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標(biāo)簽 > 晶圓蝕刻
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美國伊利諾大學(xué)(University of Illinois)實驗室開發(fā)出一種以金屬為蝕刻催化劑的砷化鎵晶圓蝕刻法
2012-01-07 標(biāo)簽:PCB設(shè)計砷化鎵美實驗室 1520 0
用紫外線/臭氧源對硅表面進(jìn)行簡單的清潔和調(diào)節(jié)
由于成本優(yōu)化工藝是光伏行業(yè)的主要目標(biāo),簡單的、具有內(nèi)聯(lián)能力的清潔可以替代成本和時間密集型的濕化學(xué)清潔方法,如來自微電子應(yīng)用的RCA清潔。
電力輸送、材料和互連領(lǐng)域即將發(fā)生巨大變化
在設(shè)備互連方面,銅無可匹敵。其低電阻率和高可靠性為業(yè)界提供了出色的片上互連和芯片間連線服務(wù)。但在邏輯芯片中,隨著互連堆棧上升到14級范圍,并且阻容(RC...
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