球幕投影，是一種新興的展示技術(shù)，它打破了以往投影圖像只能是平面規(guī)則圖形的局限。##產(chǎn)品解析。
2014-07-16 16:53:13
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保持良好的勢(shì)頭。以下為您帶來(lái)200G光模塊最全解析?！ ∠?b class="flag-6" style="color: red">一代數(shù)據(jù)中心的主流：200G/400G 數(shù)據(jù)中心光互連市場(chǎng)的主要轉(zhuǎn)變是從10G到40G以及更高的40G到100G，另一個(gè)可預(yù)見的趨勢(shì)是逐步
2019-12-04 16:36:53
物體光反射特性來(lái)改變圖形。 由于可編程圖形結(jié)構(gòu)光需要顯示多個(gè)圖形，空間光調(diào)制器就成為此類掃描儀的一個(gè)關(guān)鍵組件。目前市面上有多項(xiàng)空間光調(diào)制技術(shù)，其中包括德州儀器（TI）DLP?技術(shù)，特別是DLP6500
2018-08-30 14:51:20
上周臺(tái)電曝光了其最新推出的一款雙核平板“臺(tái)電A10雙核”，不過(guò)上次只放出了一張背面局部的照片，今天官方終于曝光了這款雙核產(chǎn)品的真機(jī)照。從曝光的照片來(lái)看，臺(tái)電A10雙核看上去還還是比較輕薄的，官方宣稱
2012-07-05 09:49:42
好的傳感器的設(shè)計(jì)是經(jīng)驗(yàn)加技術(shù)的結(jié)晶。一般理解傳感器是將一種物理量經(jīng)過(guò)電路轉(zhuǎn)換成一種能以另外一種直觀的可表達(dá)的物理量的描述。而下文我們將對(duì)傳感器的概念、原理特性進(jìn)行逐一介紹，進(jìn)而解析傳感器的設(shè)計(jì)的要點(diǎn)。
2020-08-28 08:04:04
板→浸%稀H2SO4→加厚銅 圖形轉(zhuǎn)移 目的：圖形轉(zhuǎn)移是生產(chǎn)菲林上的圖像轉(zhuǎn)移到板上?！ ×鞒蹋海ㄋ{(lán)油流程）：磨板→印第一面→烘干→印第二面→烘干→爆光→沖影→檢查；（干膜流程）：麻板→壓膜→靜置
2018-11-28 11:32:58
` 本帖最后由 ketianjian 于 2016-2-15 14:06 編輯
來(lái)自麻省理工學(xué)院和新加坡科技大學(xué)的團(tuán)隊(duì)近期研發(fā)出了一種新技術(shù)，該技術(shù)基于圖像計(jì)算，可以使高速相機(jī)傳感器在光照較強(qiáng)
2016-02-15 14:03:02
的推動(dòng)作用。近年來(lái)也出現(xiàn)了很多新技術(shù)和結(jié)構(gòu),促進(jìn)其實(shí)用化。自由組織光波網(wǎng)絡(luò)技術(shù)該技術(shù)應(yīng)用于波導(dǎo)、光開關(guān)、反射器、等光學(xué)器件的互連。先將要互連的光學(xué)器件放在一個(gè)光反射材料如全息光聚合物、光反射晶體上,這些
2016-01-29 09:19:33
，從gate size放大而來(lái)。完整的光掩膜圖形中，除了對(duì)應(yīng)電路的圖形外，還包括一些輔助圖形或測(cè)試圖形，常見的有：游標(biāo)，光刻對(duì)準(zhǔn)圖形，曝光量控制圖形，測(cè)試鍵圖形，光學(xué)對(duì)準(zhǔn)目標(biāo)圖形，劃片槽圖形，和其他
2012-01-12 10:36:16
圖形反轉(zhuǎn)工藝用于金屬層剝離的研究研究了ＡＺ?５２１４ 膠的正、負(fù)轉(zhuǎn)型和形成適用于剝離技術(shù)的倒臺(tái)面圖形的工藝技術(shù)。用掃描電鏡和臺(tái)階儀測(cè)試制作出的光刻膠斷面呈倒臺(tái)面，傾角約為６０°，膠厚１?４μｍ。得到
2009-10-06 10:05:30
多。曝光燈可以使用紫外光管或者普通的LED發(fā)光板，只是感光版對(duì)于不同的曝光燈所要求的曝光時(shí)間和強(qiáng)度會(huì)所不一樣。如果你也想自己采用感光板的方式做PCB板的話，那么DIY一臺(tái)好用的曝光燈或許能夠幫上你
2018-08-11 12:17:40
今天在線材測(cè)試機(jī)CT-8681上拆了一個(gè)320*240解析度圖形液晶，可是不知道硬件怎樣連接，我想把這個(gè)液晶與單片機(jī)連接來(lái)用。在網(wǎng)上也找不到相關(guān)的資料，請(qǐng)大家?guī)蛶兔ΑＶx了。液晶板上有寫RG322421 下一行UNHCWB下一行PU03120002
2012-07-10 22:51:02
曝光，且這一過(guò)程耗時(shí)時(shí)間短，操作簡(jiǎn)單，對(duì)操作人員要求不高，可以實(shí)現(xiàn)一鍵安裝菲林。CCD半自動(dòng)曝光機(jī)系統(tǒng)特點(diǎn)：1.單/雙面曝光。2.伺服控制雙框進(jìn)出。3.八根軸控制四相機(jī)。4.自動(dòng)對(duì)位，精度高，操作簡(jiǎn)單
2020-07-06 10:58:52
, 以及二次成型 共三種. 關(guān)于一次成型，即 PHOTOIMAGIING 影像轉(zhuǎn)移法, 過(guò)程采電鍍級(jí)樹脂射出成型，如PES、LCP 液晶樹脂、環(huán)氧樹脂、SPS 等，經(jīng)粗化、觸媒涂怖、化學(xué)銅、電著光阻
2018-11-23 16:47:52
強(qiáng)度的設(shè)置 在光繪過(guò)程中，如果光源強(qiáng)度過(guò)高，則繪制的圖形會(huì)出現(xiàn)光暈；如果光源的強(qiáng)度過(guò)低，則繪制的圖形會(huì)曝光不足，因此無(wú)論是矢量光繪機(jī)還是激光光繪機(jī)都存在一個(gè)光強(qiáng)調(diào)節(jié)問(wèn)題。在高檔的光繪機(jī)中設(shè)置有一個(gè)
2018-08-31 14:13:27
PCB制造工序中，無(wú)論是單、雙面板及多層板、最基本、最關(guān)鍵的工序之一是圖形轉(zhuǎn)移，即將照相底版(Art-work)圖形轉(zhuǎn)移到敷銅箔基材上。圖形轉(zhuǎn)移是生產(chǎn)中的關(guān)鍵控制點(diǎn)，也都是技術(shù)難點(diǎn)所在。其工藝方法有
2019-06-12 10:40:14
等?！?】干膜（壓干膜/貼膜/貼干膜）通過(guò)壓膜機(jī)，在銅面上，貼附感光材料（干膜）。【3】曝光利用感光照相原理，使感光材料（干膜）受到紫外光照射（即曝光）后，發(fā)生聚合反應(yīng)，完成圖形轉(zhuǎn)移。注：曝光又為圖形
2023-02-17 11:46:54
，圖形轉(zhuǎn)移的首件確認(rèn)工作，絕大多數(shù)情況下，并不在圖形轉(zhuǎn)移確認(rèn)，而是在AOI，而AOI，其實(shí)也是圖形轉(zhuǎn)移的檢驗(yàn)子流程之一。只不過(guò)，因?yàn)榇俗恿鞒谭浅Ｖ匾?，為了更好地確保所生產(chǎn)出線路圖形的品質(zhì)，與便于生產(chǎn)管理
2023-02-27 10:48:09
面→烘干→印第二面→烘干→爆光→沖影→檢查；（干膜流程）：麻板→壓膜→靜置→對(duì)位→曝光→靜置→沖影→檢查六、圖形電鍍目的：圖形電鍍是在線路圖形裸露的銅皮上或孔壁上電鍍一層達(dá)到要求厚度的銅層與要求厚度的金
2018-09-12 16:23:22
圖形的一面用黑色布與曝光燈射出的紫外光隔開，如果不用黑布，紫外光透過(guò)沒有圖形的一面透射到焊盤里使焊盤孔里的阻焊料經(jīng)過(guò)曝光后，顯影不掉。在曝兩面圖形不一致的印制板時(shí)，先網(wǎng)印一面阻焊，然后進(jìn)行單面曝光
2014-12-25 11:10:05
的制作是PCB制作的根本。所以圖形轉(zhuǎn)移過(guò)程對(duì)PCB制作來(lái)說(shuō)，有非常重要的意義。內(nèi)層干膜包括內(nèi)層貼膜、曝光顯影、內(nèi)層蝕刻等多道工序。內(nèi)層貼膜就是在銅板表面貼上一層特殊的感光膜，就是我們所說(shuō)的干膜。這種膜遇
2019-03-12 06:30:00
18612980073座機(jī)：010-82435898Email: sale@huanor.net QIKE 系列USB3.0工業(yè)相機(jī)模塊介紹： QIKE系列USB3.0工業(yè)相機(jī)模塊，是一款能長(zhǎng)期穩(wěn)定工作
2019-01-24 13:49:05
lithography是一種平板印刷技術(shù)，在平面光波回路的制作中一直發(fā)揮著重要的作用。具體過(guò)程如下：首先在二氧化硅為主要成分的芯層材料上面，淀積一層光刻膠；使用掩模版對(duì)光刻膠曝光固化，并在
2018-08-24 16:39:21
了感光抗蝕材料的PCB基材（覆銅箔層）緊密貼附是精密
曝光機(jī)最重要的
技術(shù)要求之
一，它的目的是為了獲得高質(zhì)量的抗蝕
圖形。但是，仔細(xì)分析這種
曝光工藝，仍然可以發(fā)現(xiàn)它存在著不可抗拒的產(chǎn)生質(zhì)量缺陷的因素，因?yàn)樵?/div>
2008-06-17 10:07:17
中文資料 6頁(yè)7 線性光耦原理與電路設(shè)計(jì) 5頁(yè)8 變頻器電路中的光耦器件 9頁(yè)9 光耦使用技巧 6頁(yè)10 光耦繼電器 8頁(yè)【【【如果下載不了，請(qǐng)看最后一貼】】】★★★下載網(wǎng)盤帳號(hào)：：*** 密碼
2012-07-30 17:35:17
對(duì)比 4頁(yè)4 線性光耦在電流采樣中的應(yīng)用 5頁(yè)5 變頻器電路中的光耦器件_BB變頻器電路原理圖 4頁(yè)6 線性光耦hcnr200中文資料 6頁(yè)7 線性光耦原理與電路設(shè)計(jì) 5頁(yè)8 變頻器電路中的光耦器件 9
2012-09-27 08:21:16
對(duì)應(yīng)的生成的代碼。如圖：6. 光控?zé)?b class="flag-6" style="color: red">圖形編程操作完成，下一步在確保對(duì)應(yīng)設(shè)備在線的情況下，點(diǎn)擊燒錄按鈕，即可將該程序燒錄至設(shè)備。7. 圖形編程在設(shè)備正常運(yùn)行，對(duì)應(yīng)控件顯示如下：8. 圖形代碼各模塊注釋
2016-05-21 16:28:07
同行。本文就LDI曝光與傳統(tǒng)CCD曝光技術(shù)的差異進(jìn)行分析。一.光成像制程定義：利用UV光或激光將客戶需要之影像轉(zhuǎn)到基板干膜上，使干膜發(fā)生聚合交聯(lián)反應(yīng),使其圖形轉(zhuǎn)移到板面上，搭配后段處理工序，以完成客戶
2020-05-18 14:35:29
的制作是PCB制作的根本。所以圖形轉(zhuǎn)移過(guò)程對(duì)PCB制作來(lái)說(shuō)，有非常重要的意義。內(nèi)層干膜包括內(nèi)層貼膜、曝光顯影、內(nèi)層蝕刻等多道工序。內(nèi)層貼膜就是在銅板表面貼上一層特殊的感光膜，就是我們所說(shuō)的干膜。這種膜遇
2018-09-20 17:27:19
的衛(wèi)星信息； 2.使用迪文屏T5L內(nèi)部的單片機(jī)做主控，合定位模塊通訊，并控制屏幕動(dòng)態(tài)顯示；下面詳細(xì)說(shuō)明一下開發(fā)的過(guò)程及要點(diǎn)。一、合宙Air551G定位模塊的通訊及數(shù)據(jù)解析： Air551G支持多種衛(wèi)星
2022-02-18 17:49:48
數(shù)量級(jí)范圍。光刻技術(shù)成為一種精密的微細(xì)加工技術(shù)?！ 〕Ｒ?guī)光刻技術(shù)是采用波長(zhǎng)為2000～4500埃的紫外光作為圖像信息載體，以光致抗蝕劑為中間（圖像記錄）媒介實(shí)現(xiàn)圖形的變換、轉(zhuǎn)移和處理，最終把圖像信息
2012-01-12 10:51:59
真的在“刻”啦，這步驟叫“微影制程”，是將光罩上具有各種電子特性的區(qū)域圖即電路圖形，微縮并曝光成像在晶圓上，為流程中的后續(xù)步驟在晶圓上打好藍(lán)圖。 聰明如你，此時(shí)一定會(huì)說(shuō)：這不就是拍照咯？ 是的
2020-09-02 17:38:07
]。光刻膠涂覆在半導(dǎo)體、導(dǎo)體和絕緣體上，經(jīng)曝光顯影后留下的部分對(duì)底層起保護(hù)作用，然后采用超凈高純?cè)噭┻M(jìn)行蝕刻，從而完成了將掩膜版圖形轉(zhuǎn)移到底層上的圖形轉(zhuǎn)移過(guò)程。一個(gè)IC的制造一般需要經(jīng)過(guò)10多次圖形轉(zhuǎn)移
2018-08-23 11:56:31
光刻膠也稱為光致抗蝕劑，是一種光敏材料，它受到光照后特性會(huì)發(fā)生改變。光刻膠主要用來(lái)將光刻掩膜版上的圖形轉(zhuǎn)移到晶圓片上。光刻膠有正膠和負(fù)膠之分。正膠經(jīng)過(guò)曝光后，受到光照的部分變得容易溶解，經(jīng)過(guò)顯影后被
2019-11-07 09:00:18
有利的。它將與激光直接成像(LDI)一樣，可以縮短PCB生產(chǎn)周期，提高產(chǎn)品質(zhì)量，是PCB工業(yè)技術(shù)的重要改革與進(jìn)步?！ 〔捎脭?shù)字噴墨打印的圖形轉(zhuǎn)移技術(shù)，其加工工序最少(不足傳統(tǒng)技術(shù)的40%)，所用設(shè)備
2018-08-30 16:18:02
`有時(shí)自己做一些PCB，閑來(lái)無(wú)事，利用紫外光LED和一個(gè)網(wǎng)購(gòu)定時(shí)模塊制作了一個(gè)曝光箱，還沒進(jìn)行PCB實(shí)操，放一個(gè)變色鏡在上面，十幾秒就變色，上圖`
2018-01-30 14:47:54
內(nèi)的程序，這就是所謂單片機(jī)加密或者說(shuō)鎖定功能。事實(shí)上，這樣的保護(hù)措施很脆弱，很容易被破解。單片機(jī)攻擊者借助專用設(shè)備或者自制設(shè)備，利用單片機(jī)芯片設(shè)計(jì)上的漏洞或軟件缺陷，通過(guò)多種技術(shù)手段，就可以從芯片中提取關(guān)鍵信息，獲取單片機(jī)內(nèi)程序?！ 纹?b class="flag-6" style="color: red">機(jī)攻擊技術(shù)解析 目前，攻擊單片機(jī)主要有四種技術(shù)，分別是：
2021-12-13 07:28:51
條件轉(zhuǎn)移指令是指在滿足一定條件時(shí)進(jìn)行相對(duì)轉(zhuǎn)移。判A內(nèi)容是否為0轉(zhuǎn)移指令JZ relJNZ rel第一指令的功能是：如果(A)=0，則轉(zhuǎn)移，不然次序執(zhí)行（執(zhí)行本指令的下一條指令）。轉(zhuǎn)移到什么地方去呢
2018-06-15 10:49:31
側(cè)射越嚴(yán)重，分辨率越低。 技術(shù)要求規(guī)定，能分辨的最小平行線條寬度，一級(jí)指標(biāo)＜0．1mm，二級(jí)指標(biāo)≤0.15mm。 ◎ 耐蝕刻性和耐電鍍性 技術(shù)要求規(guī)定，光聚合后的干膜抗蝕層，應(yīng)能耐三氯化鐵蝕刻液
2010-03-09 16:12:32
→曝光→顯影（貼干膜→曝光→顯影）→形成負(fù)相圖象→圖形鍍銅→圖形電鍍金屬抗蝕層→去膜→蝕刻→進(jìn)入下工序 圖像轉(zhuǎn)移有兩種方法，一種是網(wǎng)印圖像轉(zhuǎn)移
2010-03-09 16:22:39
:JYJS.0.2010-06-003【正文快照】：隨著經(jīng)濟(jì)全球化進(jìn)程的不斷深入,科技發(fā)展對(duì)提升國(guó)家綜合國(guó)力和國(guó)際地位具有十分重要的影響。許多國(guó)家都把科技創(chuàng)新作為國(guó)家發(fā)展戰(zhàn)略,競(jìng)相搶占國(guó)際競(jìng)爭(zhēng)的制高點(diǎn)。隨著我國(guó)建設(shè)創(chuàng)新型國(guó)家戰(zhàn)略的確立,國(guó)家創(chuàng)新體系中的重要組成部分之一——技術(shù)轉(zhuǎn)移已經(jīng)日益滲透于我國(guó)國(guó)民經(jīng)濟(jì)的各全文下載
2010-04-24 09:42:50
針對(duì)目前大型平行光管成像質(zhì)量監(jiān)測(cè)的現(xiàn)狀,本文提出了一種對(duì)平行光管進(jìn)行實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)的新方法,驗(yàn)證了這種監(jiān)測(cè)方法的可行性。該方法根據(jù)光管自準(zhǔn)檢測(cè)原理,采用小平面鏡對(duì)光管像質(zhì)進(jìn)行實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè),計(jì)算了在一個(gè)焦深
2010-05-13 09:04:36
`max中的camera attributes中并沒有關(guān)于曝光時(shí)間exposuretime的參數(shù)設(shè)置，不知道還可以怎么來(lái)調(diào)整曝光，現(xiàn)在用snap捕捉一幀圖像的時(shí)候還可以，是這樣的，但是用grab來(lái)連續(xù)捕捉的時(shí)候圖像就變?yōu)榱诉@樣，我懷疑是攝像頭根據(jù)視場(chǎng)的亮度自動(dòng)調(diào)整了曝光，不知有沒有辦法解決。`
2014-09-27 12:11:47
的制作是PCB制作的根本。所以圖形轉(zhuǎn)移過(guò)程對(duì)PCB制作來(lái)說(shuō)，有非常重要的意義。內(nèi)層干膜包括內(nèi)層貼膜、曝光顯影、內(nèi)層蝕刻等多道工序。內(nèi)層貼膜就是在銅板表面貼上一層特殊的感光膜，就是我們所說(shuō)的干膜。這種膜遇
2018-09-20 17:29:41
微米級(jí)的直接成像數(shù)字曝光開發(fā)人員提供了一個(gè)強(qiáng)大工具，從而能夠在批量生產(chǎn)情況下實(shí)現(xiàn)快速曝光，以及更低的運(yùn)營(yíng)成本。 通過(guò)使用可編程光控制的DLP技術(shù)，開發(fā)人員可以將圖形直接曝光在光阻膠片上，而無(wú)需接觸掩膜
2018-08-29 15:19:25
等?！?】干膜（壓干膜/貼膜/貼干膜）通過(guò)壓膜機(jī)，在銅面上，貼附感光材料（干膜）?！?】曝光利用感光照相原理，使感光材料（干膜）受到紫外光照射（即曝光）后，發(fā)生聚合反應(yīng)，完成圖形轉(zhuǎn)移。注：曝光又為圖形
2023-02-17 11:54:22
氮化鎵功率半導(dǎo)體技術(shù)解析基于GaN的高級(jí)模塊
2021-03-09 06:33:26
曝光，且這一過(guò)程耗時(shí)時(shí)間短，操作簡(jiǎn)單，對(duì)操作人員要求不高，可以實(shí)現(xiàn)一鍵安裝菲林。那么深圳CCD半自動(dòng)曝光機(jī)系統(tǒng)有哪些特點(diǎn)及參數(shù)？相信不少人是有疑問(wèn)的，今天深圳四元數(shù)就跟大家解答一下！四元數(shù)CCD半自動(dòng)
2021-09-28 14:44:04
需要數(shù)據(jù)背后的根因。但業(yè)界的圖形棧測(cè)試，絕大部分都只提供應(yīng)用層面的數(shù)據(jù)，有一部分可以深入系統(tǒng)層分析，但仍無(wú)法觸及硬件這一層的測(cè)試分析?！ armonyOS圖形棧測(cè)試技術(shù)，不僅可以深入系統(tǒng)層分析，幫助
2022-04-08 11:14:00
用labview怎么模擬產(chǎn)生一束平行光
2015-04-30 11:26:39
自18世紀(jì)在德國(guó)被發(fā)明以來(lái)，被稱為“數(shù)字曝光”的打印方法經(jīng)歷了一段很長(zhǎng)的發(fā)展歷程。今天，數(shù)字曝光可以在多種表面上打印文字和圖片，包括書本和T恤。 這項(xiàng)打印技術(shù)的變化也不斷地激發(fā)出新的創(chuàng)新。被稱為
2022-11-16 07:18:34
早期的簡(jiǎn)單平行式結(jié)構(gòu)貼片機(jī)也可以看做是一條貼片生產(chǎn)流水線。當(dāng)線路板運(yùn)行到流水線的某一個(gè)工位時(shí)停下，在這個(gè)工位上會(huì)有一些固定的裝有真空吸嘴的機(jī)械臂將元件從送料器中同時(shí)吸取，再同時(shí)貼裝到線路板上固定
2018-09-06 16:32:30
一 前言 最早PCB生產(chǎn)過(guò)程的圖形轉(zhuǎn)移材料采用濕膜，隨著濕膜的不斷使用和PCB的技術(shù)要求提高，濕膜的缺點(diǎn)也顯露出來(lái)了，主要聚中在生產(chǎn)周期長(zhǎng)、涂膜厚度不均、涂膜后板面針眼和雜物太多、孔中顯影困難
2018-08-29 10:20:48
自制pcb曝光機(jī)原理圖和程序，求大神們哦
2013-10-28 10:44:53
給面子，于是估摸著想買個(gè)曝光機(jī)，到淘寶淘了一下看價(jià)格動(dòng)則三五百，實(shí)在是....~，還是自己動(dòng)手DIY吧，反正他描述得再神奇我也只是用到燈泡功能，看來(lái)又要充分發(fā)揮我的粗工濫造精神了——迷你便攜式曝光機(jī)，寫下
2013-08-18 17:49:40
設(shè)計(jì)的位置有所差別，將影響到total pitch(圖案實(shí)際長(zhǎng)度與設(shè)計(jì)長(zhǎng)度的誤差容忍值)的誤差。而一般接近式曝光技術(shù)解析度與光罩及基板的間隙和光的波長(zhǎng)有關(guān)。隨著基片的增大，光罩也隨之增大，由于光罩本身
2019-08-16 11:11:34
，光刻和刻蝕是其中最為核心的兩個(gè)步驟?！ 《w管就是通過(guò)光刻和蝕刻雕刻出來(lái)的，光刻就是把芯片制作所需要的線路與功能區(qū)做出來(lái)。利用光刻機(jī)發(fā)出的光通過(guò)具有圖形的光罩對(duì)涂有光刻膠的薄片曝光，光刻膠見光后會(huì)
2020-07-07 11:36:10
萌新求助，求大神詳細(xì)解析單個(gè)光耦的硬件電路的知識(shí)點(diǎn)
2021-10-14 08:14:54
視頻監(jiān)控系統(tǒng)圖像處理技術(shù)應(yīng)用解析隨著物聯(lián)網(wǎng)和移動(dòng)互聯(lián)網(wǎng)技術(shù)的迅速發(fā)展，傳統(tǒng)的IT架構(gòu)逐漸云端化，計(jì)算資源和承載業(yè)務(wù)將進(jìn)一步深度整合，在物聯(lián)網(wǎng)和云計(jì)算匯聚的潮流中，視頻監(jiān)控技術(shù)將發(fā)生徹底的變革：視頻
2013-09-23 15:00:02
單平行式貼片機(jī)的優(yōu)點(diǎn)是什么？
2021-04-25 07:21:06
路燈用聲音、光測(cè)量電路仿真.ms10文件。求一個(gè)??！急
2013-12-27 20:35:19
程序包含了去膠渣、化學(xué)銅和電鍍銅三個(gè)程序。3、干膜壓合：制作感光性蝕刻的阻抗層。4、內(nèi)層線路影像轉(zhuǎn)移 ：利用曝光將底片的影像轉(zhuǎn)移至板面。5、 外層線路曝光：經(jīng)過(guò)感光膜的貼附后，電路板曾經(jīng)過(guò)類似內(nèi)層板
2020-10-27 08:52:37
紫外線曝光機(jī)是PCB 圖形轉(zhuǎn)移中的重要設(shè)備。傳統(tǒng)的邁拉曬架雖然簡(jiǎn)便，但存在著需要趕氣、效率低、不能實(shí)現(xiàn)精確對(duì)位的缺點(diǎn)。而雙玻璃曬架與傳統(tǒng)的邁拉曬架相比不僅具有不需
2009-07-15 10:58:55
28 GK-1000光刻掩膜版測(cè)溫儀，光刻機(jī)曝光光學(xué)系統(tǒng)測(cè)溫儀光刻機(jī)是一種用于微納米加工的設(shè)備，主要用于制造集成電路、光電子器件、MEMS（微機(jī)電系統(tǒng)）等微細(xì)結(jié)構(gòu)。光刻機(jī)是一種光學(xué)投影技術(shù)，通過(guò)將光線通過(guò)
2023-07-07 11:46:07
在材料科學(xué)領(lǐng)域，鐳射轉(zhuǎn)移復(fù)合紙剝離試驗(yàn)機(jī)作為一種先進(jìn)的測(cè)試設(shè)備，發(fā)揮著越來(lái)越重要的作用。這種試驗(yàn)機(jī)主要用于研究各種材料的剝離性能，特別是在紙張、塑料、金屬等材料的復(fù)合剝離方面，具有廣泛的應(yīng)用價(jià)值。一
2023-10-30 16:29:48
精密圖形轉(zhuǎn)移技術(shù)控制要點(diǎn)一·高密度FPC柔性電路圖形轉(zhuǎn)移
2006-04-16 21:18:14891 摘要本文通過(guò)筆者多年對(duì)圖形轉(zhuǎn)移工藝控制及管理經(jīng)驗(yàn)，得出一些心得體
2006-04-16 21:20:35710 在圖形轉(zhuǎn)移工藝時(shí)檢測(cè)板上余膠的方法
在圖形轉(zhuǎn)移工藝時(shí)如何檢測(cè)板上的余膠？方法有二： 方法一、將板放入1%甲基紫酒精水溶液或1-2%
2010-03-11 15:22:02805 描述觸發(fā)器的邏輯功能還可以采用圖形方式，即狀態(tài)轉(zhuǎn)移圖來(lái)描述。圖13-4為基本觸發(fā)器的狀態(tài)轉(zhuǎn)移圖。圖中兩
2010-08-13 09:31:4120875 
一、高密度多層板圖形轉(zhuǎn)移工藝控制技術(shù)
2010-10-22 17:29:39754 基于高通Adreno圖形處理器全解析
2017-10-30 16:15:1811 本文介紹了proe技術(shù)的平行混合特征范例。 本例使用平行混合特征建立如圖6-1所示的零件模型。該例中練習(xí)使用截面邊數(shù)不同時(shí)建立平行混合特征的技巧。
2017-11-17 14:15:560 基板的表面處理—— 》涂布（絲?。奉A(yù)烘——》曝光——》顯影——》干燥——》檢查——》蝕刻——》褪膜——》檢查 （備注：內(nèi)層板）
基板的表面處理—— 》涂布（絲?。奉A(yù)烘——》曝光——》顯影——》干燥——》檢查——》電鍍——》褪膜——》蝕刻——》檢查 （備注：外層板）
2019-07-05 14:47:322090 
圖形轉(zhuǎn)移是制造高密度多層板的關(guān)鍵控制點(diǎn)，也是技術(shù)難點(diǎn)，其質(zhì)量的優(yōu)劣直接影響多層板的合格率。所以，在制作過(guò)程中，必須要達(dá)到以下幾點(diǎn)：
2019-04-28 14:50:382752 在印制電路板的制作工藝中，圖形轉(zhuǎn)移是關(guān)鍵工序，以前常用干膜工藝來(lái)進(jìn)行印制電路圖形的轉(zhuǎn)移?，F(xiàn)在，濕膜主要用于多層印制電路板的內(nèi)層線路圖形的制作和雙面及多層板的外層線路圖形的制作。
2019-05-21 16:51:424929 在印制板的制作工藝中，圖形轉(zhuǎn)移是關(guān)鍵工序，以前常用干膜工藝來(lái)進(jìn)行印制電路圖形的轉(zhuǎn)移。
2019-11-15 11:20:221260 本文首先介紹了平行梁傳感器的原理，其次介紹了平行梁傳感器技術(shù)參數(shù)，最后介紹了平行梁傳感器安裝方法。
2019-12-23 14:06:462722 光刻是指利用光學(xué)復(fù)制的方法把圖形印制在光敏記錄材料上，然后通過(guò)刻蝕的方法將圖形轉(zhuǎn)移到晶圓片上來(lái)制作電子電路的技術(shù)。
2020-08-13 15:09:2217950 
HDC 2021華為開發(fā)者大會(huì)HarmonyOS測(cè)試技術(shù)與實(shí)戰(zhàn)-HarmonyOS圖形棧測(cè)試技術(shù)深度解析
2021-10-23 15:09:001252 
SADP 技術(shù)先利用浸沒式光刻機(jī)形成節(jié)距較大的線條，再利用側(cè)墻圖形轉(zhuǎn)移的方式形成 1/2 節(jié)距的線條，這種技術(shù)比較適合線條排列規(guī)則的圖形層，如 FinFET 工藝中的 Fin 或后段金屬線條。
2022-11-25 10:14:446269 銜接上文，繼續(xù)為朋友們分享普通單雙面板的生產(chǎn)工藝流程。 如圖，第五道主流程為圖形轉(zhuǎn)移。 圖形轉(zhuǎn)移的目的為： 利用光化學(xué)原理，將圖形線路的形狀轉(zhuǎn)移到印制板上，再利用化學(xué)原理，將圖形線路在印制板上制作
2023-02-16 21:00:071077 銜接上文，繼續(xù)為朋友們分享普通單雙面板的生產(chǎn)工藝流程。 如圖，第五道主流程為圖形轉(zhuǎn)移。 圖形轉(zhuǎn)移的目的為： 利用光化學(xué)原理，將圖形線路的形狀轉(zhuǎn)移到印制板上，再利用化學(xué)原理，將圖形線路在印制板上制作
2023-02-17 11:59:00455 
由于Micro LED的特征尺寸小于100μm，傳統(tǒng)轉(zhuǎn)移技術(shù)在轉(zhuǎn)移效率、轉(zhuǎn)移精度上很難達(dá)到要求。傳統(tǒng)轉(zhuǎn)移技術(shù)對(duì)單顆芯片的尺寸要求存在物理極限，芯片太小無(wú)法轉(zhuǎn)移，轉(zhuǎn)移精度也難以滿足。
2023-03-27 14:49:171178 銜接上文，繼續(xù)為朋友們分享普通單雙面板的生產(chǎn)工藝流程。 如圖，第五道主流程為圖形轉(zhuǎn)移。 圖形轉(zhuǎn)移的目的為： 利用光化學(xué)原理，將圖形線路的形狀轉(zhuǎn)移到印制板上，再利用化學(xué)原理，將圖形線路在印制板上制作
2023-04-06 09:20:03685 光刻機(jī)用UV光源，其通過(guò)特殊光學(xué)設(shè)計(jì)發(fā)射出接近平行光的UV平行光，使特定波段的紫外線通過(guò)掩膜掩孔對(duì)集成電路高精密線路完成蝕刻曝光顯影的工作。
2023-05-11 10:34:283160 
銜接上文，繼續(xù)為朋友們分享普通單雙面板的生產(chǎn)工藝流程。如圖，第五道主流程為圖形轉(zhuǎn)移。圖形轉(zhuǎn)移的目的為：利用光化學(xué)原理，將圖形線路的形狀轉(zhuǎn)移到印制板上，再利用化學(xué)原理，將圖形線路在印制板上制作
2023-02-17 13:52:20592 
工藝也有其獨(dú)到之處。其中最基本、最關(guān)鍵的工序之一是圖形轉(zhuǎn)移，即將照相底版圖形轉(zhuǎn)移到陶瓷基材上。圖形轉(zhuǎn)移是生產(chǎn)中的關(guān)鍵控制點(diǎn)，也是技術(shù)難點(diǎn)所在。其工藝方法有很多，如絲網(wǎng)印刷（Screen Printing
2023-09-12 11:31:51594 
窺探材料性能的利器：平行擠壓測(cè)試儀解析
2023-12-11 09:09:27244 
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