以增強的靈敏度觀察納米顆粒。休斯頓大學納米生物光子學實驗室的石偉川教授和他的同事正在研究納米材料和設備在生物醫(yī)學、能源和環(huán)境方面的應用。該小組利用等離子
2023-11-27 06:35:23121 據鼎龍控股集團消息，鼎龍（仙桃）半導體材料產業(yè)園區(qū)占地218畝，建筑面積11.5萬平方米，項目總投資約10億元人民幣。經過15個月的建設，同時進入千噸級半導體oled面板光刻膠（pspi）、萬噸級cmp拋光液（slurry）和萬噸級cmp拋光液用納米粒子研磨法等
2023-11-17 10:56:40693 化學機械拋光（CMP）是目前最主流的晶圓拋光技術，拋光過程中，晶圓廠會根據每一步晶圓芯片平坦度的加工要求，選擇符合去除率（MRR）和表面粗糙度（Ra）等指標要求的拋光液，來提高拋光效率和產品良率。
2023-11-16 16:16:35212 近日，深圳技術大學阮雙琛教授和周滄濤教授團隊在國際上首次提出基于超光速等離子體尾波場產生阿秒脈沖、亞周期相干光激波輻射的物理方案，并闡釋了一種由電子集體作用主導的全新相干輻射產生機制。
2023-11-09 10:40:40307 
近年來，銅(Cu)作為互連材料越來越受歡迎，因為它具有低電阻率、不會形成小丘以及對電遷移(EM)故障的高抵抗力。傳統(tǒng)上，化學機械拋光(CMP)方法用于制備銅細線。除了復雜的工藝步驟之外，該方法的一個顯著缺點是需要許多對環(huán)境不友好的化學品，例如表面活性劑和強氧化劑。
2023-11-08 09:46:21188 
半導體行業(yè)的生產設備有刻蝕、薄膜沉積、清洗、濕制、封裝和測試、拋光、硅晶圓制造等，這些精密生產設備中有電氣元器件、執(zhí)行部件、監(jiān)測控制儀器等，對供電的穩(wěn)定性和質量要求很高。
2023-10-26 09:26:29369 
科瑞特DMC600系列是一款多功能的運動控制系統(tǒng)，主要應用于焊接、拋光、機械手等設備。實現多軸聯動，多種插補，如：直線、圓弧、拋物線、螺旋線插補等。下面以3軸拋光示教系統(tǒng)為例，舉例工件加工的編輯方法
2023-10-23 08:07:55379 
眾所周知，傾斜光纖光柵可以激發(fā)眾多的包層模式，并且對光纖表面周圍環(huán)境敏感。當光纖包層模式與表面等離子共振相位匹配時，傾斜光纖光柵可以在金表面激發(fā)倏逝表面等離子體共振波。
2023-10-20 15:48:08330 
等離子體工藝是干法清洗應用中的重要部分，隨著微電子技術的發(fā)展，等離子體清洗的優(yōu)勢越來越明顯。文章介紹了等離子體清洗的特點和應用，討論了它的清洗原理和優(yōu)化設計方法。最后分析了等離子體清洗工藝的關鍵技術及解決方法。
2023-10-18 17:42:36447 
等離子表面處理機在PCB制程中扮演了關鍵的角色，它有助于提高了電路板的質量、可靠性和性能。這對于電子制造和各種應用中的PCB制程都非常重要。
2023-10-05 09:53:47384 
基于電池供電的等離子打火機。制作新奇打印方式的等離子打印機！包含相關圖文說明、代碼、線路圖
2023-09-22 07:54:27
印刷鋼網厚度0.005″采用激光切割，電拋光。作為0.004″和0.006″厚網板的折中，選擇了0.005″的厚度。 應用較薄的0.004″網板，錫膏的傳輸效率會較高，但可能不能滿足其他元件對錫膏量的要求。
2023-09-21 15:08:07359 
兩個物體表面相互接觸即會產生相互作用力，研究具有相對運動的相互作用表面間的摩擦、潤滑與磨損及其三者之間關系即為摩擦學，目前摩擦學已涵蓋了化學機械拋光、生物摩擦、流體摩擦等多個細分研究方向，其研究
2023-09-20 09:24:04
0 為了提高等離子消融手術系統(tǒng)的頻率輸出,提出一種新型的全橋拓撲結構。應用LCR諧振原理,對傳統(tǒng)的全橋逆變拓撲結構進行改進,當諧振電路工作在恰當的區(qū)域可以實現開關管的零電壓的開通和近似零電壓的關斷,能
2023-09-20 07:38:22
納米級[1] 。傳統(tǒng)的平面化技術如基于淀積技術的選擇淀積、濺射玻璃 SOG、低壓 CVD、等離子體增強 CVD、偏壓濺射和屬于結構的濺射后回腐蝕、熱回流、淀積 —腐蝕 —淀積等 , 這些技術在 IC
2023-09-19 07:23:03
背景 Adi Salomon 教授的實驗室主要致力于了解納米級分子與光的相互作用，并構建利用光傳感分子的設備。該小組設計并制造了金屬納米結構，并利用它們通過與表面等離子體激元的相互作用來影響納米級
2023-09-19 06:28:29223 
鈉離子電池因其成本與環(huán)保等優(yōu)勢，應用范圍越來越廣，相關法規(guī)及標準也在不斷完善。近期，聯合國《關于危險貨物運輸的建議書規(guī)章范本》（以下簡稱TDG）第23修訂版已發(fā)布。鈉離子電池運輸規(guī)定新要求01新增
2023-09-15 16:26:201243 
得益于半導體業(yè)界的繁榮，世界cmp拋光液市場正在經歷明顯的增長。cmp拋光液是半導體制造中的關鍵成分，在實現集成電路制造的精度和效率方面發(fā)揮了關鍵作用。隨著技術的發(fā)展，半導體的格局不斷重新形成，對cmp拋光液的需求從來沒有這么高過。
2023-09-14 10:28:36663 半導體行業(yè)生產設備有刻蝕、薄膜沉積、清洗、濕制、封裝和測試、拋光、硅晶圓制造等設備，這些精密生產設備對工藝要求很高，例如對供電的穩(wěn)定性和質量要求，對溫度嚴格的監(jiān)測和控制等
2023-08-31 12:33:15378 
光學加工是一個非常復雜的過程。難以通過單一加工方法加工滿足各種加工質量指標要求的光學元件。平面拋光機的基礎是加工材料的微去除。實現這種微去除的方法包括研磨加工、微粉顆粒拋光和納米材料拋光。根據
2023-08-28 08:08:59355 來自斯圖加特大學(德國)的 Harald Gie?en 教授的團隊正在致力于將光子學和納米技術用于新的應用和設備。研究人員正在研究通過控制等離子體效應來創(chuàng)建顯示器的技術。等離激元學研究光與金屬納米
2023-08-23 06:33:33215 
等離子體顯示器在對比度、視角和響應速度等方面的優(yōu)勢較為顯著，適合用于娛樂和家庭影院等方面；而液晶顯示器則在功耗、分辨率和便攜性等方面有一定的優(yōu)勢，適合辦公和移動設備等領域。選擇時，可以根據使用需求和個人偏好來進行選擇。
2023-08-10 14:38:36766 據麗水經開區(qū)官微消息，8月2日，富樂德半導體產業(yè)項目傳感器子項目在水街基金產業(yè)園正式完成簽約。 （圖源：麗水經開區(qū)） 據悉，富樂德半導體產業(yè)項目總投資120億元，主要建設12英寸拋光片生產線、傳感器
2023-08-08 18:29:07451 
化學機械拋光（CMP）是晶圓制造的關鍵步驟，其作用在于減少晶圓表面的不平整，而拋光液、拋光墊是CMP技術的關鍵耗材，價值量較高，分別占CMP耗材49%和33%的價值量，其品質直接影響著拋光效果，因而
2023-08-02 10:59:473404 
20世紀60年代以前，半導體基片拋光還大都沿用機械拋光，得到的鏡面表面損傷是極其嚴重的。1965年Walsh和Herzog提出SiO2溶膠和凝膠拋光后，以SiO2漿料為代表的化學機械拋光工藝就逐漸代替了以上舊方法。
2023-08-02 10:48:407522 
在常規(guī)離子注入中，三氟化硼常用于形成P型淺結的注入不是B,因為BF2+離子大且重。B10H14,B18H22和硼烷（C2B10&或CBH）是研究中的大分子。
2023-07-21 10:18:571397 
億美元的三維多芯片集成封裝項目穩(wěn)步推進，跨入新的發(fā)展階段。 首批搬入的設備涵蓋了曝光、顯影、電鍍、清洗、等離子濺射、減薄拋光、檢測量測等晶圓級先進封裝主要工藝環(huán)節(jié)。值得一提的是，2015年盛合晶微創(chuàng)立之初，首條12英寸中段凸塊（Bum
2023-07-20 19:12:591212 電化學拋光(EP)通過選擇性地去除工件表面區(qū)域中的特定零件（如粗糙度和氧化物）形成鏡面狀表面。
2023-07-18 17:24:43550 
陶氏化學公司是粘合劑，輔助劑等在內的多種材料提供的高純度化學產品生產線的半導體核心化學材料的主要供應商，也供應全球重要的CMP材料包括拋光墊、拋光液等。
2023-07-18 09:59:07613 1、產品簡介： 放電等離子燒結 (SPS)是一種快速、低溫、節(jié)能、環(huán)保的材料制備新技術，可用來制備金屬、陶瓷、納米材料、非晶材料、復合材料、梯度材料等
2023-07-16 23:06:19
行業(yè)簡介：微弧氧化(MAO)又稱微等離子體氧化(MPO)、陽極火花沉積(ASD)或火花放電陽極氧化(ANOF),還有人稱之為等離子體增強電化學表面陶瓷化(PECC)。該技術的基本原理及特點是：在普通
2023-07-11 14:27:42
、污水處理、電容老化、等離子放電、科學研究等對電源的要求,更能通過其特有的 標準脈沖矩形波和高精度調節(jié)能為您的生產或研究創(chuàng)造更大的效益、為社會節(jié)約更多的能 源。緊湊
2023-07-11 12:24:25
、污水處理、電容老化、等離子放電、科學研究等對電源的要求,更能通過其特有的 標準脈沖矩形波和高精度調節(jié)能為您的生產或研究創(chuàng)造更大的效益、為社會節(jié)約更多的能 源。緊湊
2023-07-11 12:23:40
上海伯東美國 KRi 考夫曼離子源 KDC 40 應用于雙腔室高真空等離子 ALD 系統(tǒng), 實現小規(guī)模試驗中 2-4 英寸硅片等半導體襯底表面的清潔, 確保樣品表面清潔無污染, 滿足 TiN, ZnO, Al2O3, TiO2 等制備.
2023-07-07 14:55:44439 
)、刻蝕(Etch)、離子注入(Ion Implant)、薄膜生長(Dielectric Deposition)、拋光
2023-07-03 09:16:46649 根據制造工藝分類，半導體硅片主要可以分為拋光片、外延片與以SOI硅片為代表的高端硅基材料。單晶硅錠經過切割、研磨和拋光處理后得到拋光片。拋光片經過外延生長形成外延片，拋光片經過氧化、鍵合或離子注入等工藝處理后形成SOI硅片。
2023-06-27 14:34:383725 
隨著集成電路互連線的寬度和間距接近3pm，鋁和鋁合金的等離子體蝕刻變得更有必要。為了防止蝕刻掩模下的橫向蝕刻，我們需要一個側壁鈍化機制。盡管AlCl和AlBr都具有可觀的蒸氣壓，但大多數鋁蝕刻的研究
2023-06-27 13:24:11318 
近日，Nano Letters（《納米快報》）在線發(fā)表武漢大學高等研究院梁樂課題組和約翰霍普金斯大學Ishan Barman課題組關于高效構建等離子增強NV色心的納米器件研究進展，他們利用自下向上的DNA自組裝方法開發(fā)了一種混合型獨立式等離子體納米金剛石
2023-06-26 17:04:52396 
拋光機構底部后側設置有粉塵吸收裝置，可將加工拋光過程中形成的粉塵吸收至排風管中排出，防止大量粉塵直接飄散對加工人員身體健康產生損害。罩殼底設置有粉塵吸收軟管，上端口連接至出風管上，中部設置有固定
2023-06-21 14:16:58233 
電拋光smt鋼網是什么工藝，它與其他smt鋼網相比有哪些優(yōu)點呢，今天我們?yōu)榇蠹易錾钊氲闹v解，希望幫助大家在選購適合自己工廠真正需要的smt鋼網。
2023-06-19 10:17:44568 交流電源板過載防護高電壓氣體放電管 氣體放電管- GDT /氣體等離子體避雷器 2R3600ML5 Gas Discharge
2023-06-14 17:30:02
2023年6月，浙江海納半導體股份有限公司（以下簡稱“海納半導體”）與浦江縣經濟開發(fā)區(qū)管理委員會正式簽署《半導體級拋光片生產線項目投資框架協(xié)議》。 浦江縣委書記俞佩芬、浦江縣委副書記、縣長
2023-06-13 15:47:371042 高格科技儀器給大家介紹一下電芯重物沖擊試驗機，先來了解一下什么是電芯，電芯主要由正極、負極、隔膜和電解液組成。主要工作原理是靠鋰離子的在正極和負極之間的遷移實現充
2023-06-10 16:41:08
電化學清洗及電拋光和超聲波清洗方法。不僅需要拆卸鍍膜機內零件，耗費大量時間精力，同時拆裝過程也有不可避免的污染，而且需要消耗一定的清洗材料，尤其是清洗體積大的物件時，及其不便。
2023-06-08 14:35:37542 
在現代工業(yè)中，表面加工是至關重要的一環(huán)。為了達到所需的表面粗糙度、光潔度和平整度等要求，往往需要進行拋光處理。
2023-06-08 11:13:552652 
在化學腐蝕點處的濃度越高，腐蝕速率越快。在拋光過程中拋光液持續(xù)流動，我們假設在腐蝕點處的濃度可以保持初始時的濃度，腐蝕率以最快的速度發(fā)生，則拋光液不同的PH值對應一個腐蝕率，由此可見，去除速率與PH值有關，PH越高，速率越快。
2023-06-02 15:24:06344 
使用化學機械拋光(CMP)方法對碳化硅晶片進行了超精密拋光試驗，探究了滴液速率、拋光頭轉 速、拋光壓力、拋光時長及晶片吸附方式等工藝參數對晶片表面粗糙度的影響，并對工藝參數進行了優(yōu)化，最終 得到了表面粗糙度低于0.1 nm的原子級光滑碳化硅晶片。
2023-05-31 10:30:062212 
速科德Kasite打磨拋光主軸主要對高精度零件的加工處理，如汽車零部件、光纖接插件陶瓷加工、義齒加工雕銑等行業(yè)。這些高精度零件如果在拋光打磨過程中稍有誤差可能就會導致零件的報廢，造成較大的經濟損失，因此一款高精度高性能打磨拋光主軸就顯得尤為重要。
2023-05-29 17:39:48743 
金屬銀鍍PTFE涂層等離子處理是指在金屬鍍銀進行PTFE涂層，并在PTFE涂層上進行等離子處理的一種表面處理技術。該技術可以使金屬表面具有一定的耐腐蝕性、耐磨性和耐高溫性，同時還可以提高金屬表面的潤滑性和粘附性。
2023-05-25 15:54:14513 
PTFE表面等離子改性是一種有效的技術手段，可以改變PTFE表面的性質，增加其在各個領域的應用。通過引入親水基團、改善表面形貌、形成致密的氟化物膜等方式，可以提高PTFE表面的粘附性、潤濕性、抗腐蝕性、耐磨性、生物相容性和電性能。
2023-05-19 10:45:39628 
在天體物理學中，有許多天體都具有強大的磁場，例如恒星、行星和黑洞。這些天體周圍通常有大量的等離子體，例如恒星風、行星際介質和吸積盤。
2023-05-17 09:24:16452 拋光硅晶片是通過各種機械和化學工藝制備的。首先，硅單晶錠被切成圓盤（晶片），然后是一個稱為拍打的扁平過程，包括使用磨料清洗晶片。通過蝕刻消除了以往成形過程中引起的機械損傷，蝕刻之后是各種單元操作，如拋光和清洗之前，它已經準備好為設備制造。
2023-05-16 10:03:00584 
因產品配置不同, 價格貨期需要電議, 圖片僅供參考, 一切以實際成交合同為準射頻等離子體源 RF2100ICP Plasma Source上海伯東代理美國 KRi 考夫
2023-05-11 14:57:22
碳化硅襯底 產業(yè)鏈核心材料，制備難度大碳化硅襯底制備環(huán)節(jié)主要包括原料合成、碳化硅晶體生長、晶錠加工、晶棒切割、切割片研磨、研磨片拋光、拋光片清洗等環(huán)節(jié)。
2023-05-09 09:36:483426 
芯片等離子活化技術是一種物理處理技術，通過改變材料表面的化學性質、物理性質和機械性能，實現對材料的表面處理和改性。芯片等離子活化技術具有處理效率高、處理精度高、無需添加劑、處理后材料性能穩(wěn)定和應用范圍廣泛等優(yōu)勢。
2023-05-06 10:44:50651 
通過金徠等離子體處理，可以提高金屬表面的活性，改善金屬表面的結合力、增強涂層附著力等性質，使得金屬制品的質量和性能得到明顯的改善和提升。此外，等離子體處理還可以改善金屬表面的光潔度，使得金屬表面更加平整光滑。
2023-05-05 10:51:23525 
一、自動拋光機的拋光效果因素自動拋光機的拋光效果取決于多個因素，除了自動拋光機本身的質量以外，還包括使用工藝、選用什么樣的拋光輔料，要拋光物件材質，操作者的經驗技術等，在條件都合適的情況下，自動
2023-05-05 09:57:03535 因子導致了輻射傳熱的改善。因此，去除導熱路徑并不會導致溫度的劇烈變化?！ ?.3.2 拋光鋁外殼 可以預計，鋁外殼會產生更顯著的影響，因為鋁是比塑料更好的導熱體，因此，去除這種傳導路徑對Tj的影響應
2023-04-21 15:00:28
(6~10mm)、溫度漂移等問題,無法滿足發(fā)動機復雜機械內部非定常測量的需要。而在對新技術的探索中,
等離子體技術由于其有著許多先天優(yōu)勢而引起了研究者們的關注，如其理論上有著高頻率響應的特性、不受熱慣性的限制、基于
等離子體原理的探針結構尺寸小,可達毫米尺度。因此認為其具有十分優(yōu)秀的發(fā)展?jié)摿?，有望突破高溫?/div>
2023-04-19 15:29:42260 
書籍：《炬豐科技-半導體工藝》 文章：III-V族化學-機械拋光工藝開發(fā) 編號：JFKJ-21-214 作者：炬豐科技 摘要 ? III-V材料與絕緣子上硅平臺的混合集成是一種很有前景的技術
2023-04-18 10:05:00151 
半導體材料和半導體器件在世界電子工業(yè)發(fā)展扮演的角色我們前幾天已經聊過了。而往往身為使用者的我們都不太會去關注它成品之前的過程，接下來我們就聊聊其工藝流程。今天我們來聊聊如何從原材料到拋光晶片的那些事兒。
2023-04-14 14:37:502034 
拋光工作在電鍍、涂裝、陽極氧化等表面處理過程中發(fā)揮重要作用。早期的拋光工作由工人手動操作，通過經驗和觀察進行打磨拋光。此種作業(yè)方式既損害環(huán)境和身體健康，也具備較大的安全風險和人力成本，逐漸被自動拋光
2023-04-14 10:21:59337 
很早以前看過這樣一個報道：德國、日本等國家的科學家耗時5年時間，花了近千萬元打造了一個高純度的硅-28材料制成的圓球，這個1kg純硅球要求超精密加工研磨拋光、精密測量（球面度、粗糙度和質量），可謂
2023-04-13 14:24:341683 全硅等離子體色散效應環(huán)形諧振器調制器具有誘人的發(fā)展前景。然而，其性能目前受限于調制深度和開關速度之間的權衡。
2023-04-12 09:12:121594 大家目前對于等離子光譜儀的普遍使用早已見怪不怪了，這種相對來說較為細致的設備是一定要盡早的實施維修保養(yǎng)的，否則很容易就沒辦法運用或者機械設備產生情況，下面大家一起來看看等離子光譜儀需要進行哪種
2023-04-07 07:37:42124 
本教程向您展示了有關如何將環(huán)氧樹脂端接和拋光 sc 連接器連接到3毫米護套光纖的詳細分步指南。徹底了解拋光光纖連接器的原因和方法，將有助于確保一致、高質量的端接。
2023-04-03 10:52:02186 ?
導讀：?屏(也叫面板)，是等離子電視最重要的部件，占整機成本的六、七成。屏的好壞，直接決定著平板電視的優(yōu)劣。目前世界上只有韓國LG、三星和日本的松下等少數廠商具備等離子屏的生產能力，其中LG的A3生產線被公認為最先進的等離子生產線。很大程度上，等離子電視的選擇就是等離子屏的選擇。
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2023-03-30 15:56:10452 2RM3600A6L2 氣體放電管- GDT /氣體等離子體避雷器3600Discharge 2-Electrode Arrester 5.5*6 直流擊穿電壓3600V氣體
2023-03-27 17:04:09
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