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電子發(fā)燒友網(wǎng)>PCB設(shè)計>布線技巧與EMC>蝕刻相關(guān)術(shù)語

蝕刻相關(guān)術(shù)語

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2022-06-29 17:21:423345

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2021-01-09 10:17:20

蝕刻鈦的藥水(鈦金屬蝕刻藥水)

本帖最后由 eehome 于 2013-1-5 09:58 編輯 各位大俠:有誰知道哪家有供應(yīng)蝕刻鈦的藥水,請告知或提供聯(lián)系方法。謝謝?。?!本人的QQ號碼是:414615292
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OpenGL常用的術(shù)語有哪些?

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`請問PCB蝕刻工藝質(zhì)量要求有哪些?`
2020-03-03 15:31:05

PCB制造方法的蝕刻

,通過光化學(xué)法,網(wǎng)印圖形轉(zhuǎn)移或電鍍圖形抗蝕層,然后蝕刻掉非圖形部分的銅箔或采用機(jī)械方式去除不需要部分而制成印制電路板PCB。而減成法中主要有雕刻法和蝕刻法兩種。雕刻法是用機(jī)械加工方法除去不需要的銅箔,在單
2018-09-21 16:45:08

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PCB印制電路中影響蝕刻液特性的因素有哪些

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2021-04-25 06:45:00

PCB外層電路的蝕刻工藝

給定值時,溶液便會自動進(jìn)行添加。   在與此相關(guān)的化學(xué)蝕刻(亦稱之為光化學(xué)蝕刻或PCH)領(lǐng)域中,研究工作已經(jīng)開始,并達(dá)到了蝕刻機(jī)結(jié)構(gòu)設(shè)計的階段。在這種方法中,所使用的溶液為二價銅,不是氨-銅蝕刻。它將
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PCB堿性蝕刻常見問題原因及解決方法

  1.問題:印制電路中蝕刻速率降低  原因:  由于工藝參數(shù)控制不當(dāng)引起的  解決方法:  按工藝要求進(jìn)行檢查及調(diào)整溫度、噴淋壓力、溶液比重、PH值和氯化銨的含量等工藝參數(shù)到工藝規(guī)定值?! ?.
2018-09-19 16:00:15

PCB線路板外層電路的蝕刻工藝詳解

計控制系統(tǒng)。當(dāng)自動測得的PH結(jié)果低于給定值時,溶液便會自動進(jìn)行添加?! ≡谂c此相關(guān)的化學(xué)蝕刻(亦稱之為光化學(xué)蝕刻或PCH)領(lǐng)域中,研究工作已經(jīng)開始,并達(dá)到了蝕刻機(jī)結(jié)構(gòu)設(shè)計的階段。在這種方法中,所
2018-09-13 15:46:18

《炬豐科技-半導(dǎo)體工藝》GaN的晶體濕化學(xué)蝕刻

`書籍:《炬豐科技-半導(dǎo)體工藝》文章:GaN的晶體濕化學(xué)蝕刻[/td][td]編號:JFSJ-21-0作者:炬豐科技網(wǎng)址:http://www.wetsemi.com/index.html 目前
2021-07-07 10:24:07

【AD問答】關(guān)于PCB的蝕刻工藝及過程控制

測得的PH結(jié)果低于給定值時,溶液便會自動進(jìn)行添加。在與此相關(guān)的化學(xué)蝕刻(亦稱之為光化學(xué)蝕刻或PCH)領(lǐng)域中,研究工作已經(jīng)開始,并達(dá)到了蝕刻機(jī)結(jié)構(gòu)設(shè)計的階段。在這種方法中,所使用的溶液為二價銅,不是氨-銅
2018-04-05 19:27:39

你都了解哪些Zigbee術(shù)語

你都了解哪些Zigbee術(shù)語?
2021-05-20 07:12:05

印制電路制作過程的蝕刻

過程中的一些參數(shù),改變噴淋的一些操作方式等進(jìn)行相關(guān)研究工作。本文將從流體力學(xué)的角度,建立模型來分析流體在銅導(dǎo)線之間凹槽底部各個位置的相對蝕刻速度,從本質(zhì)上研究蝕刻液流體的蝕刻過程的機(jī)理?! ?. 模型建立
2018-09-10 15:56:56

印制電路板蝕刻過程中的問題

首家P|CB樣板打板通常用于表示側(cè)蝕的術(shù)語蝕刻系數(shù),定義為蝕刻深度(銅箔的厚度)與側(cè)蝕凹度的比率,即蝕刻系數(shù)=α/b式中,a為銅錨的厚度; b為側(cè)蝕凹度。要使細(xì)紋蝕刻的側(cè)蝕達(dá)到最小,最好采用1
2013-09-11 10:58:51

印制電路板的蝕刻方法

  印制電路板的蝕刻可采用以下方法:  1 )浸入蝕刻;  2) 滋泡蝕刻;  3) 潑濺蝕刻;  4) 噴灑蝕刻。  由于噴灑蝕刻的產(chǎn)量和細(xì)紋分辨率高,因此它是應(yīng)用最為廣泛的一項技術(shù)?! ? 浸入
2018-09-11 15:27:47

在PCB外層電路中什么是蝕刻工藝?

儲液槽的做法,但這樣做必須加一套PH計控制系統(tǒng),當(dāng)自動監(jiān)測的PH結(jié)果低于默認(rèn)值時﹐便會自動進(jìn)行溶液添加。 在相關(guān)的化學(xué)蝕刻(亦稱之為光化學(xué)蝕刻或PCH)領(lǐng)域中﹐研究工作已經(jīng)開始﹐并達(dá)至蝕刻機(jī)結(jié)構(gòu)設(shè)計
2017-06-23 16:01:38

常用的LDO相關(guān)術(shù)語

低壓差穩(wěn)壓器(LDO)看似簡單,但可提供重要功能,例如將負(fù)載與不干凈的電源隔離開來或者構(gòu)建低噪聲電源來為敏感電路供電。本簡短教程介紹了一些常用的LDO 相關(guān)術(shù)語,以及一些基本概念,如壓差、裕量電壓
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  晶片邊緣的蝕刻機(jī)臺,特別是能有效地蝕刻去除晶片邊緣劍山的一種蝕刻機(jī),在動態(tài)隨機(jī)存取存儲單元(dynamic random access memory,DRAM)的制造過程中,為了提高產(chǎn)率,便采用
2018-03-16 11:53:10

求推薦led芯片通過光蝕刻形成通孔和采用剝離工藝形成具有布線圖案的電極的相關(guān)書籍

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有些歐洲的汽車公司,喜歡用的汽車電力系統(tǒng)術(shù)語KLR汽車電源的ACC模式KL50 汽車在Crank模式KL15 汽車在Run模式KL30 接常電(蓄電池的正)KL31 接常負(fù)(蓄電池的負(fù))...
2021-12-31 06:45:13

蝕刻

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2021-01-08 10:15:01

濕法蝕刻問題

我司是做濕法蝕刻藥水的,所以在濕法這塊有很多年的研究。所以有遇到濕法蝕刻問題歡迎提問,很愿意為大家解答。謝謝!QQ:278116740
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詳談PCB的蝕刻工藝

的PH結(jié)果低于給定值時,溶液便會自動進(jìn)行添加。  在與此相關(guān)的化學(xué)蝕刻(亦稱之為光化學(xué)蝕刻或PCH)領(lǐng)域中,研究工作已經(jīng)開始,并達(dá)到了蝕刻機(jī)結(jié)構(gòu)設(shè)計的階段。在這種方法中,所使用的溶液為二價銅,不是氨-銅
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美國伊利諾大學(xué)(University of Illinois)實驗室開發(fā)出一種以金屬為蝕刻催化劑的砷化鎵晶圓蝕刻
2012-01-07 11:47:281391

蝕刻機(jī)配件有哪些_蝕刻機(jī)配件清單

本文首先介紹了蝕刻機(jī)的分類及用途,其次闡述了蝕刻機(jī)的配件清單,最后介紹了蝕刻機(jī)的技術(shù)參數(shù)及應(yīng)用。
2018-04-10 14:38:324723

PCB蝕刻過程中應(yīng)該注意的問題

蝕刻液的種類:不同的蝕刻液化學(xué)組分不同,其蝕刻速率就不同,蝕刻系數(shù)也不同。例如:酸性氯化銅蝕刻液的蝕刻系數(shù)通常為3,堿性氯化銅蝕刻液的蝕刻系數(shù)可達(dá)到4。近來的研究表明,以硝酸為基礎(chǔ)的蝕刻系統(tǒng)可以做到幾乎沒有側(cè)蝕,達(dá)到蝕刻的線條側(cè)壁接近垂直。這種蝕刻系統(tǒng)正有待于開發(fā)。
2018-10-12 11:27:366335

基于Eclipse的IDE相關(guān)術(shù)語和概念介紹

本模塊介紹與使用基于Eclipse的IDE相關(guān)術(shù)語和概念。涉及的主題包括透視圖和視圖的基本知識、查找?guī)椭姆椒?,以及IDE操作速覽。
2019-06-10 06:05:002652

蝕刻的原理

通常所指蝕刻也稱腐蝕或光化學(xué)蝕刻(photochemicaletching),指通過曝光制版、顯影后,將要蝕刻區(qū)域的保護(hù)膜去除,在蝕刻時接觸化學(xué)溶液,達(dá)到溶解腐蝕的作用,形成凹凸或者鏤空成型的效果。
2019-04-25 15:41:3614173

蝕刻機(jī)的工作原理及應(yīng)用范圍

蝕刻指通過曝光制版、顯影后,將要蝕刻區(qū)域的保護(hù)摸去處,在蝕刻時接觸化學(xué)溶液,達(dá)到溶解腐蝕的作用,形成凹凸或者鏤空成型的效果。最早可用來制造銅版、鋅版等印刷凹凸版。蝕刻機(jī)可以分為化學(xué)蝕刻機(jī)及電解蝕刻機(jī)兩類。
2019-06-26 16:02:4820205

PCB加工之蝕刻會遇到什么問題

側(cè)蝕問題是蝕刻參數(shù)中經(jīng)常被提出來討論的一項,它被定義為側(cè)蝕寬度與蝕刻深度之比, 稱為蝕刻因子。
2019-09-02 10:17:391755

蝕刻簡介

PCB,電路板,基板上面如何出現(xiàn)電路呢?這就要蝕刻來實現(xiàn)。所謂蝕刻,先在板子外層需保留的銅箔部分,也就是電路的圖形部分,在上面預(yù)鍍一層鉛錫抗蝕層,然后用化學(xué)方式將其余的銅箔腐蝕掉。銅有兩層,一層需要
2020-03-08 14:45:214248

pcb蝕刻機(jī)的基礎(chǔ)原理

一、蝕刻的目的 蝕刻的目的即是將前工序所做出有圖形的線路板上的未受保護(hù)的非導(dǎo)體部分銅蝕刻去,形成線路。 蝕刻有內(nèi)層蝕刻和外層蝕刻,內(nèi)層采用酸性蝕刻,濕膜或干膜為抗蝕劑;外層采用堿性蝕刻
2020-12-11 11:40:587458

淺談pcb蝕刻制程及蝕刻因子

1、 PCB蝕刻介紹 蝕刻是使用化學(xué)反應(yīng)而移除多余材料的技術(shù)。PCB線路板生產(chǎn)加工對蝕刻質(zhì)量的基本要求就是能夠?qū)⒊刮g層下面以外的所有銅層完全去除干凈,僅此而已。在PCB制造過程中,如果要精確地
2021-04-12 13:48:0031008

PCB蝕刻機(jī)的原理及其工藝流程的介紹

蝕刻機(jī)的基礎(chǔ)原理一、蝕刻的目的蝕刻的目的即是將前工序所做出有圖形的線路板上的未受保護(hù)的非導(dǎo)體部分銅蝕刻去,形成線路。蝕刻有內(nèi)層蝕刻和外層蝕刻,內(nèi)層采用酸性蝕刻,濕膜或干膜為抗蝕劑;外層采用堿性蝕刻,錫鉛為抗蝕劑
2020-12-24 12:59:384836

物聯(lián)網(wǎng)相關(guān)術(shù)語介紹

隨著萬物互聯(lián)的概念提出,物聯(lián)網(wǎng)越來越被大眾所悉知,與其相關(guān)的專業(yè)術(shù)語也越來越多。所以,繼第一期后,在這里整理又了一些物聯(lián)網(wǎng)相關(guān)的專業(yè)術(shù)語,幫助大家更好的認(rèn)識物聯(lián)網(wǎng)。
2021-05-07 16:38:551199

物聯(lián)網(wǎng)相關(guān)專業(yè)術(shù)語解讀

隨著萬物互聯(lián)的概念提出,物聯(lián)網(wǎng)越來越被大眾所悉知,與其相關(guān)的專業(yè)術(shù)語也越來越多。今天在這里又整理了一些物聯(lián)網(wǎng)相關(guān)的專業(yè)術(shù)語,幫助大家更好的認(rèn)識物聯(lián)網(wǎng)。
2021-06-20 09:16:421449

晶圓濕式用于硅蝕刻浴晶圓蝕刻

引言 了解形成MEMS制造所需的三維結(jié)構(gòu),需要SILICON的各向異性蝕刻,此時使用的濕式蝕刻工藝考慮的事項包括蝕刻率、長寬比、成本、環(huán)境污染等[1]。用于硅各向異性濕式蝕刻 溶液有KOH
2021-12-23 09:55:35484

關(guān)于濕法蝕刻工藝對銅及其合金蝕刻劑的評述

濕法蝕刻工藝已經(jīng)廣泛用于生產(chǎn)各種應(yīng)用的微元件。這些過程簡單易操作。選擇合適的化學(xué)溶液(即蝕刻劑)是濕法蝕刻工藝中最重要的因素。它影響蝕刻速率和表面光潔度。銅及其合金是各種工業(yè),特別是電子工業(yè)的重要
2022-01-20 16:02:241860

通過紫外線輔助光蝕刻技術(shù)實現(xiàn)的濕式蝕刻

我們?nèi)A林科納使用K2S2O8作為氧化劑來表征基于KOH的紫外(UV)光輔助濕法蝕刻技術(shù)。該解決方案提供了良好控制的蝕刻速率,并產(chǎn)生了光滑的高質(zhì)量蝕刻表面,同時通過原子力顯微鏡測量的表面粗糙度降低最小
2022-02-14 16:14:55716

硅堿性蝕刻中的絕對蝕刻速率

在 KOH 水溶液中進(jìn)行濕法化學(xué)蝕刻期間,硅 (1 1 1) 的絕對蝕刻速率已通過光學(xué)干涉測量法使用掩膜樣品進(jìn)行了研究。蝕刻速率恒定為0.62 ± 0.07 μm/h 且與 60
2022-03-04 15:07:09845

晶圓濕式用于硅蝕刻浴晶圓蝕刻

了解形成MEMS制造所需的三維結(jié)構(gòu),需要SILICON的各向異性蝕刻,此時使用的濕式蝕刻工藝考慮的事項包括蝕刻率、長寬比、成本、環(huán)境污染等[1]。用于硅各向異性濕式蝕刻。
2022-03-11 13:57:43336

單晶硅片堿性溶液中的蝕刻速率

本文研究了用金剛石線鋸切和標(biāo)準(zhǔn)漿料鋸切制成的180微米厚5英寸半寬直拉單晶硅片與蝕刻時間的關(guān)系,目的是確定FAS晶片損傷蝕刻期間蝕刻速率降低的根本原因,無論是與表面結(jié)構(gòu)相關(guān),缺陷相關(guān),由于表面存在的氧化層,還是由于有機(jī)殘差。
2022-03-16 13:08:09619

微細(xì)加工濕法蝕刻中不同蝕刻方法

微加工過程中有很多加工步驟。蝕刻是微制造過程中的一個重要步驟。術(shù)語蝕刻指的是在制造時從晶片表面去除層。這是一個非常重要的過程,每個晶片都要經(jīng)歷許多蝕刻過程。用于保護(hù)晶片免受蝕刻劑影響的材料被稱為掩模
2022-03-16 16:31:581134

通過光敏抗蝕劑的濕蝕刻劑滲透

的各向同性濕法蝕刻條件相比,由于非常高的各向異性,反應(yīng)離子蝕刻工藝能夠?qū)崿F(xiàn)更好的蝕刻尺寸控制。盡管如此,當(dāng)使用敏感材料(即柵極氧化物[1])或當(dāng)尺寸放寬時,使用光敏抗蝕劑的濕法圖案化仍然是參考工藝。本文研究了整個濕法腐蝕過程中抗蝕劑保護(hù)的完整性。給出了確保這種保護(hù)的一些提示,以及評估這種保護(hù)的相關(guān)新方法。
2022-04-06 13:29:19666

單晶硅片與蝕刻時間的關(guān)系研究

本文研究了用金剛石線鋸切和標(biāo)準(zhǔn)漿料鋸切制成的180微米厚5英寸半寬直拉單晶硅片與蝕刻時間的關(guān)系,目的是確定FAS晶片損傷蝕刻期間蝕刻速率降低的根本原因,無論是與表面結(jié)構(gòu)相關(guān),缺陷相關(guān),由于表面存在的氧化層,還是由于有機(jī)殘差。
2022-04-18 16:36:05406

詳解微加工過程中的蝕刻技術(shù)

微加工過程中有很多加工步驟。蝕刻是微制造過程中的一個重要步驟。術(shù)語蝕刻指的是在制造時從晶片表面去除層。這是一個非常重要的過程,每個晶片都要經(jīng)歷許多蝕刻過程。用于保護(hù)晶片免受蝕刻劑影響的材料被稱為掩模
2022-04-20 16:11:571972

通過光敏抗蝕劑的濕蝕刻劑滲透研究

的各向同性濕法蝕刻條件相比,由于非常高的各向異性,反應(yīng)離子蝕刻工藝能夠?qū)崿F(xiàn)更好的蝕刻尺寸控制。盡管如此,當(dāng)使用敏感材料(即柵極氧化物[1])或當(dāng)尺寸放寬時,使用光敏抗蝕劑的濕法圖案化仍然是參考工藝。本文研究了整個濕法腐蝕過程中抗蝕劑保護(hù)的完整性。給出了確保這種保護(hù)的一些提示,以及評估這種保護(hù)的相關(guān)新方法。
2022-04-22 14:04:19591

M111N蝕刻速率,在堿性溶液中蝕刻

被認(rèn)為是一個速度源,這是我們提出的一個數(shù)學(xué)概念,也適用于位錯和晶界,速度源的活動取決于相關(guān)的M111N平面與掩模之間的夾角,因此在微觀機(jī)械結(jié)構(gòu)中蝕刻的薄壁相對的M111N側(cè)可以有不同的值。 在圖1a中,示出了S 100T單晶硅爐和部分覆蓋它的惰性掩
2022-05-20 17:12:59853

蝕刻速率的影響因素及解決方法

通常在蝕刻過程之后通過將總厚度變化除以蝕刻時間或者通過對不同的蝕刻時間進(jìn)行幾次厚度測量并使用斜率的“最佳擬合”來測量,當(dāng)懷疑蝕刻速率可能不隨時間呈線性或蝕刻開始可能有延遲時,這樣做有時可以實時測量蝕刻速率。
2022-05-27 15:12:133471

金屬蝕刻殘留物對蝕刻均勻性的影響

引言 我們?nèi)A林科納討論了一種高速率各向異性蝕刻工藝,適用于等離子體一次蝕刻一個晶片。結(jié)果表明,蝕刻速率主要取決于Cl濃度,而與用于驅(qū)動放電的rf功率無關(guān)。幾種添加劑用于控制蝕刻過程。加入BCl以開始
2022-06-13 14:33:14904

蝕刻工藝 蝕刻過程分類的課堂素材4(上)

蝕刻工藝 蝕刻過程分類
2022-08-08 16:35:34736

酸性氯化銅蝕刻液和堿性氯化銅蝕刻

這兩種蝕刻液被廣為使用的原因之一是其再生能力很強(qiáng)。通過再生反應(yīng),可以提高蝕刻銅的能力,同時,還能保持恒定的蝕刻速度。在批量PCB生產(chǎn)中,既要保持穩(wěn)定的蝕刻速度,還要確保這一速度能實現(xiàn)最大產(chǎn)出率,這一點至關(guān)重要。蝕刻速度對生產(chǎn)速率會產(chǎn)生很大的影響,所以在對比蝕刻液的性能時,蝕刻速度是主要考量因素。
2022-08-17 15:11:198547

磷酸的腐蝕特性及緩蝕劑 氮化硅濕法蝕刻中熱磷酸的蝕刻

實驗分析了各個因素對蝕刻率的具體影響。 根據(jù)目前廣泛應(yīng)用于生產(chǎn)中的技術(shù), 介紹了如何對相關(guān)因素進(jìn)行控制調(diào)節(jié), 為得到穩(wěn)定的熱磷酸蝕刻率提供了方向。
2022-08-30 16:41:592997

什么是等離子蝕刻 等離子蝕刻應(yīng)用用途介紹

反應(yīng)性離子蝕刻綜合了離子蝕刻和等離子蝕刻的效果:其具有一定的各向異性,而且未與自由基發(fā)生化學(xué)反應(yīng)的材料會被蝕刻。首先,蝕刻速率顯著增加。通過離子轟擊,基材分子會進(jìn)入激發(fā)態(tài),從而更加易于發(fā)生反應(yīng)。
2022-09-19 15:17:553387

搖擺蝕刻機(jī)

PTFE管用途:可用于蝕刻搖擺機(jī)的搖擺架,PTFE也稱:可溶性聚四氟乙烯、特氟龍、Teflon 蝕刻機(jī)的簡單介紹: 1、采用傳動裝置,霧化噴淋,結(jié)構(gòu)合理;加工尺寸長度不限制,速度快、精度高
2022-12-19 17:05:50407

簡要說明濕法蝕刻和干法蝕刻每種蝕刻技術(shù)的特點和區(qū)別

蝕刻不是像沉積或鍵合那樣的“加”過程,而是“減”過程。另外,根據(jù)刮削方式的不同,分為兩大類,分別稱為“濕法蝕刻”和“干法蝕刻”。簡單來說,前者是熔法,后者是挖法。
2023-01-29 09:39:003850

什么是金屬蝕刻蝕刻工藝?

金屬蝕刻是一種通過化學(xué)反應(yīng)或物理沖擊去除金屬材料的技術(shù)。金屬蝕刻技術(shù)可分為濕蝕刻和干蝕刻。金屬蝕刻由一系列化學(xué)過程組成。不同的蝕刻劑對不同的金屬材料具有不同的腐蝕特性和強(qiáng)度。
2023-03-20 12:23:433172

干法蝕刻與濕法蝕刻-差異和應(yīng)用

干法蝕刻與濕法蝕刻之間的爭論是微電子制造商在項目開始時必須解決的首要問題之一。必須考慮許多因素來決定應(yīng)在晶圓上使用哪種類型的蝕刻劑來制作電子芯片,是液體(濕法蝕刻)還是氣體(干法蝕刻
2023-04-12 14:54:331004

示波器相關(guān)術(shù)語介紹(上)

寫在開頭學(xué)習(xí)一樣新事物總會帶來很多新的專業(yè)名詞。在學(xué)習(xí)新事物之前先大致了解一下相關(guān)的專業(yè)術(shù)語,可以幫助我們在學(xué)習(xí)的過程中事半功倍,不至于在游覽一些相關(guān)文章的時候看地一頭霧水。學(xué)習(xí)示波器也一樣。下面
2021-11-03 16:00:151318

示波器相關(guān)術(shù)語介紹(下)

示波器性能相關(guān)術(shù)語接下去要講的一些術(shù)語,可能會當(dāng)你和朋友們討論示波器性能的時候用到,理解這些術(shù)語可以幫助你評估和比較不同型號示波器的性能。帶寬:帶寬是示波器的首要指標(biāo),這個指標(biāo)可以告訴我們示波器
2021-11-03 16:01:161677

蝕刻技術(shù)蝕刻工藝及蝕刻產(chǎn)品簡介

關(guān)鍵詞:氫能源技術(shù)材料,耐高溫耐酸堿耐濕膠帶,高分子材料,高端膠粘劑引言:蝕刻(etching)是將材料使用化學(xué)反應(yīng)或物理撞擊作用而移除的技術(shù)。蝕刻技術(shù)可以分為濕蝕刻(wetetching)和干蝕刻
2023-03-16 10:30:163504

關(guān)于氮化鎵的干蝕刻綜述

GaN及相關(guān)合金可用于制造藍(lán)色/綠色/紫外線發(fā)射器以及高溫、高功率電子器件。由于 III 族氮化物的濕法化學(xué)蝕刻結(jié)果有限,因此人們投入了大量精力來開發(fā)干法蝕刻工藝。干法蝕刻開發(fā)一開始集中于臺面結(jié)構(gòu),其中需要高蝕刻速率、各向異性輪廓、光滑側(cè)壁和不同材料的同等蝕刻
2023-10-07 15:43:56319

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