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標(biāo)簽 > 拋光
拋光是指利用機(jī)械、化學(xué)或電化學(xué)的作用,使工件表面粗糙度降低,以獲得光亮、平整表面的加工方法。是利用拋光工具和磨料顆?;蚱渌麙伖饨橘|(zhì)對(duì)工件表面進(jìn)行的修飾加工。
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今天的光電子信息產(chǎn)業(yè)水平,對(duì)作為光電子基片材料的藍(lán)寶石、單晶硅等材料的平行度要求越來越精密,已經(jīng)達(dá)到了納米級(jí)。這就意味著,拋光工藝也已隨之進(jìn)入納米級(jí)的超...
由于陶瓷基片硬度高、脆性大、易產(chǎn)生裂紋,表面加工難度大,且加工后很難保證表面和亞表面的質(zhì)量與完整性。陶瓷的表面加工不僅要求有高的尺寸精度和形狀精度,表面...
激光器都是在外延的基礎(chǔ)上做出芯片的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì),外延厚度2寸的在350um,4寸的在460um左右,到芯片后期,都需要對(duì)晶圓進(jìn)行減薄,厚度有做到80um的,...
關(guān)于晶體硅太陽能電池單面濕法化學(xué)拋光的方法
引言 高效太陽能電池需要對(duì)硅片的正面和背面進(jìn)行單獨(dú)處理。在現(xiàn)有技術(shù)中,電池的兩面都被紋理化,導(dǎo)致表面相當(dāng)粗糙,這對(duì)背面是不利的。因此,在紋理化后直接引入...
關(guān)于薄膜金剛石的化學(xué)機(jī)械拋光的研究報(bào)告
摘要 納米晶金剛石(NCD)可以保留單晶金剛石的優(yōu)越楊晶模量(1100GPa),以及在低溫下生長的能力(450C),這推動(dòng)了NCD薄膜生長和應(yīng)用的復(fù)興。...
我們經(jīng)常把研磨和拋光放在一起講,因?yàn)榱慵?jīng)過這兩個(gè)工序的粗糙度已經(jīng)十分小了。首先咱們了解一下它們的區(qū)別。
引言 原子平面的制備是半導(dǎo)體基板上原子尺度操作的必要前提。由于自組裝現(xiàn)象或使用原子探針技術(shù)操縱單個(gè)原子,只有原子平面的表面才能產(chǎn)生可重復(fù)制造納米級(jí)原子結(jié)...
藍(lán)寶石在化學(xué)機(jī)械拋光過程中的材料去除機(jī)理
在化學(xué)腐蝕點(diǎn)處的濃度越高,腐蝕速率越快。在拋光過程中拋光液持續(xù)流動(dòng),我們假設(shè)在腐蝕點(diǎn)處的濃度可以保持初始時(shí)的濃度,腐蝕率以最快的速度發(fā)生,則拋光液不同的...
基于PLC技術(shù)的機(jī)器人自由曲面拋光控制立即下載
類別:機(jī)械制造論文 2011-06-30 標(biāo)簽:機(jī)器人PLC自由曲面 1045 0
類別:機(jī)電一體化技術(shù)論文 2018-02-04 標(biāo)簽:拋光 1042 0
電解拋光電解拋光基本原理與化學(xué)拋光相同,即靠選擇性的溶解材料表面微小凸出部分,使表面光滑。與化學(xué)拋光相比,可以消除陰極反應(yīng)的影響,效果較好。電化學(xué)拋光過...
一、范圍 1、滲碳和碳氮共滲有效化層深度大于0.3mm的零件 2、經(jīng)熱處理至最終硬度值后,離表面二倍有效硬化層處硬度小于450hv的零件 不能滿足上述條...
金相試樣制備是顯微組織鑒別的前奏,是通過取樣、磨光、拋光、侵蝕等步驟,使材料成為具有金相觀察要求的過程。制備的試樣必須具有清晰的視場和真實(shí)的組織形貌,為...
做金相分析制樣是關(guān)鍵!尤其對(duì)于不規(guī)則形狀、細(xì)小的、不能直接用夾具夾持進(jìn)行研磨拋光的樣品,經(jīng)過鑲嵌后成為標(biāo)準(zhǔn)形狀和尺寸的試樣,使手動(dòng)拋光和自動(dòng)拋光都變得容...
2020-06-29 標(biāo)簽:自動(dòng)化控制拋光 5683 0
目前常用的不銹鋼拋光方法有以下幾種:1機(jī)械拋光機(jī)械拋光是靠切削、材料表面塑性變形去掉被拋光后的凸部而得到平滑面的拋光方法,一般使用油石條、羊毛輪、砂紙等...
2022-05-13 標(biāo)簽:拋光 4259 0
超精密兩面拋光加工是化學(xué)機(jī)械拋光的應(yīng)用(CMP)技術(shù)性,借助產(chǎn)品工件、碾磨顆粒物、拋光劑和拋光輪的機(jī)械作用,在工件打磨拋光環(huán)節(jié)中,發(fā)生部分持續(xù)高溫和髙壓...
2022-11-01 標(biāo)簽:拋光 3443 0
進(jìn)口金相砂紙比較貴,使用過程中,如果沒有物盡其用則太浪費(fèi),如果使用太過又會(huì)影響金相樣品的研磨效果,反而會(huì)延長制備時(shí)間,也可能造成后續(xù)拋光的難度,從而影響...
拋光工藝---五金壓鑄件拋光工藝打磨部分有三個(gè)工序:粗磨、半精磨、精磨
1.粗磨:要達(dá)到的目標(biāo)是去掉壓鑄件表面及邊緣的毛刺,以及在上步工序出現(xiàn)的碰傷,達(dá)到邊緣圓角初步成型,水平面和垂直面基本無大劃痕,無碰傷。;2.半精磨:對(duì)...
2022-06-13 標(biāo)簽:拋光 2613 0
實(shí)驗(yàn)、光學(xué)零件的拋光工藝 一。實(shí)驗(yàn)?zāi)康?1.掌握拋光的基本原理.2.了解鏡片拋光過程。3.了解拋光加工的整個(gè)操作過程
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